本发明专利技术提供具备如下特性的负型感光性树脂组合物：可以对固化膜、尤其是分隔壁的上表面赋予良好的拒墨性，并且，即便不对由分隔壁包围而成的开口部内进行UV/O3照射处理，拒墨剂也不易残留，墨可以均匀地润湿扩展而不会产生不均。一种负型感光性树脂组合物，其特征在于，包含：具有光固化性的碱溶性树脂或者碱溶性单体(A)、光聚合引发剂(B)、具有氟原子的拒墨剂(C)和化合物(D)，所述化合物(D)为水解性硅烷化合物混合物的部分水解缩合物、且不含氟原子，所述水解性硅烷化合物混合物包含：具有巯基和水解性基团的水解性硅烷化合物、和/或具备具有烯属双键的基团和水解性基团的水解性硅烷化合物。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】负型感光性树脂组合物、树脂固化膜、分隔壁以及光学元件
本专利技术涉及负型感光性树脂组合物、树脂固化膜、分隔壁以及光学元件。
技术介绍
在有机EL(Electro-Luminescence；电致发光)元件等光学元件的制造中，有时使用将发光层等有机层作为点、用喷墨(IJ)法进行图案印刷的方法。在上述方法中，沿着想要形成的点的轮廓设置分隔壁，在由该分隔壁包围而成的分区(以下，称为“开口部”)内注入包含有机层的材料的墨，对其进行干燥和/或加热等，从而形成期望的图案的点。在上述方法中，为了防止相邻的点间的墨的混合以及均匀涂布用于形成点的墨，需要分隔壁上表面具有拒墨性，另一方面，需要包含分隔壁侧面的由分隔壁包围而成的用于形成点的开口部具有亲墨性。为了得到在上表面具有拒墨性的分隔壁，例如，已知使用添加有在制造时迁移到上表面的拒墨剂的感光性树脂组合物、通过光刻法形成与点图案相对应的分隔壁的方法。在该方法中，存在显影后包含拒墨剂的感光性树脂组合物的残渣残留在开口部内的倾向，在因该残渣而不能确保开口部的亲墨性方面成为问题。因此，通常在墨注入前对基材的表面整体进行UV(紫外线)/O3(臭氧)照射处理等，从而进行开口部内的显影残渣的去除。然而，在UV/O3照射处理中，存在去除上述开口部内的显影残渣的同时分隔壁的上表面被去除的情况，难以兼顾开口部的亲墨性与分隔壁上表面的拒墨性。因此，为了实现这些性能的兼顾，在专利文献1中，公开了一种负型感光性树脂组合物，其表面自由能足够小，所形成的分隔壁的上表面具有良好的拒墨性，并且即便经过UV/O3照射处理，其拒墨性也保持良好，所述负型感光性树脂组合物包含由含氟水解性硅烷化合物的水解缩合物组成的有机硅系的拒墨剂。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2010/013816号
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，专利文献1中记载的感光性树脂组合物以UV/O3照射处理作为前提，从制造工序简化的观点出发，谋求即便不进行UV/O3照射处理也可以形成亲墨性优异的开口部内的感光性组合物。本专利技术的目的在于提供如下的负型感光性树脂组合物，即，所述负型感光性树脂组合物能够对树脂固化膜、尤其是分隔壁的上表面赋予良好的拒墨性，并且，即便不对由分隔壁包围而成的开口部内进行UV/O3照射处理，拒墨剂也不易残留，墨可以均匀地润湿扩展而不会产生不均，可以确保它们与形成它们的基板的良好的密合性。本专利技术的目的在于提供在上表面具有良好的拒墨性并且与基板的密合性优异的树脂固化膜以及分隔壁。本专利技术的目的在于提供具有如下点的光学元件，即，所述点通过墨在由与基板的密合性优异的分隔壁分隔成的开口部均匀地润湿扩展而不会产生不均，从而精度良好地形成。用于解决问题的方案本专利技术提供具有以下[1]～[12]的技术方案的树脂固化膜、负型感光性树脂组合物、分隔壁以及光学元件。[1]一种树脂固化膜，其特征在于，其为形成于基板上的树脂固化膜，在利用X射线光电子能谱法(XPS)进行的组成分析中，前述树脂固化膜的表面的氟原子浓度相对于碳原子浓度的比值[F/C]为0.1以上，在利用将Ar簇用于溅射离子的飞行时间型二次离子质谱法(TOF-SIMS)的前述树脂固化膜的厚度方向的质谱中，Si2O5H-的强度轮廓图在前述树脂固化膜的除由下述(1)规定的表面区域之外的厚度范围中，在由下述(2)规定的与前述基板的界面区域具有强度的最大值，前述强度的最大值相对于除前述表面区域和前述界面区域之外的厚度范围内的强度的最小值的比值[Si2O5H-最大值/Si2O5H-最小值]超过1且在10以下，并且，在前述质谱中，前述树脂固化膜的除表面区域以及与前述基板的界面区域之外的厚度范围内的Si2O5H-的强度的平均值相对于C-的强度的平均值的比值[Si2O5H-平均值/C-平均值]为0.001以上。(1)前述树脂固化膜的表面区域是指，以前述树脂固化膜的表面为起点，从该表面向基板侧直至100nm位置为止的区域。(2)前述树脂固化膜的与前述基板的界面区域是指，在TOF-SIMS的厚度方向的质谱中，以前述基板的主要成分或者特有成分的二次离子的强度的上升起始点处的距前述树脂固化膜表面的位置为起点，直至前述基板的主要成分或者特有成分的二次离子的强度的上升终止点处的距前述树脂固化膜表面的位置为止的区域。[2]一种负型感光性树脂组合物，其特征在于，包含：具有光固化性的碱溶性树脂或者碱溶性单体(A)；光聚合引发剂(B)；具有氟原子的拒墨剂(C)；和化合物(D)，前述化合物(D)为水解性硅烷化合物混合物(M1)的部分水解缩合物、且不含氟原子，前述水解性硅烷化合物混合物(M1)包含：具有巯基和水解性基团的水解性硅烷化合物、和/或具备具有烯属双键的基团和水解性基团的水解性硅烷化合物。[3]根据[2]的负型感光性树脂组合物，其中，前述拒墨剂(C)中的氟原子的含有率为1～40质量％。[4]根据[2]或[3]的负型感光性树脂组合物，其中，前述拒墨剂(C)为水解性硅烷化合物混合物(M2)的部分水解缩合物，前述水解性硅烷化合物混合物(M2)包含：具有氟亚烷基和/或氟烷基、以及水解性基团的水解性硅烷化合物。[5]根据[4]的负型感光性树脂组合物，其中，前述水解性硅烷化合物混合物(M2)包含在硅原子上键合有4个水解性基团的水解性硅烷化合物。[6]根据[2]～[5]中任一项的负型感光性树脂组合物，其还包含在1分子中具有2个以上烯属双键且不具有酸性基团的交联剂(E)。[7]根据[2]～[6]中任一项的负型感光性树脂组合物，其还包含溶剂(F)。[8]一种树脂固化膜，其特征在于，使用前述[2]～[7]中任一项的负型感光性树脂组合物而形成。[9]一种树脂固化膜，其特征在于，其为形成于基板上的[8]的树脂固化膜，在利用X射线光电子能谱法(XPS)进行的组成分析中，前述树脂固化膜的表面的氟原子浓度相对于碳原子浓度的比值[F/C]为0.1以上，在利用将Ar簇用于溅射离子的飞行时间型二次离子质谱法(TOF-SIMS)的前述树脂固化膜的厚度方向的质谱中，Si2O5H-的强度轮廓图在前述树脂固化膜的除由下述(1)规定的表面区域之外的厚度范围中，在由下述(2)规定的与前述基板的界面区域具有强度的最大值，前述强度的最大值相对于除前述表面区域和前述界面区域之外的厚度范围内的强度的最小值的比值[Si2O5H-最大值/Si2O5H-最小值]超过1且在10以下，并且，在前述质谱中，前述树脂固化膜的除表面区域以及与前述基板的界面区域之外的厚度范围内的Si2O5H-的强度的平均值相对于C-的强度的平均值的比值[Si2O5H-平均值/C-平均值]为0.001以上。(1)前述树脂固化膜的表面区域是指，以前述树脂固化膜的表面为起点，从该表面向基板侧直至100nm位置为止的区域。(2)前述树脂固化膜的与前述基板的界面区域是指，在TOF-SIMS的厚度方向的质谱中，以前述基板的主要成分或者特有成分的二次离子的强度的上升起始点处的距前述树脂固化膜表面的位置为起点，直至前述基板的主要成分或者特有成分的二次离子的强度的上升终止点处的距前述树脂固化膜表面的位置为止的区域。[10]一种分隔壁，其特征在于，形成为将基板表面分隔成用于形成点的多个分区的形状，前述分隔壁包含前本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种树脂固化膜，其特征在于，其为形成于基板上的树脂固化膜，在利用X射线光电子能谱法(XPS)进行的组成分析中，所述树脂固化膜的表面的氟原子浓度相对于碳原子浓度的比值[F/C]为0.1以上，在利用将Ar簇用于溅射离子的飞行时间型二次离子质谱法(TOF‑SIMS)的所述树脂固化膜的厚度方向的质谱中，Si2O5H‑的强度轮廓图在所述树脂固化膜的除由下述(1)规定的表面区域之外的厚度范围中，在由下述(2)规定的与所述基板的界面区域具有强度的最大值，所述强度的最大值相对于除所述表面区域和所述界面区域之外的厚度范围内的强度的最小值的比值[Si2O5H‑最大值/Si2O5H‑最小值]超过1且在10以下，并且，在所述质谱中，所述树脂固化膜的除表面区域以及与所述基板的界面区域之外的厚度范围内的Si2O5H‑的强度的平均值相对于C‑的强度的平均值的比值[Si2O5H‑平均值/C‑平均值]为0.001以上，(1)所述树脂固化膜的表面区域是指，以所述树脂固化膜的表面为起点，从该表面向基板侧直至100nm位置为止的区域，(2)所述树脂固化膜的与所述基板的界面区域是指，在TOF‑SIMS的厚度方向的质谱中，以所述基板的主要成分或者特有成分的二次离子的强度的上升起始点处的距所述树脂固化膜表面的位置为起点，直至所述基板的主要成分或者特有成分的二次离子的强度的上升终止点处的距所述树脂固化膜表面的位置为止的区域。...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.10.31 JP 2012-2398801.一种树脂固化膜，其特征在于，其为形成于基板上的树脂固化膜，在利用X射线光电子能谱法(XPS)进行的组成分析中，所述树脂固化膜的表面的氟原子浓度相对于碳原子浓度的比值[F/C]为0.1以上，在利用将Ar簇用于溅射离子的飞行时间型二次离子质谱法(TOF-SIMS)的所述树脂固化膜的厚度方向的质谱中，Si2O5H-的强度轮廓图在所述树脂固化膜的除由下述(1)规定的表面区域之外的厚度范围中，在由下述(2)规定的与所述基板的界面区域具有强度的最大值，所述强度的最大值相对于除所述表面区域和所述界面区域之外的厚度范围内的强度的最小值的比值[Si2O5H-最大值/Si2O5H-最小值]超过1且在10以下，并且，在所述质谱中，所述树脂固化膜的除表面区域以及与所述基板的界面区域之外的厚度范围内的Si2O5H-的...
【专利技术属性】
技术研发人员：松浦启吾，高桥秀幸，川岛正行，小林大介，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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