用于制作液晶显示面板的方法及液晶显示面板技术

本发明专利技术公开了一种用于制作液晶显示面板的方法及液晶显示面板，该方法包括：在基底上涂敷一层金属材料形成金属材料层；在金属材料层上涂敷一层光阻材料；采用第一掩膜板对光阻材料进行第一次曝光处理；采用第二掩膜板对光阻材料进行第二次曝光处理；对经过两次曝光处理后的光阻材料进行显影处理以裸露出部分金属材料；对裸露的金属材料进行蚀刻处理以形成栅金属层。本发明专利技术可以避免液晶显示面板出现水平渐变线，改善液晶显示面板的显示效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，具体地说，涉及一种用于制作液晶显示面板的方法及液晶显示面板。
技术介绍
目前，为增加TFT-1XD(即液晶显示面板)的视角，大尺寸液晶显示装置基本都会采用低色偏设计，其中，将一个子像素分割为一个主像素和一个辅像素是经常采用的低色偏技术。在采用以上方法设计栅金属层时，为保证较高的开口率，主像素栅极与主像素公共电极、辅像素栅极与辅像素公共电极以及主像素栅极与辅像素栅极之间的距离设计的尽量小，一般可达到5-7um。由于主像素栅极、辅像素栅极和公共电极线之间的距离太小，在栅金属层曝光时容易发生栅极与公共电极之间、栅极之间的短路，造成模组水平渐变线飘高，影响产品良率。
技术实现思路
为解决以上问题，本专利技术提供了一种用于制作液晶显示面板的方法及液晶显示面板。根据本专利技术的一个方面，提供了一种用于制作液晶显示面板的方法，包括:在基底上涂敷一层金属材料形成金属材料层；在所述金属材料层上涂敷一层光阻材料；采用第一掩膜板对所述光阻材料进行第一次曝光处理；采用第二掩膜板对所述光阻材料进行第二次曝光处理；对经过两次曝光处理后的光阻材料进行显影处理以裸露出部分金属材料；对裸露的金属材料进行蚀刻处理以形成栅金属层。根据本专利技术的一个实施例，所述光阻材料为负性光阻材料。根据本专利技术的一个实施例，所述栅金属层包括主像素栅极、主像素公共电极、辅像素栅极和辅像素公共电极。根据本专利技术的一个实施例，通过所述第一掩膜板和所述第二掩膜板的透光区域形成主像素栅极图案、主像素公共电极图案、辅像素栅极图案和辅像素公共电极图案。根据本专利技术的一个实施例，所述主像素栅极位于所述辅像素栅极和所述主像素公共电极之间，所述辅像素栅极位于所述主像素栅极和所述辅像素公共电极之间。根据本专利技术的一个实施例，通过所述第一掩膜板产生的曝光图案包括所述主像素栅极图案和所述辅像素公共电极图案；通过所述第二掩膜板产生的曝光图案包括所述辅像素栅极图案和所述主像素公共电极图案。根据本专利技术的一个实施例，通过所述第一掩膜板产生的曝光图案包括所述辅像素栅极图案和所述主像素公共电极图案；通过所述第二掩膜板产生的曝光图案包括所述主像素栅极图案和所述辅像素公共电极图案。根据本专利技术的一个实施例，所述基底包括基板，并在所述基板上形成所述栅金属层O根据本专利技术的一个实施例，所述基底包括基板、薄膜晶体管、数据线和栅绝缘层，并在所述栅绝缘层上形成所述栅金属层。根据本专利技术的另一个方面，还提供了采用以上方法制作的液晶显示面板。本专利技术的有益效果:本专利技术通过采用两个掩膜板来形成栅金属层，避免了主像素栅极和辅像素栅极、辅像素公共电极和辅像素栅极、主像素栅极和主像素公共电极之间的短路，从而使得主辅像素均能正常显示，避免液晶显示面板出现水平渐变线，改善液晶显示面板的显示效果。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要的附图做简单的介绍:图1是现有技术中用于形成液晶显示面板中栅金属层的掩膜板结构示意图；图2是根据本专利技术的一个实施例的方法流程图；图3是根据本专利技术的一个实施例的第一掩膜板结构示意图；图4是根据本专利技术的一个实施例的第二掩膜板结构示意图；以及图5是根据本专利技术的一个实施例的液晶显示面板中一个像素单元的俯视结构示意图。【具体实施方式】以下将结合附图及实施例来详细说明本专利技术的实施方式，借此对本专利技术如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本专利技术中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本专利技术的保护范围之内。如图1所示为现有的一种用于制作TFT-1XD中的栅金属层采用的掩膜板结构示意图。其中，该掩膜板上的区域11’用于形成主像素栅极，区域12’用于形成主像素公共电极，区域21’用于形成辅像素栅极，区域22’用于形成辅像素公共电极。所以，该掩膜板可以形成包括一个主像素和一个辅像素的像素单元，主像素和辅像素共同作用完成该像素单元的正常显示。使用图1中的掩膜板所制得的栅金属层包括与区域11’对应的主像素栅极，与区域12’对应的主像素公共电极，与区域21’对应的辅像素栅极，区域22’对应的辅像素公共电极。由于主像素栅极和辅像素栅极之间、主像素栅极和主像素公共电极之间、辅像素栅极和辅像素公共电极之间的距离太小，在采用图1中的掩膜板制作栅金属层时，掩膜板上对应形成以上主、辅像素的栅极之间及主辅像素与各自对应的公共电极之间的间隔区域的位置处设置的极为狭窄。在现有技术中，形成栅金属层时通常采用正性光阻材料作为光刻胶。正性光阻材料在曝光前对某些溶剂是不溶的，而曝光后却变为可溶的。使用这种光阻材料，能得到与掩膜板遮光图案相同的图形。那么，在图1的掩膜板中，采用正性光阻材料时，区域11’、区域12’、区域21’和区域22’为遮光区域，其余为透光区域。在采用图1的掩膜板时，曝光光束不能透过掩膜板上的对应主、辅像素的栅极之间及主辅像素与各自对应的公共电极之间的间隔区域的狭窄透光区域来对正性光阻材料进行曝光。这些掩膜板上狭窄透光区域对应的正性光阻材料不能被改变性质，显影处理时就不能被去除。那么，在接下来蚀刻金属材料形成栅金属层时，这些掩膜板上狭窄透光区域对应的正性光阻材料覆盖的金属材料不能被蚀刻掉。这样，就会导致主像素栅极和辅像素栅极之间、主像素栅极和主像素公共电极之间、辅像素栅极和辅像素公共电极之间发生短路。如图1所示的黑色三角标识，在这种情况下，主像素栅极和辅像素栅极均处于公共电极电位，对应的TFT (薄膜晶体管)无法正常工作。在液晶显示面板上，一般通过同一扫描信号来控制同一像素单元中的主像素栅极和辅像素栅极，同一行像素单元中的主像素栅极连接到同一条主栅线上、辅像素栅极连接到同一条辅栅线上。如其中的任一像素单元中的主像素栅极和辅像素栅极之间、主像素栅极和主像素公共电极之间、辅像素栅极和辅像素公共电极之间发生短路，则该行像素单元的显示均会受到影响，则在液晶显示面板的水平方向上会产生水平渐变线，从而影响产品的良率。因此，本专利技术提供了一种用于制作TFT-1XD的方法，用于消除主像素栅极和辅像素栅极之间、主像素栅极和主像素公共电极之间、辅像素栅极和辅像素公共电极之间的短路现象，进而消除水平渐变线，提高产品良率。如图2所示为根据本专利技术的一个实施例的方法流程图，以下参考图2来对本专利技术进行详细说明。首先，在步骤SllO中，在预制的基底上涂敷一层金属材料，以形成金属材料层。在该步骤中，一般是通过溅射方法形成一定厚度的金属材料层。形成该金属材料层常用的金属材料有Al、Ta、Moff合金等。接下来，在步骤S120中，在该金属材料层上涂敷一层光阻材料。在该步骤中，涂敷的光阻材料为负性光阻材料。这种光阻材料在曝光前对某些有机溶剂是可溶性的，曝光后发生光聚合反应，不溶于有机溶剂。当用该光阻材料进行光刻时，在基底表面将得到与光刻掩膜板遮光图案完全相反的图案，即得到与光刻掩膜板透光图案完本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制作液晶显示面板的方法，包括：在基底上涂敷一层金属材料形成金属材料层；在所述金属材料层上涂敷一层光阻材料；采用第一掩膜板对所述光阻材料进行第一次曝光处理；采用第二掩膜板对所述光阻材料进行第二次曝光处理；对经过两次曝光处理后的光阻材料进行显影处理以裸露出部分金属材料；对裸露的金属材料进行蚀刻处理以形成栅金属层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：付延峰，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44