偏振相关损耗补偿器制造技术

在一实施例中，偏振相关损耗补偿器包括基板、抗反射涂层和部分反射涂层。基板具有输入表面和与输入表面相对的输出表面。抗反射涂层形成在输出表面上。部分反射涂层形成在输入表面上。偏振相关损耗补偿器可包括取决于光信号相对于部分反射涂层的入射角的偏振相关损耗。

【技术实现步骤摘要】
偏振相关损耗补偿器
本文所描述的实施例总体上涉及一种偏振相关损耗（PDL）补偿器。
技术介绍
除非在本文另外指出，本文所描述的材料不是现有技术的，而是本申请所要求保护的，并且不认为是包含在该部分中的现有技术。在某些光学系统中，穿过光学系统的光信号可能经历降低所检测的信号质量的光学现象。一种这样的现象是PDL。PDL是由于某些光学介质的各向异性的性质，在光信号的不同偏振状态之间经历的不同信号衰减。光通道监控器（OCM）是光学系统的一个示例，其可将PDL给予穿过OCM的光信号。某些OCM的PDL设计可导致非常低的收益率，例如，小于50%的收益率，除非在OCM中补偿PDL。本文要求的主题不限于解决任何缺点或仅在诸如上述那些环境的环境中操作的实施例。相反，该
技术介绍
仅提供用于例示可以实施本文所描述的一些实施例的一个示例性

技术实现思路
本文所描述的技术总体上涉及一种偏振相关损耗补偿器。在一个示例实施例中，偏振相关损耗补偿器包括基板、抗反射涂层和部分反射涂层。基板具有输入表面和与输入表面相对的输出表面。抗反射涂层形成在输出表面上。部分反射涂层形成在输入表面上。根据一个优选实施方式，偏振相关损耗补偿器包括取决于光信号相对于部分反射涂层的入射角的偏振相关损耗。根据一个优选实施方式，部分反射涂层包括折射率交替的材料层。根据一个优选实施方式，折射率交替的材料层包括至少一个氧化钽（Ta2O5）层和至少一个二氧化硅层。根据一个优选实施方式，至少一个氧化钽层包括具有0.1523纳米的四分之一波长光学厚度和28.24纳米厚度的一个氧化钽层，至少一个二氧化硅层包括具有0.6920纳米的四分之一波长光学厚度和183.66纳米厚度的一个二氧化硅层。根据一个优选实施方式，偏振相关损耗补偿器的偏振相关损耗是与波长相关的。根据一个优选实施方式，部分反射涂层可包括：具有1.3450纳米四分之一波长光学厚度和249.37纳米厚度的第一氧化钽层；具有1.5269纳米四分之一波长光学厚度和405.26纳米厚度的第二二氧化硅层；具有1.4674纳米四分之一波长光学厚度和272.07纳米厚度的第三氧化钽层；具有1.5272纳米四分之一波长光学厚度和405.34纳米厚度的第四二氧化硅层；具有1.3236纳米四分之一波长光学厚度和245.40纳米厚度的第五氧化钽层；以及具有1.2590纳米四分之一波长光学厚度和334.15纳米厚度的第六二氧化硅层。根据一个优选实施方式，部分反射涂层还可包括：具有1.0269纳米四分之一波长光学厚度和190.39纳米厚度的第一氧化钽层；具有0.9348纳米四分之一波长光学厚度和248.11纳米厚度的第二二氧化硅层；具有0.5283纳米四分之一波长光学厚度和97.95纳米厚度的第三氧化钽层；具有0.5837纳米四分之一波长光学厚度和154.92纳米厚度的第四二氧化硅层；具有0.9006纳米四分之一波长光学厚度和166.98纳米厚度的第五氧化钽层；以及具有0.3284纳米四分之一波长光学厚度和87.16纳米厚度的第六二氧化硅层。根据一个优选实施方式，抗反射涂层包括：具有0.3208纳米四分之一波长光学厚度和59.48纳米厚度的第一氧化钽层；具有0.3507纳米四分之一波长光学厚度和93.08纳米厚度的第二二氧化硅层；具有1.1100纳米四分之一波长光学厚度和205.80纳米厚度的第三氧化钽层；以及具有1.1049纳米四分之一波长光学厚度和269.37纳米厚度的第四二氧化硅层。根据一个优选实施方式，基板包括熔融石英。在另一示例实施例中，一种补偿偏振相关损耗的方法包括在偏振相关损耗补偿器处接收在传播通道内经受偏振相关损耗的输入信号，在传播通道内，输入信号的两个偏振状态中的第一偏振状态比两个偏振状态中的第二偏振状态衰减得多。该方法还包括旋转偏振相关损耗补偿器，以使输入信号相对于偏振相关损耗补偿器输入表面的入射角是有效的，以补偿输入信号在传播通道内的偏振相关损耗。该方法还包括补偿输入信号的偏振相关损耗。根据一个优选实施方式，补偿输入信号的偏振相关损耗包括，使输入信号的两个偏振状态中的第二偏振状态衰减得比两个偏振状态中的第一偏振状态多。根据一个优选实施方式，使输入信号的两个偏振状态中的第二偏振状态衰减得比两个偏振状态中的第一偏振状态多包括，通过偏振相关损耗补偿器使输入信号的两个偏振状态中的第二偏振状态衰减的量等于两个偏振状态中的第一偏振状态通过传播通道的衰减，减去两个偏振状态中的第一偏振状态通过偏振相关损耗补偿器的衰减。根据一个优选实施方式，旋转偏振相关损耗补偿器包括如下至少一个：绕与输入信号的传播方向正交的第一旋转轴旋转偏振相关损耗补偿器、或绕与输入信号的传播方向和第一旋转轴正交的第二旋转轴旋转偏振相关损耗补偿器。根据一个优选实施方式，补偿输入信号的偏振相关损耗包括，通过包括折射率交替的材料层的部分反射涂层、基板、和包括折射率交替的材料层的抗反射涂层传输所述输入信号。在又一示例实施例中，一种光通道监控器包括传播通道和偏振相关损耗补偿器。传播通道包括偏振相关损耗和多个光学元件。偏振相关损耗补偿器放置在传播通道中，并配置为至少部分地补偿传播通道的偏振相关损耗。偏振相关损耗补偿器包括基板，所述基板具有输入表面和与所述输入表面相对的输出表面。偏振相关损耗补偿器还包括抗反射涂层，所述抗反射涂层形成在所述基板的输出表面上。偏振相关损耗补偿器还包括部分反射涂层，所述部分反射涂层形成在所述输入表面上。根据一个优选实施方式，多个光学元件包括：镜子，所述镜子定位为接收并反射来自所述光通道监控器的输入的光信号；成像透镜，所述成像透镜定位为接收被所述镜子反射之后的光信号；扩大棱镜，所述扩大棱镜定位为接收通过所述成像透镜传输之后的光信号；向下指向的镜子，所述向下指向的镜子定位为接收通过所述扩大棱镜传输之后的光信号，并第一次反射所述光信号；微机电系统镜子，所述微机电系统镜子定位为接收被所述向下指向的镜子第一次反射之后的光信号，并将所述光信号反射回所述向下指向的镜子，用于第二次反射所述光信号；以及棱栅，所述棱栅定位为接收被所述向下指向的镜子第二次反射之后的光信号。根据一个优选实施方式，偏振相关损耗补偿器放置在光通道监控器的输入与成像透镜之间。根据一个优选实施方式，光通道监控器还包括：基板，镜子、成像透镜、扩大棱镜、向下指向的镜子、微机电系统镜子以及棱栅安装在所述基板上；以及旋转组件，所述旋转组件将偏振相关损耗补偿器连接到基板，并且旋转组件配置为使偏振相关损耗补偿器绕一个或多个旋转轴旋转。该
技术实现思路
提供用来以简要形式介绍概念的选择，这些将在下文的具体实施例中进一步描述。该
技术实现思路
不用来等同于要求保护主题的关键特征或本质特性，也不用来帮助确定要求保护主题的范围。本专利技术的其它特征和优点将在下面的说明中阐述，并且部分地将从该说明中清楚，或可以通过本专利技术的实践而得知。本专利技术的特征和优点可以通过在所附权利要求中特别指出的仪器和组合来实现和获得。本专利技术的这些和其它特征将从下面的说明和所附权利要求中变得更加清楚，或可以通过下文阐述的本专利技术的实践而得知。附图说明为了更清楚本专利技术的上述和其他优点和特征，将通过参照附图例示的其特别实施例来描述本专利技术的更特别描述。可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏振相关损耗补偿器，包括：基板，所述基板具有输入表面和与所述输入表面相对的输出表面；抗反射涂层，所述抗反射涂层形成在所述输出表面上；以及部分反射涂层，所述部分反射涂层形成在所述输入表面上。

【技术特征摘要】
1.一种偏振相关损耗补偿器，包括：基板，所述基板具有输入表面和与所述输入表面相对的输出表面；抗反射涂层，所述抗反射涂层形成在所述输出表面上；以及部分反射涂层，所述部分反射涂层形成在所述输入表面上。2.如权利要求1所述的偏振相关损耗补偿器，其中，所述偏振相关损耗补偿器包括取决于光信号相对于所述部分反射涂层的入射角的偏振相关损耗。3.如权利要求1所述的偏振相关损耗补偿器，其中，所述部分反射涂层包括折射率交替的材料层。4.一种补偿偏振相关损耗的方法，所述方法包括：在如权利要求1所述的偏振相关损耗补偿器处接收在传播通道内经受偏振相关损耗的输入信号，在所述传播通道内，所述输入信号的两个偏振状态中的第一偏振状态比所述两个偏振状态中的第二偏振状态衰减得多；旋转所述偏振相关损耗补偿器，以使所述输入信号相对于所述偏振相关损耗补偿器的输入表面的入射角是有效的，以补偿所述输入信号在所述传播通道内的偏振相关损耗；以及补偿所述输入信号的偏振相关损耗。5.如权利要求4所述的方法，其中，补偿所述输入信号的偏振相关损耗包括，使所述输入信号的两个偏振状态中的第二偏振状态衰减得比所述两个偏振状态中的第一偏振状态多。6.如权利要求4所述的方法，其中，旋转所述偏振相关损耗补偿器包括如下至少一个：绕与所述输入信号的传播方向正交的第一旋转轴旋转所述偏振相关损耗补偿器、或绕与所述输入信号的传播方向和所述第一旋转轴正交的第二旋转轴旋转所述偏振相关损耗补偿器。7.如权利要求4所述的方法，其中，补偿所述输入信号的偏振相关损耗包括，通过包括折射率交替的材料层的部分反射涂层、基板、和...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜聚有，陈凡，姬海峰，张丽，崔伟龙，
申请(专利权)人：菲尼萨公司，
类型：发明
国别省市：美国;US