取代的1，6-萘啶制造技术

技术编号：11793527 阅读：136 留言：0更新日期：2015-07-29 19:51

本发明专利技术涉及通式(I)的化合物的用途，其中R’是氢或低级烷基；R1是卤素、低级烷基、环烷基或氰基；或是苯基，所述苯基任选地被一至三个选自低级烷基、被卤素取代的低级烷基、低级烷氧基、被卤素取代的低级烷氧基，卤素、氰基、羟基、C(O)-NH-低级烷基，CH2-C(O)-NH-低级烷基、CH2-NH-C(O)-低级烷基、CH2NH2、S(O)2CH3、S(O)2N(CH3)2或杂环烷基基团的取代基取代；或是任选地被低级烷基取代的吡唑-1，4或5-基；或是任选地被一个或两个低级烷基取代的噻唑-5-基；或是任选地被低级烷基、低级烷氧基、卤素或N(CH3)2取代的吡啶2，3或4-基；或是3，6-二氢-2H-吡喃；或是苯并[d][1，3]间二氧杂环戊烯-5-基；或是2，3-二氢苯并[b][1，4]二烯-6-基；R2是氢、低级烷基或被烷氧基取代的低级烷基；R3是氢、低级烷基、被卤素取代的低级烷基、被羟基取代的低级烷基、NH-S(O)2-CH3、-(CH2)m-O-低级烷基或-(CH2)n-S(O)2-CH3；或是任选地被-S(O)2CH3或低级烷氧基取代的-(CR2)n-苯基；或是任选地被低级烷基和＝O取代的-(CH2)n-杂环烷基；或是任选地被一个或两个低级烷基取代的-(CH2)n-杂芳基；或是任选地被氰基取代的-(CH2)n-环烷基；或者R2和R3与它们连接的N原子一起形成选自吗啉、哌啶、1，1-二氧代-硫代吗啉或哌嗪的杂环，所述杂环可以被低级烷基或C(O)O-低级烷基取代，或可以形成任选地被羟基取代的吡咯烷环；R独立地选自n氢或低级烷基；n是0，1，2，3；m是2；或涉及其药用酸加成盐、外消旋混合物或其相应对映异构体和/或光学异构体，其用于治疗精神分裂症，强迫型人格障碍，抑郁症，双相型精神障碍，焦虑症，正常衰老，癫痫，视网膜变性，外伤性脑损伤，脊髓损伤，创伤后精神紧张性障碍，惊恐性障碍，帕金森病，痴呆，阿尔茨海默病，轻度认知损害，化疗引起的认知功能障碍(“化疗后大脑”)，唐氏综合征，自闭症谱系障碍，听力损失，耳鸣，脊髓小脑性共济失调，肌萎缩侧索硬化，多发性硬化，亨廷顿病，中风和由放射治疗、慢性应激、视神经病变或黄斑变性、或选自酒精、阿片制剂、甲基苯丙胺、苯环利定或可卡因的神经活性药物的滥用导致的失调。

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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】取代的1,6-萘啶本专利技术涉及通式I的化合物的用途【主权项】1.通式I的化合物其中R'是氢或低级烷基； R1是卤素，低级烷基，环烷基或氰基；或是苯基，所述苯基任选地被一至三个选自低级烷基，被卤素取代的低级烷基，低级烷氧基，被卤素取代的低级烷氧基，卤素，氰基，羟基，C(0)-NH-低级烷基，CH2-C(0)-NH-低级烷基，ch2-nh-c(o)-低级烷基，CH2NH2,S(0)2CH3,S(0)2N(CH3)2或杂环烷基基团的取代基取代；或是任选地被低级烷基取代的吡唑-1，4或5-基；或是任选地被一个或两个低级烷基基团取代的噻唑-5-基；或是任选地被低级烷基、低级烷氧基、卤素或N(CH3)2取代的吡啶2, 3或4-基；或是3,6- 二氛_2H-吡喃；或是苯并间二氧杂环戊烯-5-基；或是2, 3_二氛苯并二丨1 恶稀_6_基； R2是氢，低级烷基或被烷氧基取代的低级烷基； R3是氢，低级烷基，被卤素取代的低级烷基，被羟基取代的低级烷基， NH-S(0) 2-CH3, - (CH2)m-0-低级烷基或-(CH2)n-S(0) 2-CH3;或是任选地被-S(0) 2CH3或低级烷氧基取代的-(CR2)n-苯基；或是任选地被低级烷基和=0取代的_(CH2)n-杂环烷基；或是任选地被一个或两个低级烷基基团取代的_(CH2)n-杂芳基；或是任选地被氰基取代的_(CH2)n-环烷基；或R2和R3与它们连接的N原子一起形成选自吗啉，哌啶，1，1-二氧代-硫代吗啉或哌嗪的杂环，所述杂环可以被低级烷基或...

【技术保护点】
通式I的化合物其中R’是氢或低级烷基；R1是卤素，低级烷基，环烷基或氰基；或是苯基，所述苯基任选地被一至三个选自低级烷基，被卤素取代的低级烷基，低级烷氧基，被卤素取代的低级烷氧基，卤素，氰基，羟基，C(O)‑NH‑低级烷基，CH2‑C(O)‑NH‑低级烷基，CH2‑NH‑C(O)‑低级烷基，CH2NH2，S(O)2CH3，S(O)2N(CH3)2或杂环烷基基团的取代基取代；或是任选地被低级烷基取代的吡唑‑1，4或5‑基；或是任选地被一个或两个低级烷基基团取代的噻唑‑5‑基；或是任选地被低级烷基、低级烷氧基、卤素或N(CH3)2取代的吡啶2，3或4‑基；或是3，6‑二氢‑2H‑吡喃；或是苯并[d][1，3]间二氧杂环戊烯‑5‑基；或是2，3‑二氢苯并[b][1，4]二烯‑6‑基；R2是氢，低级烷基或被烷氧基取代的低级烷基；R3是氢，低级烷基，被卤素取代的低级烷基，被羟基取代的低级烷基，NH‑S(O)2‑CH3，‑(CH2)m‑O‑低级烷基或‑(CH2)n‑S(O)2‑CH3；或是任选地被‑S(O)2CH3或低级烷氧基取代的‑(CR2)n‑苯基；或是任选地被低级烷基和＝O取代的‑(CH2)...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：西蒙娜·M·切卡雷利，拉维·姚高希亚，罗兰·雅各布勒特，赖纳·E·马丁，延斯乌韦·彼得斯，于尔根·维希曼，
申请(专利权)人：霍夫曼拉罗奇有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士;CH

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