用于提高玻璃表面强度的抛光液及抛光方法技术

技术编号:11867240 阅读:240 留言:0更新日期:2015-08-12 16:10
本发明专利技术公布了用于提高玻璃表面强度的抛光液及抛光方法,将玻璃浸泡于抛光液中进行化学抛光,该抛光液以质量百分比表示,包括以下组分:HF:1%~20%,H2SO4:1%~30%,HNO3:0%~15%,HCL:0%~20%,H3PO4:0%~8%,纯水:40%~90%;或者将抛光液均匀地喷淋在玻璃表面,进行化学抛光,该抛光液以质量百分比表示,包括以下组分:HF:1%~20%,H2SO4:1%~25%,HNO3:0%~10%,HCL:0%~25%,H3PO4:0%~10%,纯水:40%~90%。本发明专利技术玻璃可获得6000MPa以上的环对环(ROR)抗压力值的玻璃表面强度,使用落球冲击试验机进行定位高度50CM的玻璃中心点冲击3次测试,该玻璃发生破裂的概率为10%以下。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术设及电子平板玻璃制造加工
,具体是指一种用于提高玻璃表面强 度的抛光液及抛光方法。
技术介绍
进入触控智能时代W来,用于手机、平板、触控笔记本等移动终端人机交互设备的 显示器件保护玻璃需求日益增加。随着人们对触控技术的依赖,屏幕是否容易破碎也逐步 成为衡量电子产品优劣性的重要指标。采用普通钢巧玻璃作为显示屏幕保护玻璃,由于其 表面强度不高,长期使用容易产生划伤、裂纹,出现显示模糊,屏幕碎裂等问题。高侣强化盖 板玻璃由于其高透光性、强防刮性等特性,逐渐成为盖板保护玻璃的主流。目前,用于智能手机、平板电脑等触控终端设备屏幕的保护盖板玻璃,其主流为侣 娃酸盐玻璃。侣娃酸盐玻璃在化学强化后具有较好的透过性、抗弯强度,抗压强度,耐磨W 及抗损伤的性能。但随着智能手机、平板电脑等的发展趋势向轻、薄、大逐步过渡,对侣娃酸 盐盖板玻璃的表面强度性能要求也更为苛刻。 强度是指材料抵抗破坏或失效的能力。从力学角度分析,强度是指材料在一定载 荷作用下发生破坏时的最大应力值。玻璃本身是一种脆性材料,对于脆性材料,断裂强度最 能反映它的力学性能。断裂必须克服固体的内聚力,原子键必须断开,材料的理论强度恰恰 是原子键能的一种反映。根据化学键的键强计算,玻璃的理论强化大于lOOOOMpa。但测试 结果表明,玻璃的实际强度只有30~80Mpa,比理论强度低2~3个数量级。影响玻璃实际 强度的因素很多;如存放的环境(温度、湿度、气氛、存储时间等)、表面机械加工、机械划伤 W及内部的不均匀性(气泡、结石)等,其中表面微裂纹的存在对玻璃实际强度影响最大。 目前的消除玻璃表面微裂纹的方法是利用机械抛光,即利用抛光盘和氧化锦进行 抛光,该方法存在一定的问题;物理抛光的厚度不均匀,导致局部存在未抛光的可能性,漏 抛会导致产生局部压强较低的物理缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种,对玻璃 进行抛光,达到提高表面强度、玻璃表面强度均匀的目的。 本专利技术的目的通过下述技术方案实现:[000引用于提高玻璃表面强度的抛光液,W质量百分比表示,包括W下组分;HF;1%~20%,&504;1%~30%,歴03;0%~15%,肥1:0%~20%,113口04;0%~8%,纯水;40%~ 95%。 用于提高玻璃表面强度的抛光液,W质量百分比表示,包括W下组分;HF;1%~ 20%,&8〇4;1%~25%,HN03;0%~10%,HCL:0%~25%,H3P04;0%~10%,纯水;40%~ 95%。 申请人在多年的玻璃研究中发现,目前的物理抛光方法中存在局部抛光缺陷,玻 璃表面微裂纹可w分为w下几种:本征微裂纹、深度在几个纳米到几十个纳米之间;结构 微裂纹,深度在几十个纳米到几百个纳米之间;制造微裂纹,深度在几个微米之间,其中最 重要的是表面微裂纹,人们认为表面微裂纹是由于玻璃结构缺陷造成的,主要是玻璃网络 中的空位或者双空位,扩散带相交界面凝聚形成的空隙,由于应力的存在,是的空隙成为了 裂纹核,裂纹核扩散到表面,应力使裂纹核由微观的裂纹慢慢的生长成为表面微裂纹;目前 采用化学强化的方法对侣娃酸盐盖板玻璃进行化学离子交换强化,能借助交换离子间的体 积差产生挤压,表面生成压应力,最终提高玻璃强度,虽然应力层的存在能抑制微裂纹的 扩展,但离子交换产生应力层有限,所W容易因表面机械撞击W及破坏而失去增强的效果, 而且玻璃在热处理、搬运、使用过程中不可避免的会产生微裂纹;经过申请人的研究发现微 裂纹长度接近50微米,就可W完全抵消化学强化的所获得的强度,因此,必须消除强化玻 璃表面的微裂纹或者避免产生新的微裂纹,使得强化效果得W保存,从而提高玻璃的强度 和抗损伤能力;为了解决该个问题,申请人大胆地提出化学抛光的理论,通过千万次的研究 得出了进行化学抛光的配方,针对浸泡和喷淋两种化学抛光的工艺,两组分也有所区别,利 用上述的组分进行化学抛光,通过抛光液侵蚀去除玻璃表面断纹层或使裂纹尖端纯化,减 小应力的集中性,W恢复玻璃固有的高强特性,由于抛光处理是去除玻璃表面微裂纹,所W 必须选择强侵蚀能力的酸,如氨氣酸,但是单用氨氣酸不容易得到光滑的表面,侵蚀后产生 的盐类都附着在玻璃的表面,为了除去盐类,需要在氨氣酸中加入硫酸、磯酸、硝酸和盐酸; 本专利技术中HF在抛光过程中,主要与玻璃中的Si化、MgO、化2〇等反应,起到剥离玻璃表面微 裂纹的作用,随着HF的浓度增加,抛光速度加快,但当HF浓度过高时,抛光侵蚀过于剧烈, 玻璃的表面不断地受到破坏,开始出现不均匀的剥落和厚度损失过大现象,进而导致玻璃 强度降低,故HF的浓度W不超过20%为宜;本专利技术中H2SO4在抛光过程中,主要作用是溶 解HF剥蚀玻璃表面时形成的不溶性氣娃酸盐,避免其残渣粘附于玻璃表面,使处理后的玻 璃表面光滑,同时也使HF的剥蚀反应能够均匀进行,H2SO4的浓度应控制好,如果H2SO4的浓 度过低,不能与粘附于玻璃表面的不溶性盐类反应完全,易出现纵、横波纹,白点等缺陷,故 &5〇4的浓度^不超过30%为宜。 提高玻璃表面强度的抛光方法,将玻璃浸泡于抛光液中进行化学抛光,该抛光液 W质量百分比表示,包括W下组分;HF;1%~20%,&5〇4;1%~30%,HN03; 0%~15%, 肥L:0%~20%,&?〇4;〇%~8%,纯水;40%~95% ;或者将抛光液均匀地喷淋在玻璃 表面,进行化学抛光,该抛光液W质量百分比表示,包括W下组分;HF;1%~20%,H2SO4; 1%~25%,HN03;0%~10%,HCL:0%~25%,H3P04;0%~10%,纯水;40%~95%。 化学抛光的时间为;2min~25min。经过申请人的研究发现,抛光厚度与抛光时间 呈现线性关系,抛光的时间越长,蚀层的厚度增加,抛光时间达到8min,抛当前第1页1 2 本文档来自技高网
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【技术保护点】
用于提高玻璃表面强度的抛光液,其特征在于,以质量百分比表示,包括以下组分:HF:1%~20%,H2SO4:1%~30%,HNO3:0%~15%,HCL:0%~20%,H3PO4:0%~8%,纯水:40%~95%。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:宫汝华展贵鑫沈子涵胡正宜何根
申请(专利权)人:四川旭虹光电科技有限公司东旭集团有限公司
类型:发明
国别省市:四川;51

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