【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种离子源系统,具体的说是应用于真空镀膜设备用离子源系统。
技术介绍
随着镀膜技术的不断发展,目前真空镀膜机都是课实现多靶材同时镀膜功能。为使工件表面的镀膜性能更优异,就必须保证靶材表面最先被蒸发出来的材料不被任何污染或者氧化。所以,在真正镀膜之前都要对靶材进行清洗或者叫做预溅射,专利CN 103343320A提供了一种避免开启闭合卡死、传动轴漏气,并能正确对准靶位的简单、可靠、高效的多工位源挡板系统。专利CN 203530420 U提供了一种挡板及磁控溅射设备,能够减少薄膜光伏组件镀背电极过程中的绕镀现象,提高薄膜光伏组件的光电转换效率,为镀背电极的后道工序提供良好的基础。在等离子体表面处理工艺方面,目前使用的阳极离子源、霍尔离子源等离子源系统都是需要独立的装置系统:阳极、磁极、气管等,这样的独立系统都会由于布气通道等造成离子源腔体内的气体分布不均匀,影响离子源工作的稳定性等问题。
技术实现思路
本技术旨在克服现有技术的缺陷,提供一种真空镀膜设备用离子源系统,可以对基片进行清洁和辅助沉积镀膜。为了解决上述技术问题,本技术是这样实现的:一种真空镀膜设备用离子源系统,包括真空室,其特征在于:还包括转盘、基片、挡板、转轴、若干靶源、通气孔和电源;转盘位于真空室中心位置,其外部装有基片,挡板设于真空室内并通过转轴将其与转盘中心连接;靶源包括靶座和靶材,靶材设于靶座上部,靶材和通气孔间隔设于真空室的内壁四周;每个靶源通过单独的电源连接控制。本技术的有益效果是:结构简单,有效果改善膜层与基片的结合力,并提高了镀膜效率。【附图说明】下面结合附图和实 ...
【技术保护点】
一种真空镀膜设备用离子源系统,包括真空室,其特征在于:还包括转盘、基片、挡板、转轴、若干靶源、通气孔和电源;转盘位于真空室中心位置,其外部装有基片,挡板设于真空室内并通过转轴将其与转盘中心连接;靶源包括靶座和靶材,靶材设于靶座上部,靶材和通气孔间隔设于真空室的内壁四周;每个靶源通过单独的电源连接控制。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:单永贤,
申请(专利权)人:上海金科纳米涂层技术有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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