本发明专利技术涉及一种气体均匀布气装置，可用于太阳电池抗PID用臭氧的布气，包括外框架，所述布气装置设置有微孔材料层，微孔材料层与外框架围成布气空间，臭氧等气体从进气孔进入布气空间后，经过多次均匀流通，最后到达最外层的微孔材料层、排出布气装置，起到了均匀布气的效果，从而保证了硅片氧化效果和均匀性。本发明专利技术可以对臭氧等气体均匀布气，从根本上解决臭氧布气和硅片氧化不均匀的问题。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种气体均匀布气装置，可用于太阳电池抗PID用臭氧的布气。
技术介绍
所谓的PID现象，是指太阳电池组件长期在高电压作用下使得玻璃、封装材料之 间产生漏电流，大量电荷聚集在电池片表面，使得电池片表面的钝化效果恶化，导致FF、 Isc、V〇C降低，使组件性能低于设计标准。作为解决PID现象的有效方法之一，是利用臭氧 对硅片表面进行氧化，在硅片表面形成一层Si02薄膜，利用Si02薄膜来增加电池阻挡钠离 子的渗透。 现有技术是将臭氧气体通过塑料打孔的多孔板进行布气，这种塑料多孔板的布气 孔是间隔排列，从布气孔排出的臭氧气体不能均匀连续分布到硅片表面，况且在实际生产 中，娃片是并排5列或8列行进的，这种布气板也很难做到对应每一列娃片的布气均勾一 致，从而会导致硅片氧化效果不一致。 为此，申请人专利技术了一种气体均匀布气装置，可以对臭氧等气体均匀布气，从根本 上解决臭氧布气和硅片氧化不均匀的问题。
技术实现思路
根据以上现有技术的不足，本专利技术所要解决的技术问题是：提供一种气体均匀布 气装置，可以对臭氧等气体均匀布气，从根本上解决臭氧布气和硅片氧化不均匀的问题。 本专利技术所述的一种气体均匀布气装置，包括外框架，所述布气装置设置有微孔材 料层，微孔材料层与外框架围成布气空间。 优选的是，布气空间内设有至少一层匀气层，相邻匀气层之间以及匀气层与微孔 材料层之间均设有通过垂直隔离层分隔的若干水平通道。 优选的是，匀气层材质为具有微孔的材料，匀气层上可设有若干上下连通的垂直 通道，也可不设垂直通道。 优选的是，匀气层材质为不具有微孔的材料，匀气层上设有若干上下连通的垂直 通道。 优选的是，垂直通道交替设置在匀气层上，匀气层下方的每一水平通道至少与匀 气层上的一条垂直通道相对应。 优选的是，微孔材料层的材质是微孔陶瓷或微孔塑料。 优选的是，匀气层的材质是微孔陶瓷或微孔塑料。 优选的是，微孔材料层的微孔直径是1~100 ym。 优选的是，水平通道的宽度或高度或直径是0. 5~10mm，垂直通道的宽度或直径 是 0? 5 ~5mm〇 与现有技术相比，本专利技术具有的有益效果是： 本专利技术提供的气体均匀布气装置，使用的是气孔连续分布的微孔板状材料，通过 设置匀气层，整体形成层状复合结构，臭氧等气体从进气口进入布气装置后，依次经过垂直 通道和水平通道，最后到达最外层的微孔材料层，经过多次均匀流通后，臭氧等气体从最外 层的微孔材料层排出布气装置，起到了均匀布气的效果。【附图说明】 图1是本专利技术主视图； 图2是图1中A-A处剖视图； 图3是图1中B-B处剖视图。 图中：1、微孔材料层；2、水平通道；3、匀气层；4、垂直通道；5、外框架；6、进气孔； 7、垂直隔离层。【具体实施方式】 下面结合附图对本专利技术的实施例做进一步描述。 如图1~3所示，本气体均匀布气装置，包括外框架5、微孔材料层1、水平通道2、 垂直通道4,布气装置设置有微孔材料层1，微孔材料层1与外框架5围成布气空间，微孔材 料层1为气体最后通过的层面，在外框架5上设置有进气孔6与布气空间相通。 布气空间内设有至少一层匀气层3,匀气层3与微孔材料层1之间设有若干垂直 隔离层7,垂直隔离层7分隔出若干水平通道2 ;必要时也可设置两层及以上匀气层3,当设 置两层以上时，相邻匀气层3以及匀气层3与微孔材料层1之间均设有若干垂直隔离层7。 本实施例设置一层匀气层3,匀气层3与微孔材料层1之间的若干垂直隔离层7分隔出若干 水平通道2。匀气层3、微孔材料层1均可采用材质为具有微孔的微孔板状材料，微孔板状材料 使用孔径1~100 y m的微孔陶瓷，优选10~50 y m，与微孔塑料相比，可以有效防止臭氧长 期氧化带来的材料老化问题，匀气层3采用微孔材料时，可以设置垂直通道4、也可不设置 垂直通道4,外框架5采用抗臭氧的PP材料。 匀气层3材质也可采用不具有微孔的材料，此时，匀气层3上设有若干上下连通的 垂直通道4,垂直通道4交替设置在匀气层3上，匀气层3下方的每一水平通道2至少与匀 气层3上的一条垂直通道4相对应。水平通道2的宽度或高度或直径是0. 5~10mm，垂直 通道4的宽度或直径是0. 5~5mm。 工作原理及过程： 臭氧等气体从进气孔6进入布气空间后，经过匀气层3的垂直通道4进入水平通 道2,然后迅速沿水平通道2扩展匀化，经过多次均匀流通后，最后到达最外层的微孔材料 层1，臭氧等气体从最外层的微孔材料层1排出布气装置，起到了均匀布气的效果，从而保 证了硅片氧化效果和均匀性。 使用本专利技术气体均匀布气装置和塑料打孔布气装置的效果对比，见表1。由表1可 见，本专利技术的气体均匀布气装置明显优于塑料打孔布气装置。 表1 PID项目测试结果对比【主权项】1. 一种气体均匀布气装置，包括外框架（5)，其特征在于：所述布气装置设置有微孔材 料层（1)，微孔材料层（1)与外框架（5)围成布气空间。2. 根据权利要求1所述的气体均匀布气装置，其特征在于：所述的布气空间内设有至 少一层匀气层（3)，相邻匀气层（3)之间以及匀气层（3)与微孔材料层（1)之间均设有通过 垂直隔离层（7)分隔的若干水平通道（2)。3. 根据权利要求2所述的气体均匀布气装置，其特征在于：所述的匀气层（3)材质为 具有微孔的材料。4. 根据权利要求2所述的气体均匀布气装置，其特征在于：所述的匀气层（3)材质为 不具有微孔的材料，匀气层（3)上设有若干上下连通的垂直通道（4)。5. 根据权利要求3所述的气体均匀布气装置，其特征在于：所述的匀气层（3)上设有 若干上下连通的垂直通道（4)。6. 根据权利要求4或5所述的气体均匀布气装置，其特征在于：所述的垂直通道（4)交 替设置在匀气层（3)上，匀气层（3)下方的每一水平通道（2)至少与匀气层（3)上的一条 垂直通道（4)相对应。7. 根据权利要求1所述的气体均匀布气装置，其特征在于：所述的微孔材料层（1)的 材质是微孔陶瓷或微孔塑料。8. 根据权利要求3所述的气体均匀布气装置，其特征在于：所述的匀气层（3)的材质 是微孔陶瓷或微孔塑料。9. 根据权利要求1~5任一项、7或8所述的气体均匀布气装置，其特征在于：所述的 微孔材料层（1)的微孔直径是1~100 μ m。10. 根据权利要求4或5所述的气体均匀布气装置，其特征在于：所述的水平通道（2) 的宽度或高度或直径是〇. 5~10mm，垂直通道（4)的宽度或直径是0. 5~5mm。【专利摘要】本专利技术涉及一种气体均匀布气装置，可用于太阳电池抗PID用臭氧的布气，包括外框架，所述布气装置设置有微孔材料层，微孔材料层与外框架围成布气空间，臭氧等气体从进气孔进入布气空间后，经过多次均匀流通，最后到达最外层的微孔材料层、排出布气装置，起到了均匀布气的效果，从而保证了硅片氧化效果和均匀性。本专利技术可以对臭氧等气体均匀布气，从根本上解决臭氧布气和硅片氧化不均匀的问题。【IPC分类】H01L31-18【公开号】CN104835876【申请号】CN201510204533【专利技术人】袁向东, 许颖, 袁瑒 【申请人】北京金晟阳光科技有限公司, 袁向东【公开日】2015年8月12日【申请日】2015年4月27日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种气体均匀布气装置，包括外框架(5)，其特征在于：所述布气装置设置有微孔材料层(1)，微孔材料层(1)与外框架(5)围成布气空间。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：袁向东，许颖，袁瑒，
申请(专利权)人：北京金晟阳光科技有限公司，袁向东，
类型：发明
国别省市：北京;11
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