本发明专利技术公开了一种稳压器及稳压的方法。该稳压器包括第一放大器和偏置单元。第一放大器有正输入,负输入和输出,其中第一放大器的输出连接至负输入。该偏置单元通过互补金属氧化物半导体晶体管产生参考电压,其中第一放大器的正输入被配置为接收该参考电压。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种集成电路,特别但不限于一种稳压器以及稳压的方法。
技术介绍
片内稳压器广泛使用能隙基准源作为互补金属氧化物半导体晶体管(CMOS)的参 考源。能隙基准源利用CMOS工艺中的寄生双极管产生与硅的禁带宽度有关的电压。但是, 能隙基准源不能补偿金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)工艺角和温度的变化。工 艺角涉及到工艺过程中参数的变化。不同芯片的场效应管在一定的范围内会有不同的速度 变化。当利用稳压源给数字电路供电时,具有不同工艺角的CMOS的逻辑门的延迟时间会有 很大的变动,这使得数字电路的时序收敛变得更加困难。 纳米工艺使得集成电路获得越来越快的速度,时序误差的裕量也变得越来越小。 希望可设计出一种新型的稳压器,使得它的参考电压可以补偿CMOS工艺角以及温度的变 化。
技术实现思路
在一个实施例中,电路包括第一放大器和偏置单兀。该第一放大器包括正输入, 负输入以及输出,其中该第一放大器的该输出连接至该负输入。该偏置单元利用互补金属 氧化物半导体晶体管产生参考电压,其中该第一放大器的该正输入被配置为接收该参考电 压。 在另一个实施例中,一种方法包括产生第一偏置电流,该第一偏置电流流过互补 金属氧化物半导体晶体管(CMOS),使得该CMOS晶体管的跨导保持恒定;基于该第一偏置电 流产生参考电压;将该参考电压输入至放大器的正输入;由该放大器输出信号,其中该输 出反馈至该放大器的负输入。 在另一个实施例中,一种方法包括生成追踪互补金属氧化物半导体晶体管的阈值 电压的第二偏置电流;基于该第二偏置电流产生参考电压;将该参考电压输入至放大器的 正输入;由该放大器输出信号,其中该输出反馈至该放大器的负输入。【附图说明】 本专利技术通过所附的附图用示例形式展示。附图应当被理解为作为示例而非限制, 本专利技术的范围是由权利要求所限定的。 图1是表示电路实施例的框图。 图2是表示偏置单元实施例的图。 图3是表示偏置单元另一个实施例的图。 图4是表示偏置单元另一个实施例的图。 图5是表示偏置单元另一个实施例的图。 图6A是表示包含加权电路的电路实施例的框图。 图6B是表示电路另一个实施例的图。 图7是表示电路另一个实施例的图。 图8是表不偏置单兀另一个实施例的图。 图9是表示偏置单元另一个实施例的图。 图?ο是表不电路另Iv实施例的图。 图11是表示偏置单元另一个实施例的图。 图12是表示一种实施例的方法的流程图。 图13是表示一种实施例的方法的流程图。【具体实施方式】 图1是表示电路实施例的框图。在图1中,电路10包括第一放大器100和偏置单 兀110。该第一放大器100有正输入( + ),负输入(-)和输出,其中第一放大器100的输出连 接至负输入。偏置单元Iio利用互补金属氧化物(CMOS)晶体管产生参考电压。第一放大 器100的正输入接收偏置单元110输出的参考电压。电路10可以是稳压器。 在该实施例中,稳压器10可自适应逻辑门的速度,因为稳压器采用MOSFET晶体管 作为参考电压,而逻辑门主要包含MOSFET晶体管。当逻辑门的速度较慢时,稳压器被设计 成高于名义电压,当逻辑门的速度较快时,稳压器被设计成低于名义电压,从而减小逻辑门 延迟时间的变化。温度的变化也被考虑在内。通过调节稳压器的MOSFET晶体管的温度系 数,逻辑门延迟时间可配置为不随温度的变化而变化。通过使用MOSFET晶体管代替能隙源 作为参考电压可以减少逻辑门对工艺角和温度的敏感度。 偏置单元110可产生追踪互补金属氧化物半导体(CMOS)晶体管的恒定跨导gm的 第一偏置电流I 1,基于第一偏置电流I1产生参考电压。换言之,第一偏置电流I1被用作 偏置CMOS晶体管,从而跨导g m对于温度、工艺或者电源电压不敏感。 可选择地,在电路10中,该偏置单元110可产生追踪CMOS晶体管的阈值电压Vth 的第二偏置电流I2,且基于第二偏置电流I2产生参考电压VMf。换言之,该第二偏置电流I 2 被用于偏置CMOS晶体管,以使参考电压追踪阈值电压Vth。 图2是表示偏置单元实施例的图。在图2中,偏置单元20产生第一偏置电流I1, 跨导g m利用第一偏置电流I1只随多晶硅电阻器变化,基于第一偏置电流I1产生参考电压 VMf。如图2所示,CMOS晶体管包括N沟道金属氧化半导体(NMOS)晶体管。首先产生第一 偏置电流I 1,然后第一偏置电流I1被复制至另一个MOSFET中。注意到该电流的任何部分流 经的任何尺寸的MOSFET的跨导g m恒定,这是因为尺寸和电流只影响MOSFET的绝对值而不 影响其工艺和温度的敏感性。多晶硅电阻器表示的是一种标准逻辑工艺通常提供的电阻。 如果多晶硅电阻器恒定则MOSFET的跨导g m恒定。一般而言,与有源MOSFET相比,多晶硅 电阻器的工艺条件的变化更小,且具有较小的温度敏感度。 偏置单元20包括第一 P-沟道金属氧化物半导体(PMOS)晶体管Mpi、第二PMOS晶 体管Mp2、第三PMOS晶体管M P3、第一 NMOS晶体管Mni、第二NMOS晶体管Mn2、第三NMOS晶体 管Mn3、和第一电阻R 1。 第一、第二和第三PMOS晶体管MP1,MP2,M p3的源极连接至电源VdcL第一 PMOS晶体 管Mpi的栅极和漏极都连接至第一 NMOS晶体管Mm的漏极。第二PMOS晶体管Mp2的栅极连 接至第一 PMOS晶体管Mpi的栅极和第三PMOS晶体管Mp3的栅极。第二PMOS晶体管Mp2的 漏极连接至第一 NMOS晶体管Mm的栅极和第二NMOS晶体管Mn2的漏极。第三PMOS晶体管 Mp3的漏极连接至第二NMOS晶体管Mn2的栅极和第一电阻R1。第一电阻R 1连接至第三NMOS 晶体管Mn3的栅极和漏极。第一、第二、第三NMOS晶体管MN1,MN2,M N3的源极接地。其中第三 PMOS晶体管Mp3的漏极被配置成输出第一偏置电流I1。第一偏置电流I1流经匪OS晶体管。 NMOS晶体管的跨导保持恒定。 在图2中,第一、第二和第三PMOS晶体管MP1、MP2、M P3的尺寸(包括宽长比W/L和长 度)。Mn2与Mn3的尺寸比是I :N。电流I1可表示为【主权项】1. 一种电路,包括: 第一放大器,包括正输入、负输入和输出,其中所述第一放大器的输出连接至所述负输 入; 偏置单元,所述偏置单元被配置为利用CMOS晶体管产生参考电压,其中所述第一放大 器的所述正输入被配置为接收所述参考电压。2. 如权利要求1所述的电路,其中所述偏置单元被配置成产生第一偏置电流,所述第 一偏置电流流过所述CMOS晶体管,使得所述CMOS晶体管的跨导保持恒定,所述参考电压基 于所述第一偏置电流产生。3. 如权利要求2所述的电路,其中所述CMOS晶体管包括NMOS晶体管、其中所述偏置单 元包括第一 PMOS晶体管、第二PMOS晶体管、第三PMOS晶体管、第一 NMOS晶体管、第二NMOS 晶体管、第三NMOS晶体管和第一电阻,其中 所述第一、第二和第三PMOS晶体管的源极连接至电源; 所述第一 PMOS晶体管的栅极和漏极都连接至所述第一 NMOS晶体管的漏极; 所述第二PMOS晶体管的栅极连接至所述第一 PMO本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种电路,包括:第一放大器,包括正输入、负输入和输出,其中所述第一放大器的输出连接至所述负输入;偏置单元,所述偏置单元被配置为利用CMOS晶体管产生参考电压,其中所述第一放大器的所述正输入被配置为接收所述参考电压。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:严钢,张鹏展,
申请(专利权)人:澜起科技上海有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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