真空烧结炉的真空室安装结构制造技术

技术编号:11863993 阅读:79 留言:0更新日期:2015-08-12 13:26
本实用新型专利技术涉及一种真空烧结炉的真空室安装结构,包括真空室,所述真空室外部设置一个抽真空的外腔,所述真空室外表面设置保温层,所述外腔外表面水冷层,所述外腔顶端设置上盖,所述真空室和外腔内分别设置压力探测装置,压力探测装置连接控制系统,控制系统连接抽真空装置,真空室下方通过四套固定组件连接下腔,每套固定组件包括上固定块,下固定块,上固定块焊接在下腔顶部,中间开孔,配螺纹,下固定块通过螺栓与上固定块连接。采用这样的结构后,真空室可以在法兰面上进行旋转。安装方便简捷,减少了真空室在安装过程中的损坏率,提高了工作效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种磁性材料处理设备,用于磁性材料的真空烧结。
技术介绍
真空室位于上腔中心位置,外部套炉体,最外部是真空外腔。真空室底部有法兰,法兰上开孔,和下腔的法兰对接。两个法兰的法兰孔必须对接起来,用螺栓连接才能使得真空室和下腔连接成为一个整体。这种结构的安装顺序是先安装好真空外腔,再把炉体和真空室从顶部吊起放入真空腔当中,然后进行调整,使得炉体和真空室放置在合适的位置上。由于炉体和真空室都是易损件,需要经常更换。这种安装方式安装复杂,效率极低。
技术实现思路
本技术要解决的问题是提供一种简单有效的安装易损件真空室安装结构。本技术的真空烧结炉的真空室安装结构,包括真空室,所述真空室外部设置一个抽真空的外腔,所述真空室外表面设置保温层,所述外腔外表面水冷层,所述外腔顶端设置上盖,所述真空室和外腔内分别设置压力探测装置,压力探测装置连接控制系统,控制系统连接抽真空装置,真空室下方通过四套固定组件连接下腔,每套固定组件包括上固定块,下固定块,上固定块焊接在下腔顶部,中间开孔,配螺纹,下固定块通过螺栓与上固定块连接。采用这样的结构后,本技术的真空烧结炉采用一种简单有效的易损件安装方式。首先安装外腔,然后将炉体安装在外腔内部,真空室从下往上进行安装,用四个固定块固定。这种安装方式,真空室可以在法兰面上进行旋转。安装方便简捷,减少了真空室在安装过程中的损坏率,提高了工作效率。【附图说明】下面结合附图和【具体实施方式】对本技术作进一步详细的说明。图1是本技术真空烧结炉的结构示意图。图2是图1中沿A-A线的剖视图。图3是本技术真空烧结炉的安装示意图示意图。图4是图3中B部分的局部放大图。【具体实施方式】如图1至图4所示,本技术的真空烧结炉的真空室安装结构,包括真空室4,真空室4外部设置一个抽真空的外腔2,外腔2顶端设置上盖1,真空室4外表面设置保温层10,外腔2外表面水冷层11,真空室4和外腔2内分别设置压力探测装置12,压力探测装置12连接控制系统13,控制系统连接抽真空装置14.真空室4下方通过四套固定组件连接下腔5,每套组件包括上固定块6,下固定块7,上固定块6焊接在下腔5顶部,中间开孔,配螺纹,下固定块7通过一个M30X 150的螺栓9和两个M30的外六角螺母8与上固定块6连接。具体安装时,需要将下固定块和两个螺母8用螺栓固定,其中下固定块是用来固定真空室4的。工艺过程中,首先对外腔2进行抽真空,达到一定的真空度之后再对内腔真空室I抽真空,使得真空腔I内外压差很小,减小了高温时的变形量,延长了使用寿命,提高了温区的稳定性。【主权项】1.一种真空烧结炉的真空室安装结构,包括真空室,其特征在于:所述真空室外部设置一个抽真空的外腔,所述真空室外表面设置保温层,所述外腔外表面水冷层,所述外腔顶端设置上盖,所述真空室和外腔内分别设置压力探测装置,压力探测装置连接控制系统,控制系统连接抽真空装置,真空室下方通过四套固定组件连接下腔,每套固定组件包括上固定块,下固定块,上固定块焊接在下腔顶部,中间开孔,配螺纹,下固定块通过螺栓与上固定块连接。【专利摘要】本技术涉及一种真空烧结炉的真空室安装结构,包括真空室,所述真空室外部设置一个抽真空的外腔,所述真空室外表面设置保温层,所述外腔外表面水冷层,所述外腔顶端设置上盖,所述真空室和外腔内分别设置压力探测装置,压力探测装置连接控制系统,控制系统连接抽真空装置,真空室下方通过四套固定组件连接下腔,每套固定组件包括上固定块,下固定块,上固定块焊接在下腔顶部,中间开孔,配螺纹,下固定块通过螺栓与上固定块连接。采用这样的结构后,真空室可以在法兰面上进行旋转。安装方便简捷,减少了真空室在安装过程中的损坏率,提高了工作效率。【IPC分类】F27B5-06, F27B5-04【公开号】CN204555644【申请号】CN201520185060【专利技术人】刘洋, 姜洪斌, 李强 【申请人】青岛华旗科技有限公司【公开日】2015年8月12日【申请日】2015年3月30日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空烧结炉的真空室安装结构,包括真空室,其特征在于:所述真空室外部设置一个抽真空的外腔,所述真空室外表面设置保温层,所述外腔外表面水冷层,所述外腔顶端设置上盖,所述真空室和外腔内分别设置压力探测装置,压力探测装置连接控制系统,控制系统连接抽真空装置,真空室下方通过四套固定组件连接下腔,每套固定组件包括上固定块,下固定块,上固定块焊接在下腔顶部,中间开孔,配螺纹,下固定块通过螺栓与上固定块连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘洋姜洪斌李强
申请(专利权)人:青岛华旗科技有限公司
类型:新型
国别省市:山东;37

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