聚焦环的矫正设备制造技术

一种聚焦环的矫正设备，在承载聚焦环的基座上安装有矫正支杆，所述矫正支杆通过转轴活动连接在所述基座上，所述矫正支杆的一端设置施压支点；位于所述矫正支杆的一侧设有矫正判定部件。所述矫正支杆的施压支点抵住聚焦环的待矫正部位，之后绕所述转轴转动矫正支杆，向所述聚焦环施加力，以矫正聚焦环，使聚焦环的形变部分回复原位。矫正过程中，当所述聚焦环碰触所述矫正判定部件时，表明所述聚焦环矫正完毕。所述矫正设备基于杠杆原理可轻松而快捷地致使聚焦环形变，矫正判定部件可有效判断聚焦环是否矫正到位，从而快捷而高效地完成聚焦环矫正。

【技术实现步骤摘要】
聚焦环的矫正设备
本专利技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种聚焦环的矫正设备。
技术介绍
溅射是现代半导体芯片生产过程中常用的一种薄膜淀积技术，其利用高能粒子轰击具有高纯度的靶材，使靶材原子从表面逸出并均匀地沉积于衬底上形成均匀的薄膜层，用于在衬底上形成集成电路的各阻挡层、互联线以及接触层。然而在溅射过程中，由于高能粒子由各个方向轰击靶材，导致从靶材表面逸出的靶材原子会从各个方向脱离靶材表面，之后沿直线到达晶圆表面，其无法保证衬底各部分沉积的薄膜层的均匀性，从而影响各薄膜层性能。为此，参考图1所示，为了提高各薄膜层的沉积均匀性，在溅射过程中通常会在靶材1和晶圆2之间设置一个聚焦环3，所述聚焦环3可有效约束靶材原子的运动轨迹，使得从靶材1表面溅射出来的朝各方向运动的靶材原子被聚焦到晶圆2上方，并均匀的沉积在晶圆2上，从而提高晶圆2上方沉积的薄膜层的均匀性。聚焦环3的内外表面还可形成有花纹，以吸附溅射过程中产生的大量颗粒物，从而起到净化的作用。在使用的过程中，在聚焦环的靠近靶材的一侧会附着一些溅离靶材后的金属离子，形成金属离子层，并随着溅射工艺进行，所述金属离子层不断加厚。因而当聚焦环使用一段时间后，需及时更换聚焦环，从而避在聚焦环表面形成的金属离子层过厚，而出现剥落（peeling）现象，从而导致镀膜后的晶圆品质不良。然而，更换聚焦环的代价较高，在实际使用过程中，基于溅射附着于聚焦环上的金属层仅位于聚焦环靠近靶材的一侧，在将取下的聚焦环反向安装，仍然可继续使用，且重复使用的聚焦环不会影响溅射工艺正常进行。但在聚焦环在一次使用后，基于在溅射工艺中，溅射机台的高温高压下，聚焦环内部聚集较多的内应力，在聚焦环冷却后，应力释放，参考图2所示，聚焦环发生变形，尤其是在聚焦环的开口处两侧部分11和12会出现明显的向外扩张现象（虚线部分所示）。为此，需要将聚焦环重新矫正，以便于继续使用。现有的矫正工艺一般通过人力把聚焦环拗端口部位，将聚焦环的开口部分11和12回复原位，然而聚焦环使用时，安装精度要求高，往往需要人力反复矫正才可回复原位，而且在反复矫正期间，会破坏附着于聚焦环上的金属层与聚焦环的连接结构，致使附着于聚焦环上的金属层发生小裂纹或是部分附着膜发生断裂（人眼往往无法识别），从而在聚焦环的二次使用过程中，这部分金属层出现剥落现象，或是溅射过程中的离子击中这部分金属层后出现放电缺陷，从而降低镀膜质量，更甚者致使镀膜工艺失败。为此，如此提高聚焦环的矫正工艺，以降低聚焦环上的金属层出现形变概率，是本领域技术人员亟需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种聚焦环的矫正设备，可有效提高聚焦环的矫正效率以及精度，避免在矫正过程中，破坏聚焦环与附着于聚焦环表面的金属层的连接结构。为解决上述问题，本专利技术提供一种聚焦环的矫正设备，包括：承载聚焦环的基座，所述基座上设有用于放置聚焦环的聚焦环放置区域，所述聚焦环放置区域包括受压支点；设置于所述基座上，用于固定聚焦环的固定部件；安装在所述基座上的矫正支杆，所述矫正支杆通过转轴活动连接在所述基座上，且所述矫正支杆绕所述转轴转动；所述矫正支杆的一端设置有施压支点，所述施压支点与所述受压支点位置相对应；设置在所述基座上，用于判断聚焦环是否矫正到位的矫正判定部件。可选地，所述聚焦环放置区域为环形结构。可选地，所述固定部件包括多根分散设置在所述基座上的固定轴，且所述固定轴沿轴向凸起于所述基座表面，多根所述固定轴分布与所述聚焦环放置区域周侧。可选地，多根所述固定轴中，部分位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘，部分位于所述聚焦环放置区域的环外侧边缘，所述聚焦环放置区域嵌于多根所述固定轴之间。可选地，在所述基座上开设多条第一凹槽，所述多条第一凹槽与多根固定轴一一对应；所述多条第一凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；各条所述固定轴安装在对应的第一凹槽内，且沿所述第一凹槽延伸方向调整位置。可选地，所述聚焦环的上设置有多根沿所述聚焦环径向设置的安装轴，多根所述固定轴中至少部分固定轴与所述安装轴位置对应设置，且该部分固定轴中至少两根固定轴沿聚焦环径向分别位于对应的安装轴的两侧。可选地，所述矫正判定部件包括第一判定轴，所述第一判定轴位于所述聚焦环放置区域的环外侧。可选地，所述第一判定轴与所述聚焦环放置区域之间的距离为0～4mm。可选地，所述矫正判定部件还包括第二判定轴，所述第二判定轴位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘；所述第二判定轴与所述受压支点之间距离，小于所述第一判定轴与所述受压支点之间距离。可选地，在所述基座上开设一条第二凹槽，所述第二凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；所述第一判定轴安装在所述第二凹槽内，且沿所述第二凹槽延伸方向调整位置。可选地，在所述基座上开设一条第二凹槽，所述第二凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；所述第二判定轴安装在所述第二凹槽内，且沿所述第二凹槽延伸方向调整位置。可选地，所述第一判定轴第二判定轴间的距离为6～8mm。可选地，所述判定部件还包括第三判定轴，所述第三判定轴位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘；所述第三判定轴与所述第一判定轴之间距离，大于所述第三判定轴与所述第二判定轴之间距离；所述第三判定轴与所述受压支点之间的距离，小于所述受压支点与所述第二判定轴之间距离。可选地，在所述基座上开设一条第二凹槽，所述第二凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；所述第三判定轴安装在所述第二凹槽内，且沿所述第二凹槽延伸方向调整位置。可选地，所述转轴位于所述聚焦环放置区域外侧。可选地，在所述基座的表面，以及所述固定部件和矫正判定部件的表面覆盖有保护层。与现有技术相比，本专利技术的技术方案具有以下优点：在承载聚焦环的基座上安装有矫正支杆，所述矫正支杆通过转轴活动连接在所述基座上，所述矫正支杆的一端设置施压支点。使用时，将聚焦环通过固定部件固定在基座的聚焦环放置区域后，所述矫正支杆的施压支点抵住位于聚焦环放置区域的受压支点上的聚焦环的待矫正部位，之后绕所述转轴转动矫正支杆，向所述聚焦环施加力，致使聚焦环发生形变，以矫正聚焦环。在所述基座上，设有矫正判定部件。在矫正前，所述聚焦环不与矫正判定部件发生接触，而在转动所述矫正支杆向聚焦环施加力，以致使聚焦环形变过程中，当所述聚焦环碰触所述矫正判定部件时，表明所述聚焦环矫正到位，从而避免矫正过量。上述技术方案，基于杠杆原理可轻松而快捷地致使聚焦环形变，而矫正判定部件可有效判断聚焦环是否矫正完全，从而提高聚焦环矫正工艺效率，避免聚焦环反复矫正而破坏聚焦环表面附着的金属层与聚焦环之间的连接结构，以及金属层的结构，从而在聚焦环再一次使用过程中，降低出现基于所述金属层发生形变而导致的放电和金属层剥落现象的概率。附图说明图1是现有溅射工艺的示意图；图2是溅射工艺后，出现形变的聚焦环的结构示意图；图3是本专利技术实施例提供的聚焦环的矫正设备的结构示意图；图4和图5是采用图3所示的聚焦环的矫正设备矫正图2所示的形变后的聚焦环的示意图；图6为本专利技术另一个实施例提供的聚焦环的矫正设备的结构示意图。具体实施方式正如
技术介绍
所述，现有的对已经经过一次溅射工艺的聚焦环进行矫正的工艺效率较低，矫正过程中往本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚焦环的矫正设备，其特征在于，包括：承载聚焦环的基座，所述基座上设有用于放置聚焦环的聚焦环放置区域，所述聚焦环放置区域包括受压支点；设置于所述基座上，用于固定聚焦环的固定部件；安装在所述基座上的矫正支杆，所述矫正支杆通过转轴活动连接在所述基座上，且所述矫正支杆绕所述转轴转动；所述矫正支杆的一端设置有施压支点，所述施压支点与所述受压支点位置相对应；设置在所述基座上，用于判断聚焦环是否矫正到位的矫正判定部件。

【技术特征摘要】
1.一种聚焦环的矫正设备，其特征在于，包括：承载聚焦环的基座，所述基座上设有用于放置聚焦环的聚焦环放置区域，所述聚焦环放置区域包括受压支点；设置于所述基座上，用于固定聚焦环的固定部件；安装在所述基座上的矫正支杆，所述矫正支杆通过转轴活动连接在所述基座上，且所述矫正支杆绕所述转轴转动；所述矫正支杆的一端设置有施压支点，所述施压支点与所述受压支点位置相对应；设置在所述基座上，用于判断聚焦环是否矫正到位的矫正判定部件。2.根据权利要求1所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述聚焦环放置区域为环形结构。3.根据权利要求2所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述固定部件包括多根分散设置在所述基座上的固定轴，且所述固定轴沿轴向凸起于所述基座表面，多根所述固定轴分布与所述聚焦环放置区域周侧。4.根据权利要求3所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，多根所述固定轴中，部分位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘，部分位于所述聚焦环放置区域的环外侧边缘，所述聚焦环放置区域嵌于多根所述固定轴之间。5.根据权利要求3所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，在所述基座上开设多条第一凹槽，所述多条第一凹槽与多根固定轴一一对应；所述多条第一凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；各条所述固定轴安装在对应的第一凹槽内，且沿所述第一凹槽延伸方向调整位置。6.根据权利要求3所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述聚焦环的上设置有多根沿所述聚焦环径向设置的安装轴，多根所述固定轴中至少部分固定轴与所述安装轴位置对应设置，且该部分固定轴中至少两根固定轴沿聚焦环径向分别位于对应的安装轴的两侧。7.根据权利要求2所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述矫正判定部件包括第一判定轴，所述第一判定轴位于所述聚焦环放置区域的环外侧。8.根据权利要求7所述的聚焦环的矫正设备，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，赵凯，相原俊夫，大岩一彦，潘杰，王学泽，李小萍，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33