一种可水显影免化学处理热敏版及其制备方法技术

技术编号:11686160 阅读:128 留言:0更新日期:2015-07-06 18:29
本发明专利技术公开了一种可水显影免化学处理热敏版及其制备方法,具体涉及一种可同时发生阳离子交联和自由基聚合,绿色环保的可水显影免化学处理热敏版及其制备方法。要解决的技术问题是现有免化学处理热敏CTP版技术中存在的版材水显影能力和耐印能力差。本发明专利技术包括支持体、热敏层和保护层,所述的热敏层包括下述重量份计的原料:水溶性热交联共聚物30-70份、含亲水基的预聚体10-50份、多官能团单体10-30份、阳离子引发剂1-20份、红外光辐射吸收染料1-20份。采用这样的技术方案后的本发明专利技术,在用红外激光扫描成像后可直接水显影,成像反差高,可上机前的检版,并可得到高的耐印力。

【技术实现步骤摘要】
一种可水显影免化学处理热敏版及其制备方法
本专利技术涉及平版印刷
,具体涉及一种可水显影免化学处理热敏版及其制作方法。
技术介绍
平版印刷技术已从传统的激光照排胶片拷贝PS版技术全面走向计算机直接制版技术(简称CTP技术),CTP版材也逐渐普及。CTP版材种类很多,比较普及的包括银盐扩散CTP版材、UV-CTP版、紫激光聚合CTP版材、热敏CTP版材等。其中使用最广泛的是热敏CTP版材。CTP制版技术需要一个用含多种毒性有机物或强碱的显影液来显影的过程,存在着有毒有害废液处理所带来环境问题。目前,开发新一代绿色、环保免化学处理CTP版是世界版材开发的热点。开发绿色、环保免化学处理CTP版技术路线很多,可分为热烧蚀技术、极性转技术和热熔技术。热烧蚀技术版材采用铝板基或聚酯基,利用等离子金属沉积技术制备版材。但烧蚀版材存在残渣问题。Presstek公司发表了具有夹层结构的烧蚀版材,解决了烧蚀残渣问题。爱克发公司开发出具有银沉积层的烧蚀技术无处理CTP版,该版材由具有亲水表面的支持体(铝、PET)、可被烧蚀的金属沉积层和交联疏水层构成。金属沉积层是利用金属沉积技术形成的金属膜,该金属可为银、钛等。交联疏水层由辐射或热固化,使不饱和单体交联,也可以通过热敏树脂交联形成固化层,或可通过感脂液处理得到。红外激光能量引起银层中的银颗粒发生表面张力的变化,形成蓬松的银颗粒,残留在版材表面上,因而用真空吸附或液体很容易除去残渣,露出铝版亲水表面形成亲水区,而未曝光交联层不溶于液体,形成亲油区。极性转换技术:版材由支持体和热敏成像层组成。热敏成像层含有光热换剂及热敏可转换聚合物(如聚四氢吡喃甲基丙烯酸酯、带有芳基重氮磺酸基乙烯共聚物)。采用热敏可转换聚合物形成热敏材料。成像前,热敏层溶于水溶液。成像时,红外光辐射吸收染料吸收激光能量,产生的热引起重氮基分解,使被曝光热敏共聚物由亲水变为疏水,从而形成亲油区。而未曝光区热敏共聚物仍溶于水,从而形成亲水区。制约此技术发展的因素仍然是印刷适性。其水墨部分都为药膜涂层,印刷控制与耐印力都受到很大制约,实现真正大规模商品化应用还有较大距离。热熔技术:热敏成像中红外光辐射吸收染料把激光能量转化为热能,产生的热使分散在交联亲水层中的热塑性聚合物颗粒的温度高于其凝胶湿度,引起热塑性聚合物颗粒发生凝集反应,曝光区由亲水性变成疏水亲油性。而未曝光区仍溶于PH≥4的水溶液,形成亲水区。其印版空白部分是磨砂与氧化处理后的铝基,而不是药膜涂层,印刷适性与普通版材没有任何区别。免处理热敏版包括在机处理技术和免化学处理技术。在机处理技术,其原理是:预涂平印版材在通过CTP制版机扫描制版后,其用于印刷的空白部位的多余涂层是在印刷机上通过润版水和油墨的作用下去除的,多余的涂层去除后被过版纸带走,空白部位是亲水性的铝版基,这种方式实现了制版过程无污物排放的环保目的。但是由于该类版材曝光后直接上机印刷,不方便像传统CTP版材那样用显影机显影后对版材上的图像进行上机前的检测,以便于在装版到印刷机前检测进行图像检测和在装版到印刷机上时识别各种色版,防止印刷图像错误和装错色版位置的现象发生,有一定的使用局限性。另一种方式称“免化学处理”技术。以可水显影技术为代表的免化学处理热敏版技术,这种方式的优点是既实现了比较环保排放的效果,同时也可以像常规CTP版材一样在平印版上机印刷之前进行网点的校正,以免平印版上机后再瞎版。开发免化学处理CTP版,关键技术之一是版材前体即功能有机组成的开发。EP0980754介绍了羧基脱羧实现亲水疏水转变技术,但相转变化合物分子量太大,能量阈值变大,脱羧困难,所以该技术版材耐印力差。WO94/23954介绍了一种微胶囊热熔技术,激光热熔使微胶囊破坏,亲水物质破坏转为疏水,但破损物易造成印刷空白处污染;US4004924介绍一种热塑性疏水颗粒和亲水粘结剂的混合体,但不耐印;爱克发EP2006-5-2406114475.4介绍一种半连续乳液法制造苯乙烯、丙烯腈乳液热塑性颗粒,能实现热熔,但不含自乳化亲水性基团,颗粒控制技术要求高,乳化乳液稳定性较差,需加入抗微生剂,显影时需加入大量表面活性物质和显影胶等物质协助显影,产生大量显影废液;柯达US2005-8-311/196,124、介绍一种亲水性的粘结剂,分子为一维线性结构,耐印力不高;柯达US2006-7-2711/494,235介绍一种含亲水基和含烯丙基酯支链,是通过羧基侧基和烯丙基卤化物在碱作用下缩合反应而成,但副反应副产物较多,后处理麻烦,亲水性差,而且酯基仍不耐印。目前,进一步提高可水显影免化学处理热敏CTP版的性能,特别是提高版材的水显影能力和耐印能力是水显影免化学处理热敏CTP版材开发的热点。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是现有免化学处理热敏CTP版技术中存在的版材水显影能力和耐印能力差,提供一种可同时发生阳离子交联和自由基聚合,绿色环保的可水显影免化学处理热敏版及其制备方法。为实现上述目的,本专利技术采用下述技术方案:一种可水显影免化学处理热敏版,它包括支持体、热敏层和保护层,所述的热敏层包括下述重量份计的原料:水溶性热交联共聚物30-70份、含亲水基的预聚体10-50份、多官能团单体10-30份、阳离子引发剂1-20份、红外光辐射吸收染料1-20份。所述的热敏层包括下述重量份计的原料:水溶性热交联共聚物40-60份、含亲水基的预聚体20-40份、多官能团单体15-20份、阳离子引发剂5-15份、红外光辐射吸收染料5-15份。所述的水溶性热交联共聚物具有如下结构:其中,R1、R2、R4为H原子或甲基;R3为或R5为O原子或OCH2CH2NHCOO,n为20-60的整数;a、b、c、d为对应共聚单元的重量份,a所占重量份为40-70份,b所占重量份为10-30份,c所占重量份为10-30份,d所占重量份为10-30份。所述的含亲水基的预聚体具有如下结构:所述的多官能团单体为多官能团丙烯酸类单体或多官能团聚氨酯丙烯酸类单体。所述的阳离子引发剂为碘鎓盐、硫鎓盐的一种或至少两种;阳离子引发剂热分解温度为150-200℃。所述的红外光辐射吸收染料为吸收峰在750-850nm的菁染料。所述的热敏层涂布干重是8-15mg/dm2,所述的保护层干重是5-20mg/dm2。一种可水显影免化学处理热敏版的制作方法,其特征在于:它包括以下步骤:(1)处理铝版基支持体;(2)在处理后的铝版基支持体上涂布热敏层;(3)在热敏层上的涂布保护层。所述的处理铝版基支持体包括对铝版基支持体的电解粗化和阳极氧化以及进行的封孔处理,处理后铝版基支持体中心线平均粗度为0.4-0.6μm。本专利技术可同时发生阳离子交联和自由基聚合,绿色环保,感光度高、网点还原性好,在用红外激光扫描成像后可直接水显影,成像反差高,可上机前的检版,并可得到高的耐印力。具有双重成像能力,可同时实现阳离子交联和自由基聚合。激光热能量通过红外光辐射吸收染料将能量转移给阳离子引发剂,阳离子引发剂产生异裂和均裂,异裂放出阳离子,使水溶性热交联共聚物中的环氧基交联聚合,同时均裂产生的自由基使含亲水基的预聚体和多官能团单体发生自由基聚合,实现双重热敏成像,与单一环氧基交联或自由基聚合相比,提高本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种可水显影免化学处理热敏版,其特征在于:它包括支持体、热敏层和保护层,所述的热敏层包括下述重量份计的原料:水溶性热交联共聚物30‑70份、含亲水基的预聚体10‑50份、多官能团单体10‑30份、 阳离子引发剂1‑20份、红外光辐射吸收染料1‑20份。

【技术特征摘要】
1.一种可水显影免化学处理热敏版,其特征在于:它包括支持体、热敏层和保护层,所述的热敏层包括下述重量份计的原料:水溶性热交联共聚物30-70份、含亲水基的预聚体10-50份、多官能团单体10-30份、阳离子引发剂1-20份、红外光辐射吸收染料1-20份;所述的水溶性热交联共聚物具有如下结构:其中,R1、R2、R4为H原子或甲基;R3为或;R5为O原子或OCH2CH2NHCOO,n为20-60的整数;a、b、c、d为对应共聚单元的重量份,a所占重量份为40-70份,b所占重量份为10-30份,c所占重量份为10-30份,d所占重量份为10-30份。2.根据权利要求1所述的可水显影免化学处理热敏版,其特征在于:所述的热敏层包括下述重量份计的原料:水溶性热交联共聚物40-60份、含亲水基的预聚体20-40份、多官能团单体15-20份、阳离子引发剂5-15份、红外光辐射吸收染料5-15份。3.根据权利要求1或2所述的可水显影免化学处理热敏版,其特征在于:所述的含亲水基的预聚体具有如下结构:。4.根据权利要求1或2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:宋小伟张刚杨青海高峰刘松玲张攀
申请(专利权)人:乐凯华光印刷科技有限公司
类型:发明
国别省市:河南;41

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