本发明专利技术提供对365nm波长的光的吸收大且具有良好的产酸率的化合物、使用其的光产酸剂、阳离子聚合引发剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合性组合物。一种磺酸衍生物化合物，其特征在于，其用下述通式(I)表示。(式(I)中，X表示碳数1～12的直链或支链烷基，R为碳数1～18的脂肪族烃基等。)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及新型磺酸衍生物化合物，详细而言涉及作为光产酸剂和阳离子聚合引 发剂有用的磺酸衍生物化合物。
技术介绍
具有辐射线官能团即萘二甲酰亚胺基的磺酰氧基酰亚胺是受到光等能量射线照 射而产生酸的物质，其用于半导体等的电子电路形成中使用的光刻法用抗蚀剂组合物中的 光产酸剂或光造型用树脂组合物、涂料、涂剂、粘接剂、墨等光聚合性组合物中的阳离子聚 合引发剂等。 专利文献1公开了由酸固化性树脂和通式（II)所示的潜在固化剂催化剂形成的 固化性组合物。其中公开了 ：通式（II)中，萘骨架的取代基即R1~R4为氢原子、碳数1~ 8的烷基、碳数1~4的烷氧基、碳数1~12的烧硫基、硝基或卤素原子。专利文献1中仅 公开了R1~R4为氢原子，但针对由它们的取代的种类、取代数量、取代的位置等导致性质、 性能的差异没有公开和启示。 专利文献2公开了包含通式（I)所示的磺酰氧基酰亚胺作为磺酸前体的、在紫外 线、电子射线、或X射线曝光装置下使用的光致抗蚀剂。专利文献2中，作为萘二甲酰亚胺 公开了萘二甲酰亚胺、3-硝基萘二甲酰亚胺、4-硝基萘二甲酰亚胺、4-氯萘二甲酰亚胺以 及4-溴萘二甲酰亚胺。 专利文献3公开了含有通式（A-1)所示的磺酸产生剂的活性光线固化型墨组合 物。通式（A-1)中，作为萘骨架的取代基即R\R2为烷基、烷氧基、羰基、苯硫基、卤素原子、 氰基、硝基、羟基。 专利文献4公开了光致抗蚀剂用底涂用组合物，作为光活性化合物，公开了具有 萘二甲酰亚胺基的氟化磺酰氧基酰亚胺，作为萘骨架的取代基公开了（&-(；)烷基或（Ci~ C8)烷氧基。但是，对于由取代的种类、取代的位置导致的性质、性能的差异没有公开和启 不〇 作为光致抗蚀剂中使用的光产酸剂或光造型用树脂组合物、粘接剂、墨等中使用 的阳离子聚合引发剂的光源，多使用￡-(超紫外光￡^1^111如1壮 &，1〇1^)、乂射线、匕、 ArF、KrF、I射线、H射线、G射线等远紫外线、电子射线、辐射线。在使用这些光源的情况下， 365nm波长的吸收大的物质占优势。另外，从对高精细图案化的对策、对工序的缩短化的对 策的观点来看，期望使光致抗蚀剂、阳离子聚合物体系中含有充分量的产酸剂、或使用产酸 率良好的产酸剂。因此，作为产酸剂，要求对有机溶剂的溶解性高的物质、具有充分的产酸 率的物质。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开昭57-151651号（权利要求1) 专利文献2 :日本特表平8-501890号（权利要求2) 专利文献3:日本特开2004-217748号（权利要求1)专利文献 4:日本特表 2009-516207 号（段落、)
技术实现思路
专利技术要解决的问题 因此本专利技术的目的在于提供对365nm波长的光的吸收大、具有良好的产酸率的化 合物、使用其的光产酸剂、阳离子聚合引发剂、抗蚀剂组合物和阳离子聚合性组合物。 用于解决问题的方案 本专利技术人等为了解决上述课题进行了深入研宄，结果发现，具有特定结构的磺酸 衍生物化合物可以解决上述问题，从而完成了本专利技术。即，对于本专利技术的磺酸衍生物化合物，其特征在于，其用下述通式（I)表示。【主权项】1. 一种磺酸衍生物化合物，其特征在于，其用下述通式（I)表示，式（I)中，X表示碳数1~14的直链或支链烷基，R表示碳数1~18的脂肪族烃基、 碳数6~20的芳基、碳数7~20的芳基烷基、被酰基取代的碳数7~20的芳基、碳数3~ 12的脂环式烃基、10-樟脑基或下述通式（II)所示的基团，该脂肪族烃基、芳基、芳基烷基、 脂环式烃基可以没有取代基，也可以被选自卤素原子、碳数1~4的卤代烷基、碳数1~18 的烷氧基以及碳数1~18的烧硫基中的基团取代；式（II)中，Y1表示单键或碳数1~4的烷二基，R1和R2各自独立地表示碳数2~6的 烷二基、碳数2~6的卤代烷二基、碳数6~20的亚芳基或碳数6~20的卤代亚芳基，R3 表示碳数1~18的直链或支链烷基、碳数1~18的卤代直链或支链烷基、碳数3~12的 脂环式烃基、碳数6~20的芳基、碳数6~20的卤代芳基、碳数7~20的芳基烷基或碳数 7~20的卤代芳基烷基，a、b表示0或I，a、b中的任一者为1。2. 根据权利要求1所述的化合物，其中，X为碳数4的烷基。3. 根据权利要求1所述的化合物，其中，R为碳数1~8的全氟烷基。4. 一种光产酸剂，其特征在于，其包含权利要求1~3的任一项所述的化合物。5. -种阳离子聚合引发剂，其特征在于，其包含权利要求1~3的任一项所述的化合 物。6. -种抗蚀剂组合物，其特征在于，其含有权利要求4所述的光产酸剂。7. -种阳离子聚合性组合物，其特征在于，其含有权利要求5所述的阳离子聚合引发 剂。【专利摘要】本专利技术提供对365nm波长的光的吸收大且具有良好的产酸率的化合物、使用其的光产酸剂、阳离子聚合引发剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合性组合物。一种磺酸衍生物化合物，其特征在于，其用下述通式(I)表示。(式(I)中，X表示碳数1～12的直链或支链烷基，R为碳数1～18的脂肪族烃基等。)。【IPC分类】C09K3-00, C07D221-14, G03F7-004【公开号】CN104822662【申请号】CN201380062293【专利技术人】柳澤智史, 藤田昌平, 南岛拓也, 滋野浩一 【申请人】株式会社Adeka【公开日】2015年8月5日【申请日】2013年11月27日【公告号】EP2927216A1, WO2014084269A1本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种磺酸衍生物化合物，其特征在于，其用下述通式(I)表示，式(I)中，X表示碳数1～14的直链或支链烷基，R表示碳数1～18的脂肪族烃基、碳数6～20的芳基、碳数7～20的芳基烷基、被酰基取代的碳数7～20的芳基、碳数3～12的脂环式烃基、10‑樟脑基或下述通式(II)所示的基团，该脂肪族烃基、芳基、芳基烷基、脂环式烃基可以没有取代基，也可以被选自卤素原子、碳数1～4的卤代烷基、碳数1～18的烷氧基以及碳数1～18的烷硫基中的基团取代；式(II)中，Y1表示单键或碳数1～4的烷二基，R1和R2各自独立地表示碳数2～6的烷二基、碳数2～6的卤代烷二基、碳数6～20的亚芳基或碳数6～20的卤代亚芳基，R3表示碳数1～18的直链或支链烷基、碳数1～18的卤代直链或支链烷基、碳数3～12的脂环式烃基、碳数6～20的芳基、碳数6～20的卤代芳基、碳数7～20的芳基烷基或碳数7～20的卤代芳基烷基，a、b表示0或1，a、b中的任一者为1。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：柳澤智史，藤田昌平，南岛拓也，滋野浩一，
申请(专利权)人：株式会社ADEKA，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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