一种活性藏青至黑色染料组合物及染料制品制造技术

一种活性藏青至黑色染料组合物及染料制品，所述染料组合物包含组分A、组分B和组分C，所述组分A选自至少一种式(Ⅰ)所示的化合物，所述组分B选自至少一种式(Ⅱ)所示的化合物，所述组分C选自至少一种式(Ⅲ)和/或式(Ⅳ)所示的化合物，基于所述的组分A、组分B和组分C，组分A的重量份为45～95份，组分B的重量份为5～55份，组分C的重量份为0～40份。活性藏青至黑色染料制品包含所述染料组合物。本发明专利技术的染料制品染深性好，提升力优异，上染率高，固色率高，配伍性好，色牢度优异，印染过程染料用量少、易水洗、残液清，耐盐碱性能稳定，且具有优良的同色异谱性，染色性能稳定，适用于浸染、轧染和印花等不同工艺。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种活性藏青至黑色染料组合物，包含组分A、组分B和组分C，所述组分A选自至少一种式(Ⅰ)所示的化合物，所述组分B选自至少一种式(Ⅱ)所示的化合物，所述组分C选自至少一种式(Ⅲ)和/或式(Ⅳ)所示的化合物，基于所述的组分A、组分B和组分C，组分A的重量份为45～95份，组分B的重量份为5～55份，组分C的重量份为0～40份：式(Ⅰ)中：R1、R2、R3各自独立为‑H、‑C1～C4烷基、‑C1～C4烷氧基或‑SO3M1；Y1为‑CH＝CH2或‑C2H4OSO3M1；M1为氢或碱金属；式(Ⅱ)中：R4、R5各自独立为‑H、‑C1～C4烷氧基或‑SO3M2；Y2为‑CH＝CH2或‑C2H4OSO3M2；M2为氢或碱金属；式(Ⅲ)中：R6、R7各自独立为‑H、‑C1～C4烷基、‑C1～C4烷氧基或‑SO3M3；R8为‑H或‑SO3M3；Y3为‑CH＝CH2或‑C2H4OSO3M3；M3为氢或碱金属；式(Ⅳ)中：R9、R10各自独立为‑H或‑SO3M4，Y4为‑CH＝CH2或‑C2H4OSO3M4，M4为H或碱金属。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王小红，高怀庆，欧其，阮伟祥，
申请(专利权)人：上海科华染料工业有限公司，浙江科永化工有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31