RH真空室合金溜槽制造技术

本实用新型专利技术涉及一种RH真空室合金溜槽，属于冶金窑炉技术领域。本实用新型专利技术包括由合金溜槽方砖砌筑而成的溜槽本体，溜槽本体的四周为由衬砖砌筑形成的衬砖区，衬砖区内设有锁砖区，锁砖区由锁砖砌筑而成，锁砖具有沿溜槽本体宽度方向呈相对设置的第一侧面和第二侧面，第一侧面具有凸块、第二侧面具有凹槽，相邻两件锁砖通过凸块与凹槽相配合实现锁扣，锁砖区设于溜槽本体上方，且使得锁砖区在水平面的投影可将溜槽本体在水平面的投影完全覆盖。采用本实用新型专利技术后，对合金溜槽方砖进行挖补时，拆除过程中锁砖区及其上方的衬砖不会垮塌，只需对合金溜槽方砖及其周围的少量衬砖进行拆除和恢复，减少了用砖量，缩短了工期。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种RH真空室合金溜槽，属于冶金窑炉

技术介绍
目前，RH真空室合金溜槽本体由合金溜槽方砖砌筑而成，溜槽本体的四周由衬砖砌筑而成，在使用过程中合金溜槽方砖易损坏。合金溜槽方砖的损坏主要有2个方面:1、受物料堕落冲击，机械损坏；2、预热器烧嘴火焰的强力冲击使内衬强度下降，氧化合金与高温下的耐火砖之间产生反应而受到侵蚀，从而引起损毁。对合金溜槽方砖进行挖补是延长真空室的使用寿命的重要手段。现有技术中，衬砖的砌筑结构不合理，挖补时除合金溜槽方砖需要拆除和更换外，合金溜槽方砖上方的衬砖也要拆除和更换，导致用砖量较大，且工期较长，制约了真空室的使用效率。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是:提供一种结构更合理、易于维修的RH真空室合金溜槽。为解决上述技术问题本技术所采用的技术方案是:RH真空室合金溜槽，包括由合金溜槽方砖砌筑而成的溜槽本体，溜槽本体的四周为由衬砖砌筑形成的衬砖区，衬砖区内设有锁砖区，锁砖区由锁砖砌筑而成，锁砖具有沿溜槽本体宽度方向呈相对设置的第一侧面和第二侧面，第一侧面具有凸块、第二侧面具有凹槽，相邻两件锁砖通过凸块与凹槽相配合实现锁扣，锁砖区设于溜槽本体上方，且使得锁砖区在水平面的投影可将溜槽本体在水平面的投影完全覆盖。进一步的是:溜槽本体顶面与衬砖区底面之间设有第一衬砖区，溜槽本体底部下方设有第二衬砖区，第一衬砖区的宽度、第二衬砖区的宽度均与溜槽本体的宽度相同，第一衬砖区的衬砖、第二衬砖区的衬砖竖向设置，衬砖区除去第一衬砖区、第二衬砖区的部分，其衬砖横向设置。进一步的是:凸块的高度为1mm?15mm，凹槽的深度为1mm?15mm。本技术的有益效果是:对合金溜槽方砖进行挖补时，拆除过程中锁砖区及其上方的衬砖不会垮塌，只需对合金溜槽方砖及其周围的少量衬砖进行拆除和恢复，减少了用砖量，缩短了工期。【附图说明】图1为本技术的结构示意图；图中零部件、部位及编号:1-溜槽本体、2-衬砖区、21-第一衬砖区、22-第二衬砖区、3-锁砖区、31-锁砖、311-第一侧面、312-第二侧面。 【具体实施方式】下面结合附图对本技术作进一步说明。如图1所示，本技术包括由合金溜槽方砖砌筑而成的溜槽本体1，溜槽本体I的四周为由衬砖砌筑形成的衬砖区2，衬砖区2内设有锁砖区3，锁砖区3由锁砖31砌筑而成，锁砖31具有沿溜槽本体I宽度方向呈相对设置的第一侧面311和第二侧面312，第一侧面311具有凸块、第二侧面312具有凹槽，相邻两件锁砖31通过凸块与凹槽相配合实现锁扣，锁砖区3设于溜槽本体I上方，且使得锁砖区3在水平面的投影可将溜槽本体I在水平面的投影完全覆盖。对合金溜槽方砖进行挖补时，拆除过程中锁砖区3及其上方的衬砖不会垮塌，只需对合金溜槽方砖及其周围的少量衬砖进行拆除和恢复，减少了用砖量，缩短了工期。锁砖区3的宽度比合金溜槽方砖挖补区的宽度略大即可。凸块的高度优选为1mm?15mm，凹槽的深度优选为1mm?15mm，可使得结构更稳定，保证拆除过程中锁砖及其上方的衬砖不会垮塌。作为对本技术的改进，溜槽本体I顶面与衬砖区2底面之间设有第一衬砖区21，溜槽本体I底部下方设有第二衬砖区22，第一衬砖区21的宽度、第二衬砖区22的宽度均与溜槽本体I的宽度相同，第一衬砖区21的衬砖、第二衬砖区22的衬砖竖向设置，衬砖区2除去第一衬砖区21、第二衬砖区22的部分，其衬砖横向设置。采用该结构，可方便衬砖的拆除，提尚维修效率。【主权项】1.RH真空室合金溜槽，包括由合金溜槽方砖砌筑而成的溜槽本体(I)，所述溜槽本体(I)的四周为由衬砖砌筑形成的衬砖区(2)，其特征在于:所述衬砖区(2)内设有锁砖区(3)，所述锁砖区(3)由锁砖(31)砌筑而成，所述锁砖(31)具有沿溜槽本体(I)宽度方向呈相对设置的第一侧面(311)和第二侧面(312)，所述第一侧面(311)具有凸块、第二侧面(312)具有凹槽，相邻两件锁砖(31)通过凸块与凹槽相配合实现锁扣，所述锁砖区(3)设于溜槽本体(I)上方，且使得锁砖区(3)在水平面的投影可将溜槽本体(I)在水平面的投影完全覆盖。2.如权利要求1所述的RH真空室合金溜槽，其特征在于:所述溜槽本体(I)顶面与衬砖区(2)底面之间设有第一衬砖区(21)，所述溜槽本体(I)底部下方设有第二衬砖区(22)，所述第一衬砖区(21)的宽度、第二衬砖区(22)的宽度均与溜槽本体(I)的宽度相同，所述第一衬砖区(21)的衬砖、第二衬砖区(22)的衬砖竖向设置，所述衬砖区(2)除去第一衬砖区(21)、第二衬砖区(22)的部分，其衬砖横向设置。3.如权利要求1所述的RH真空室合金溜槽，其特征在于:所述凸块的高度为1mm?15_，所述凹槽的深度为1mm?15_。【专利摘要】本技术涉及一种RH真空室合金溜槽，属于冶金窑炉
本技术包括由合金溜槽方砖砌筑而成的溜槽本体，溜槽本体的四周为由衬砖砌筑形成的衬砖区，衬砖区内设有锁砖区，锁砖区由锁砖砌筑而成，锁砖具有沿溜槽本体宽度方向呈相对设置的第一侧面和第二侧面，第一侧面具有凸块、第二侧面具有凹槽，相邻两件锁砖通过凸块与凹槽相配合实现锁扣，锁砖区设于溜槽本体上方，且使得锁砖区在水平面的投影可将溜槽本体在水平面的投影完全覆盖。采用本技术后，对合金溜槽方砖进行挖补时，拆除过程中锁砖区及其上方的衬砖不会垮塌，只需对合金溜槽方砖及其周围的少量衬砖进行拆除和恢复，减少了用砖量，缩短了工期。【IPC分类】C21C7-10【公开号】CN204490932【申请号】CN201520158256【专利技术人】童贤强, 邹秀梅, 李平凡, 杨森祥, 解明科, 秦剑峰 【申请人】攀钢集团攀枝花钢钒有限公司【公开日】2015年7月22日【申请日】2015年3月19日本文档来自技高网...

【技术保护点】
RH真空室合金溜槽，包括由合金溜槽方砖砌筑而成的溜槽本体(1)，所述溜槽本体(1)的四周为由衬砖砌筑形成的衬砖区(2)，其特征在于：所述衬砖区(2)内设有锁砖区(3)，所述锁砖区(3)由锁砖(31)砌筑而成，所述锁砖(31)具有沿溜槽本体(1)宽度方向呈相对设置的第一侧面(311)和第二侧面(312)，所述第一侧面(311)具有凸块、第二侧面(312)具有凹槽，相邻两件锁砖(31)通过凸块与凹槽相配合实现锁扣，所述锁砖区(3)设于溜槽本体(1)上方，且使得锁砖区(3)在水平面的投影可将溜槽本体(1)在水平面的投影完全覆盖。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：童贤强，邹秀梅，李平凡，杨森祥，解明科，秦剑峰，
申请(专利权)人：攀钢集团攀枝花钢钒有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51