【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光聚合性液晶组合物以及使用该光聚合性液晶组合物的光学补偿膜、光学补偿层叠膜、电极基板、液晶装置用基板及液晶装置。
技术介绍
在液晶装置中,为了扩大视角等,使用具有双折射性、用于控制光的相位的光学补偿膜(也称为相位差膜)。以往,上述光学补偿膜和偏振膜一般安装在液晶晶胞的外侧,光学补偿膜的厚度为50~150μm左右。近年来,研究了通过将光学补偿层叠膜设置在液晶晶胞的内部来实现液晶装置以及搭载该液晶装置的电子设备的薄型化。作为光学补偿层叠膜的形态,可例举:在聚酰亚胺等取向膜上层叠双轴片的光学补偿层叠膜(i)、在聚酰亚胺等取向膜上依次层叠显示出正的单轴各向异性的光学补偿膜(以下也称为正A片)和显示出负的单轴各向异性的光学补偿膜(以下也称为负C片)的光学补偿层叠膜(ii)、在负C片上隔着取向膜层叠正A片的光学补偿层叠膜(iii)、以及在起到取向膜的作用的负C片上直接层叠正A片的光学补偿层叠膜(iv)等。专利文献1和2中公开了具备上述光学补偿层叠膜(iii)或(iv)的液晶装置用基板。专利文献1的实施例1和2中,在基板上涂布聚酯,对所得涂膜进行加热干燥和烧成后,实施摩擦处理,形成具有取向膜的作用的负C片。然后,在负C片上涂布联苯类光聚合性液晶,加热干燥后,实施光聚合,形成正A片(0025和0026段)。专利文献1的实施例1和2中,都仅使用一种光聚合性液晶作 ...
【技术保护点】
一种光聚合性液晶组合物,它是显示出正的单轴各向异性的光学补偿膜形成用的光聚合性液晶组合物,其特征在于,包含具有1个光聚合反应性基团的单官能光聚合性液晶(A)、和具有2个光聚合反应性基团的双官能光聚合性液晶(B)。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.11.07 JP 2012-2450731.一种光聚合性液晶组合物,它是显示出正的单轴各向异性的光学补
偿膜形成用的光聚合性液晶组合物,其特征在于,
包含具有1个光聚合反应性基团的单官能光聚合性液晶(A)、和具有2
个光聚合反应性基团的双官能光聚合性液晶(B)。
2.如权利要求1所述的光聚合性液晶组合物,其中,以质量比95/5~
30/70含有所述单官能光聚合性液晶(A)和所述双官能光聚合性液晶(B)。
3.如权利要求1或2所述的光聚合性液晶组合物,其中,单官能光聚合
性液晶(A)以下式(1-1)表示;
CH2=CR11-COO-(E11)m1-Cy-Y1-Cy-E12-R12···(1-1)
式中,R11:氢原子或甲基;R12:碳数1~8的烷基;Y1:-OCO-或-COO-;
m1:0或1;E11和E12:分别独立地为1,4-亚苯基或反-1,4-亚环己基;Cy:反
-1,4-亚环己基;其中,所述的1,4-亚苯基和反-1,4-亚环己基中的氢原子
可以被氟原子、氯原子或甲基取代。
4.如权利要求1或2所述的光聚合性液晶组合物,其中,单官能光聚合
性液晶(A)以下式(1-2)表示;
CH2=CR21-COO-(L2)k2-E21-E22-E23-E24-R22···(1-2)
式中,R21:氢原子或甲基;R22:碳原子数1~8的烷基或氟原子;k2:0
或1;L2:-(CH2)p2O-或-(CH2)q2-,其中,p2和q2分别独立地为2~8的整数;
E21:1,4-亚苯基;E22、E23和E24:分别独立地为1,4-亚苯基或反-1,4-亚环己
基,且E22和E23中的至少一方为反-1,4-亚环己基;其中,所述的1,4-亚苯基
和反-1,4-亚环己基中的与碳原子结合的氢原子可以被氟原子、氯原子或甲
基取代。
5.如权利要求1或2所述的光聚合性液晶组合物,其中,单官能光聚合
性液晶(A)以下式(1-3)表示;
CH2=CR31-COO-(L3)k3-E31-E32-E33-R32···(1-3)
式中,R31:氢原子或甲基;R32:碳数1~8的烷基;k3:0或1;L3:-(CH2)p3O-、
-Cy-COO-或-Cy-OCO-,其中,Cy为反-1,4-亚环己基,p3为2~8的整数;E31、
E32和E33:分别独立地为1,4-亚苯基或反-1,4-亚环己基,其中,E31、E32和E33中的至少一个为反-1,4-亚环己基,且L3为-Cy-OCO-时的E31为反-1,4-亚环
己基,L3为-(CH2)p3O-或k3为0时的E31和E33分别为1,4-亚苯基,E32为反-1,4-
亚环己基;其中,所述的1,4-亚苯基和反-1,4-亚环己基中的与碳原子结合
的氢原子可以被氟原子、氯原子或甲基取代。
6.如权利要求1~5中任一项所述的光聚合性液晶组合物,其中,双官
能光聚合性液晶(B)以下式(2)表示;
Q1-Z1-A1-Z3-M-Z4-A2-Z2-Q2···(2)
式中,Q1和Q2:分别独立地为光聚合反应性基团;Z1、Z2、Z3和Z4:分别
独立地为单键或二价连接基团;A1和A2:分别独立地为碳原子数2~20的间
隔基;M:介晶基团。
7.如权利要求6所...
【专利技术属性】
技术研发人员:中村清久,冈田悟史,田原慎哉,
申请(专利权)人:旭硝子株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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