一种实现微区光谱测量的光谱仪设计方法技术

本发明专利技术公开了一种可实现微区光谱测量的光谱仪设计方法，其包括以下步骤：(1)利用成像系统将待测量样品成像至区域选择小孔板的平面内；(2)小孔区域内的光线穿过小孔进入光谱分析元件进行光谱分析与测量；(3)小孔区域外部的光线被小孔板上的高反射膜反射，并经由一半透半反镜反射；(4)半透半反镜的反射光由一成像透镜成像至图像记录元件(如CCD)平面；(5)通过移动样品位置，可对需要测量的不同区域成像至小孔内进行光谱分析测量该光谱仪可独立使用或联合显微镜使用。本发明专利技术利用小孔实现测量区域的选择，可以实现对于尺寸达微米甚至纳米量级样品的透射、反射、吸收及荧光光谱的测量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光谱测量
，具体涉及，其适用于检测微纳尺度物体或样品区域的透射、反射、吸收和荧光等光谱。
技术介绍
光谱仪已经被人们广泛应用。通过光谱检测可以对于元素组成、能带结构等各种材料性质进行研宄。例如中国专利申请第2006800243929号公开了一种光谱仪设备，其包括用于生成具有预定辐射波长的脉冲辐射束的脉冲辐射束发生器、具有多个腔模式且每一腔模式具有腔模式波长的光学腔、抖动装置、位于所述光学腔内且包含将要分析的样本的光声室以及探测器，其中抖动装置用于使所述脉冲辐射束的所述辐射波长和/或所述多个腔模式波长发生抖动，从而使所述脉冲辐射束准连续地耦合到所述光学腔内；探测器用于探测当样本吸收来自所述脉冲辐射束的辐射时在光声室内生成的压力波，并生成探测器输出信号，可以通过对所述探测器输出信号进行处理来确定所述样本中的吸收材料的浓度值。而上述光谱仪光斑较大，一般在毫米或厘米量级，若使用其对于微纳样品进行光谱测量时，大部分光能量照射在待测区域外，对于最终的测量结果造成较大误差，甚至使得无法测量得到光谱。严重制约了针对于微纳材料光谱性质的研宄。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，确有必要提供一种可实现对于微纳样品及样品内微小区域内光谱信息测量与分析的光谱仪。迫切需要一种。该光谱仪可广泛应用于材料科学、航空航天、医学、物理科学、生物科学等领域。依据本专利技术的技术方案，提供一种可实现微区光谱测量的光谱仪设计方法，其包括以下步骤:(I)利用成像系统将待测量样品成像至区域选择小孔板的平面内；(2)小孔区域内的光线穿过小孔进入光谱分析元件进行光谱分析与测量；(3)小孔区域外部的光线被小孔板上的高反射膜反射，并经由一半透半反镜反射；(4)半透半反镜的反射光由一成像透镜成像至图像记录元件(如CCD)平面；(5)通过移动样品位置，可对需要测量的不同区域成像至小孔内进行光谱分析测量。其中，步骤(I)所述的通过区域选择小孔板实现对于测量区域的选择，该小孔可为矩形、圆形、椭圆形等任何形状，视实际需求而定。步骤(2)只对于小孔区域内的光线进行光谱分析，区域外的光线不进入光谱分析元件。步骤(3)小孔区域外的光线被小孔板上的高反射膜反射，该高反射膜为高反射金属膜、介质膜等其他可实现高反射率的薄膜材料。该反射光经由半透半反镜反射，半透半反镜分光比例可为10: 90,30: 70,50: 50或任何其他比例，可视实际情况而定。步骤(4)小孔区域外的光线最终经由成像透镜成像并由图像记录元件记录并显示，此步骤用于对于待测样品表面形貌的观察成像，并方便判断小孔在物体像面上的位置，即小孔所选择测量的区域位置。步骤(5)通过移动样品实现对于测量区域的选择与移动，可使用手动或电动位移台实现样品移动。与现有传统光谱仪相比，本专利技术提供的微区光谱仪利用小孔平板实现对于待测区域的选择，并完成对于目标微纳尺度区域及微纳尺寸样品光谱信息的测量。通过调节成像系统的放大倍率或小孔尺寸大小，可实现测量区域大小的调节。进一步利用半透半反镜及图像记录元件，可实时观测样品表面形貌与待测区域位置的判断，操作简易，使用方便。【附图说明】图1为依据本专利技术的实现微区光谱测量的微区光谱测量系统示意图。图2为区域选择板结构示意图。图3为图像记录元件7记录图像范例。图4为依据本专利技术的样品成像系统示意图。图5为光谱测量区域选择小孔板及光谱测量系统示意图。图6为图像数字化记录系统示意图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。另外地，不应当将本专利技术的保护范围仅仅限制至下述具体结构或部件或具体参数。依据本专利技术的第一方面，本专利技术的微区光谱仪包括一待分析物体、一成像系统、一半透半反镜、一区域选择小孔板、一光谱分析元件、一成像透镜以及一图像记录元件(如CCD);所述待分析物体通过成像系统，成像于区域选择小孔板平面；小孔板表面具有高反射性，但其中心小孔处为可透光部分。照射在小孔区域内的光线可通过小孔进入光谱分析元件进行光谱分析。被小孔板反射的光线经半透半反镜反射，后经过成像透镜成像至图像记录元件，实现待测物体表面形貌以及待测区域范围的实时观测与选择。如图1所示。本专利技术的第二方面，提供一种可实现微区光谱测量的方法。本专利技术提出的设计方法能实现对于微纳样品的光谱测量与分析。该方法包括以下步骤:(I)利用成像系统将待测量样品成像至区域选择小孔板的平面内；(2)小孔区域内的光线穿过小孔进入光谱分析元件进行光谱分析与测量；(3)小孔区域外部的光线被小孔板上的高反射膜反射，并经由一半透半反镜反射；(4)半透半反镜的反射光由一成像透镜成像至图像记录元件(如CCD)平面；(5)通过移动样品位置，可对需要测量的不同区域成像至小孔内进行光谱分析测量。其中，步骤(I)所述的通过区域选择小孔板实现对于测量区域的选择，该小孔可为矩形、圆形、椭圆形等任何形状，视实际需求而定。步骤(2)只对于小孔区域内的光线进行光谱分析，区域外的光线不进入光谱分析元件。步骤(3)小孔区域外的光线被小孔板上的高反射膜反射，该高反射膜为高反射金属膜、介质膜等其他可实现高反射率的薄膜材料。该反射光经由半透半反镜反射，半透半反镜分光比例可为10: 90,30: 70,50: 50或任何其他比例，可视实际情况而定。步骤(4)小孔区域外的光线最终经由成像透镜成像并由图像记录元件记录并显示，此步骤用于对于待测样品表面形貌的观察成像，并方便判断小孔在物体像面上的位置，即小孔所选择测量的区域位置。步骤(5)通过移动样品实现对于测量区域的选择与移动，可使用手动或电动位移台实现样品移动。下面结合附图，对本专利技术进一步说明，图1为依据本专利技术的实现微区光谱测量的微区光谱测量系统示意图。其中附图符号如下:待测物体(样品)1、成像系统2、半透半反镜3、区域选择小孔板4、光谱分析元件5、成像透镜6、图像记录元件7、小孔板反射区域8、小孔板中心小孔9、待测物体在图像记录元件表面所成像10、小孔在图像记录元件表面所成像(以方形小孔为例)11。图2为区域选择板结构示意图。板中心区域9为透光区域，而小孔外部区域8具有较高反射率。图3为图像记录元件7记录图像范例，其中黑色区域11为区域选择板4中心小孔在图像记录元件7上所成像，其余部分10为被7记录的样品形貌像。图4为依据本专利技术的样品成像系统示意图，样品I经过透镜组2成像至平面14，样品可采用透射式或反射式照明。当采用透射式照明时，光源12被开启，关闭13，光源幅射光16从下方辐照样品；当采用反射式照明时，光源13开启，关闭12，光源辐射光16经半透半反镜3反射后从上方辐照样品。图5为光谱测量区域选择小孔板及光谱测量系统不意图，样品经成像系统成像，相应光线15聚焦于平面4，落在平面内小孔区域内的光线将透过小孔进入光谱仪进行光谱分析。落在小孔区域外的光线被反射。图6为图像数字化记录系统示意图，经区域选择小孔板4反射的光线经半透半反镜3反射，经由透镜6成像至图像记录元件7中。本专利技术通过下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可实现微区光谱测量的光谱仪设计方法，其包括以下步骤：(1)利用成像系统将待测量样品成像至区域选择小孔板的平面内；(2)小孔区域内的光线穿过小孔进入光谱分析元件进行光谱分析与测量；(3)小孔区域外部的光线被小孔板上的高反射膜反射，并经由一半透半反镜反射；(4)半透半反镜的反射光由一成像透镜成像至图像记录元件(如CCD)平面；(5)通过移动样品位置，可对需要测量的不同区域成像至小孔内进行光谱分析测量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：任梦昕，兀伟，皮彪，蔡卫，张心正，许京军，
申请(专利权)人：南开大学，
类型：发明
国别省市：天津;12