本实用新型专利技术公开了一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，包括送料机构和清洗机构，所述送料机构包括伸缩杆、旋转轴、固定槽、多孔容纳盘和槽盖，所述伸缩杆通过旋转轴与固定槽相连，所述若干多孔容纳盘重叠放置在固定槽内，所述槽盖固定于固定槽的槽口处；所述清洗机构包括清洗槽和超声波振片，所述清洗槽呈正方形结构，所述超声波振片分别设置于清洗槽的五个侧面的正中心处。本实用新型专利技术通过将热敏电阻片式元件放置在多孔容纳盘中，将容纳盘叠加放置于固定槽内，通过槽盖固定，伸缩杆带动固定槽向下进入清洗槽内，达到预定清洗区域，进行超声波清洗，由于热敏电阻片式元件尺寸不一，体积较小，固定槽通过旋转轴进行一定角度的旋转，对热敏电阻片式元件做进一步的清洗。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于电子元件加工领域，具体涉及一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置。
技术介绍
热敏电阻是敏感元件的一类，按照温度系数不同分为正温度系数热敏电阻器和负温度系数热敏电阻器。热敏电阻器的典型特点是对温度敏感，不同的温度下表现出不同的电阻值，正温度系数热敏电阻器在温度越高时电阻值越大，负温度系数热敏电阻器在温度越高时电阻值越低，他们同属于半导体器件。热敏电阻是开发早、种类多、发展较成熟的敏感元器件，热敏电阻由半导体陶瓷材料组成，温度变化会造成大的阻值改变，因此他是最灵敏的温度传感器。但热敏电阻的线性度极差，且受生产工艺影响较大。在电子产品的生产过程中，需要对各种热敏电阻进行清洗，以备后续加工，但由于热敏电阻体积小，清洗不当容易对热敏电阻造成损坏，特别是高精度热敏电阻片式元件，清洗不当或者清洗不干净，容易对其参数造成影响，导致产品不良率升高，增加企业成本。
技术实现思路
技术目的:针对上述现有技术存在的问题和不足，本技术的目的是提供一种用于高精度电子元件的超声波清洗装置，特别适用于高精度热敏电阻片式元件，实现自动送料、清洗功能。技术方案:本技术公开了一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，包括送料机构和清洗机构，所述送料机构包括伸缩杆、旋转轴、固定槽、多孔容纳盘和槽盖，所述伸缩杆通过旋转轴与固定槽相连，所述若干多孔容纳盘重叠放置在固定槽内，所述槽盖固定于固定槽的槽口处；所述清洗机构包括清洗槽和超声波振片，所述清洗槽呈正方形结构，所述超声波振片分别设置于清洗槽的五个侧面的正中心处。本技术通过将热敏电阻片式元件放置在多孔容纳盘中，将容纳盘叠加放置于固定槽内，通过槽盖固定，伸缩杆带动固定槽向下进入清洗槽内，达到预定清洗区域，进行超声波清洗，由于热敏电阻片式元件尺寸不一，体积较小，固定槽通过旋转轴进行一定角度的旋转，对热敏电阻片式元件做进一步的清洗。作为本技术的进一步优化，本技术所述的固定槽和槽盖的表面均由网格构成，所述网格的空隙小于电子元件的尺寸，在保证电子元件不会漏出的前提下，可对电子元件进行各个角度的清洗，提高清洗效率。作为本技术的进一步优化，本技术所述的旋转轴带动固定槽旋转的旋转角度为直角或者锐角。作为本技术的进一步优化，本技术所述的清洗槽正方形结构的正中心区域为预定清洗区域，配合位于分别设置于清洗槽的五个侧面的正中心处的超声波振片，使得在预定清洗区域的电子元件清洗均匀。作为本技术的进一步优化，本技术所述的清洗槽的侧面设有加热片，能够加快清洗工作效率和提高清洗质量。作为本技术的进一步优化，本技术所述的多孔容纳盘的孔空间大小与电子元件尺寸相匹配，对电子元件进行第一重固定，配合固定槽，能够有效保证在清洗过程中，电子元件不会因为到处碰撞而造成不必要的损伤。有益效果:本技术与现有技术相比，具有以下优点:本技术通过采用固定槽、槽盖和伸缩杆实现了自动送料的功能，通过设置在清洗槽各个侧面上的超声波振板对位于预定清洗区域的电子元件进行清洗，同时配合清洗槽内的加热片，能够有效提高清洗效率，本技术结构简单，操作方便，制作成本较低，且清洗效果佳。说明书附图图1为本技术的送料机构结构示意图；图2为本技术的清洗机构结构示意图。【具体实施方式】下面结合说明书附图进一步阐明本技术。如图1所示，本技术的一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，包括送料机构和清洗机构，送料机构包括伸缩杆11、旋转轴12、固定槽13、多孔容纳盘14和槽盖15，伸缩杆11通过旋转轴12与固定槽13相连，旋转轴12带动固定槽13旋转的旋转角度为直角或者锐角，多孔容纳盘14的孔空间大小与电子元件尺寸相匹配，对电子元件进行第一重固定，配合固定槽13，能够有效保证在清洗过程中，电子元件不会因为到处碰撞而造成不必要的损伤，若干多孔容纳盘14重叠放置在固定槽13内，槽盖15固定于固定槽13的槽口处，固定槽13和槽盖15的表面均由网格构成，该网格的空隙小于电子元件的尺寸，在保证电子元件不会漏出的前提下，可对电子元件进行各个角度的清洗，提高清洗效率。如图2所示，本技术的清洗机构包括清洗槽21和超声波振片22，清洗槽21呈正方形结构，超声波振片22分别设置于清洗槽21的五个侧面的正中心处，清洗槽21正方形结构的正中心区域为预定清洗区域23，配合超声波振片22，使得在预定清洗区域23的电子元件清洗均匀，本技术的清洗槽21的侧面设有加热片，能够加快清洗工作效率和提高清洗质量，本技术通过将电子元件放置在多孔容纳盘14中，将容纳盘叠加放置于固定槽13内，通过槽盖15固定，伸缩杆11带动固定槽13向下进入清洗槽21内，达到预定清洗区域23，进行超声波清洗，由于电子元件尺寸不一，体积较小，固定槽13通过旋转轴12进行一定角度的旋转，对电子元件做进一步的清洗。【主权项】1.一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，其特征在于:包括送料机构和清洗机构，所述送料机构包括伸缩杆(11)、旋转轴(12)、固定槽(13)、多孔容纳盘(14)和槽盖(15)，所述伸缩杆(11)通过旋转轴(12)与固定槽(13)相连，若干所述多孔容纳盘(14)重叠放置在固定槽(13)内，所述槽盖(15)固定于固定槽(13)的槽口处；所述清洗机构包括清洗槽(21)和超声波振片(22 )，所述清洗槽(21)呈正方形结构，所述超声波振片(22 )分别设置于清洗槽(21)的五个侧面的正中心处。2.根据权利要求1所述的一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，其特征在于:所述固定槽(13)和槽盖(15)的表面均由网格构成，所述网格的空隙小于电子元件的尺寸。3.根据权利要求1所述的一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，其特征在于:所述旋转轴(12)带动固定槽(13)旋转的旋转角度为直角或者锐角。4.根据权利要求1所述的一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，其特征在于:所述清洗槽(21)正方形结构的正中心区域为预定清洗区域(23)。5.根据权利要求1所述的一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，其特征在于:所述清洗槽(21)的侧面设有加热片。6.根据权利要求2所述的一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，其特征在于:所述多孔容纳盘(14)的孔空间大小与电子元件尺寸相匹配。【专利摘要】本技术公开了一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，包括送料机构和清洗机构，所述送料机构包括伸缩杆、旋转轴、固定槽、多孔容纳盘和槽盖，所述伸缩杆通过旋转轴与固定槽相连，所述若干多孔容纳盘重叠放置在固定槽内，所述槽盖固定于固定槽的槽口处；所述清洗机构包括清洗槽和超声波振片，所述清洗槽呈正方形结构，所述超声波振片分别设置于清洗槽的五个侧面的正中心处。本技术通过将热敏电阻片式元件放置在多孔容纳盘中，将容纳盘叠加放置于固定槽内，通过槽盖固定，伸缩杆带动固定槽向下进入清洗槽内，达到预定清洗区域，进行超声波清洗，由于热敏电阻片式元件尺寸不一，体积较小，固定槽通过旋转轴进行一定角度的旋转，对热敏电阻片式元件做进一步的清洗。【IPC分类】B08B3-12【公本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于高精度热敏电阻片式元件的超声波清洗装置，其特征在于：包括送料机构和清洗机构，所述送料机构包括伸缩杆（11）、旋转轴（12）、固定槽（13）、多孔容纳盘（14）和槽盖（15），所述伸缩杆（11）通过旋转轴（12）与固定槽（13）相连，若干所述多孔容纳盘（14）重叠放置在固定槽（13）内，所述槽盖（15）固定于固定槽（13）的槽口处；所述清洗机构包括清洗槽（21）和超声波振片（22），所述清洗槽（21）呈正方形结构，所述超声波振片（22）分别设置于清洗槽（21）的五个侧面的正中心处。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈勇，
申请(专利权)人：江苏兴顺电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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