一种具有四色亚像素的有机电致发光装置及其制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种具有四色亚像素的有机电致发光装置，包括基板，以及依次形成在所述基板上的第一电极层、若干个发光单元层和第二电极层，所述的发光单元层包括依次设置在所述第一电极层上的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，所述发光层包括堆叠设置的蓝光发光层和黄光发光层以及设置在二者之间的阻挡层；所述蓝光发光层与所述空穴传输层或电子传输层物理接触，所述黄光发光层在基板上的投影落在所述蓝光发光层在基板上的投影范围内，且蓝光发光层投影部分被所述黄光发光层的投影覆盖。本发明专利技术通过改变器件的结构布局方式，使其在制备过程中仅需要最多两组精密掩膜板即可达到四色发光，进而提升分辨率和降低成本的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机电致发光装置
，特别是一种具有四色亚像素的有机电致发光装置及其制备方法。
技术介绍
有机电致发光显示装置OLED通常包括多个像素，每个像素由若干发光区组成。目前在中小尺寸中广泛应用方案之一是由红、绿、蓝三种像素组成一个像素。为获得较高的像素分辨率，红、绿、蓝三种发光区层在制备过程中需要分别采用高精密掩膜蒸镀，即需要三组精密金属mask。但精密金属mask的最高精度由于工艺水平受到限制，导致有机电致发光显示装置的分辨率难以提高；另一方面，由于高精密掩膜板精度高，每个发光区均需要对位调整，每次调整都会造成显示装置制造成品率的下降，因此提高了器件成本且限制了更高分辨率的实现。目前业界器件结构上较好的解决方案是采用共用蓝光发光层的结构，如图1所示的OLED器件的发光层包括红、绿、蓝三种发光区，其中红光发光区16和绿光发光区15并排设置在空穴传输层上，蓝色发光层7的一部分设置在空穴传输层上，其上部覆盖所述红光发光区16和绿光发光区15。在制备时用两组精密mask分别实现红光发光区16和绿光发光区15，而后利用普通掩膜板open mask蒸镀蓝色发光层7，此方案需要蒸镀三次(即更换3次mask)，并且用于制备红、绿发光层的mask所需的精度。尽管该方案减少了一组精密掩膜板，但是仍然需要使用两组单个亚像素的精密掩膜板，且需要三次对位，降低了显示装置的分辨率。
技术实现思路
为此，本专利技术所要解决的技术问题在于现有技术中OLED发光层的制备过程中需要多组高精度掩膜板，且工艺路线复杂的问题，进而提供一种有机电致发光显示装置，其通过改变器件的结构布局方式，使其在制备过程中仅需要最多两组精密掩膜板即可达到四色发光，进而提升分辨率和降低成本的目的。本专利技术的另一目的是提供一种具有四色亚像素的有机电致发光装置的制备方法。为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：一种具有四色亚像素的有机电致发光装置，包括基板，以及依次形成在所述基板上的第一电极层、若干个发光单元层和第二电极层，所述的发光单元层包括依次设置在所述第一电极层上的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，所述发光层包括堆叠设置的蓝光发光层和黄光发光层以及设置在二者之间的阻挡层；所述蓝光发光层与所述空穴传输层或电子传输层物理接触，所述黄光发光层在基板上的投影落在所述蓝光发光层在基板上的投影范围内，且蓝光发光层投影部分被所述黄光发光层的投影覆盖；所述有机电致发光装置还包括与所述空穴注入层相邻设置的光学补偿层，所述光学补偿层的在基板上的投影落在所述黄光发光层在基板上的投影范围内，且黄光发光层投影部分被所述光学补偿层的投影覆盖；所述的光学补偿层包括并排设置的黄光光学补偿层和红光光学补偿层，所述黄光光学补偿层的厚度小于所述红光光学补偿层的厚度。所述蓝光发光层覆盖所述空穴传输层，所述阻挡层覆盖部分所述蓝光发光层，所述黄光发光层覆盖所述阻挡层，所述阻挡层为电子阻挡层。所述蓝光发光层的主体材料为空穴型主体材料，此处空穴型主体材料是指蓝光共用层主体材料的空穴传输能力比电子的传输能力强，即空穴迁移率大于电子的迁移率，例如NPB或TCTA，此处可以使用空穴传输材料来作为蓝光公用层主体材料。所述黄光发光层覆盖部分所述空穴传输层，所述阻挡层覆盖所述黄光发光层，所述蓝光发光层的一部分覆盖所述被阻挡层，所述阻挡层为空穴阻挡层。所述蓝光发光层的主体材料为电子型主体材料，此处电子型主体材料是指蓝光共用层主体材料的电子传输能力比空穴的传输能力强，即电子迁移率大于空穴的迁移率，此处可以使用电子传输材料来作为蓝光公用层主体材料。所述蓝光发光层(7)的主体材料为式(1)或式(2)所示结构：其中：式(1)中R选自H，C1-C20的苯基衍生物、萘基衍生物或芳基衍生物的取代物；X选自于萘基衍生物、苯基衍生物、苯基萘衍生物或苯基蒽衍生物单体；式(2)中其中，R1-R6相同或不同，分别独立选自H、卤素原子、羟基、氰基、硝基或包含具有20个碳原子以下的羰基的基团，包含羰基酯基团的基团、烷基、烯基、烷氧基，包含具有30个碳原子以下的甲硅烷基的基团，包含芳基的基团，包含杂环基的基团或包含氨基的基团或其衍生物。所述蓝光发光层的主体材料为蒽二萘、蒽二联苯、蒽萘联苯和蒽二苯中的一种或其中几种的混合物。所述蓝光发光层的主体材料选自式(3)-式(11)所示化合物：所述光学补偿层位于所述第一电极层和所述空穴注入层之间，光学补偿层覆盖部分所述第一电极层，且在基板上的投影落在所述黄光发光层在基板上的投影范围内。所述第一电极层包括堆叠设置的第一导电层和第二导电层，所述光学补偿层与所第二导电层采用相同材料制备而成。所述光学补偿层位于所述空穴注入层和所述空穴传输层之间，光学补偿层覆盖部分所述空穴注入层，且在基板上的投影落在所述黄光发光层在基板上的投影范围内。所述光学补偿层与所空穴注入层采用相同材料制备而成。所述蓝光发光层和阻挡层的厚度之和为20-50nm，所述黄光光学补偿层的厚度10-30nm，所述红光光学补偿层的厚度为30-60nm。一种具有四色亚像素的有机电致发光装置的制备方法，包括下述步骤：S1、在基板上采用开口掩膜板依次蒸镀第一导电层和第二导电层；S2、采用精密掩膜板在第二导电层上溅射厚度为30-60nm的红光光学补偿层和厚度为10-30nm的黄光光学补偿层；S3、采用开口掩膜板依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层和蓝光发光层；S4、在蓝光发光层上方使用低精度掩膜板依次蒸镀电子阻挡层和黄光发光层，所述电子阻挡层覆盖部分所述蓝光发光层；S5、在黄光发光层上采用开口掩膜板蒸镀电子传输层、电子注入层、第二电极层和光学耦合层。作为另一种实施方式，所述步骤S3-S5为：S3、采用开口掩膜板依次蒸镀空穴注入层和空穴传输层，采用低精度掩膜板依次蒸镀黄光发光层和空穴阻挡层，所述黄光发光层覆盖部分空穴传输层；S4、在空穴阻挡层上方使用开口掩膜板依次蒸镀所述蓝光发光层；S5、在蓝光发光层上采用开口掩膜板蒸镀电子传输层、电子注入层、第二电极层和光学耦合层。一种具有四色亚像素的有机电致发光装置的制备方法，包括下述步骤：S1、在基板上采用开口掩膜板依次蒸镀第一导电层和第二导电层和空穴注入层；S2、采用精密掩膜板在空穴注入层上蒸镀厚度为30-70nm的红光光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有四色亚像素的有机电致发光装置，包括基板，以及依次形成在所述基板上的第一电极层、若干个发光单元层和第二电极层(12)，所述的发光单元层包括依次设置在所述第一电极层上的空穴注入层(5)、空穴传输层(6)、发光层、电子传输层(10)和电子注入层(11)，其特征在于，所述发光层包括堆叠设置的蓝光发光层(7)和黄光发光层(9)以及设置在二者之间的阻挡层；所述蓝光发光层(7)与所述空穴传输层(6)或电子传输层(10)物理接触，所述黄光发光层(9)在基板上的投影落在所述蓝光发光层(7)在基板上的投影范围内，且蓝光发光层(7)投影部分被所述黄光发光层(9)的投影覆盖；所述有机电致发光装置还包括与所述空穴注入层(5)相邻设置的光学补偿层，所述光学补偿层的在基板上的投影落在所述黄光发光层(9)在基板上的投影范围内，且黄光发光层(9)投影部分被所述光学补偿层的投影覆盖；所述的光学补偿层包括并排设置的黄光光学补偿层和红光光学补偿层，所述黄光光学补偿层的厚度小于所述红光光学补偿层的厚度。

【技术特征摘要】
1.一种具有四色亚像素的有机电致发光装置，包括基板，以及依次形
成在所述基板上的第一电极层、若干个发光单元层和第二电极层(12)，所
述的发光单元层包括依次设置在所述第一电极层上的空穴注入层(5)、空
穴传输层(6)、发光层、电子传输层(10)和电子注入层(11)，其特征在
于，
所述发光层包括堆叠设置的蓝光发光层(7)和黄光发光层(9)以及
设置在二者之间的阻挡层；所述蓝光发光层(7)与所述空穴传输层(6)
或电子传输层(10)物理接触，所述黄光发光层(9)在基板上的投影落在
所述蓝光发光层(7)在基板上的投影范围内，且蓝光发光层(7)投影部
分被所述黄光发光层(9)的投影覆盖；
所述有机电致发光装置还包括与所述空穴注入层(5)相邻设置的光学
补偿层，所述光学补偿层的在基板上的投影落在所述黄光发光层(9)在基
板上的投影范围内，且黄光发光层(9)投影部分被所述光学补偿层的投影
覆盖；
所述的光学补偿层包括并排设置的黄光光学补偿层和红光光学补偿层，
所述黄光光学补偿层的厚度小于所述红光光学补偿层的厚度。
2.根据权利要求1所述具有四色亚像素的有机电致发光装置，其特征
在于，所述蓝光发光层(7)覆盖所述空穴传输层(6)，所述阻挡层覆盖部
分所述蓝光发光层(7)，所述黄光发光层(9)覆盖所述阻挡层，所述阻挡
层为电子阻挡层(8)。
3.根据权利要求2所述具有四色亚像素的有机电致发光装置，其特征
在于，所述蓝光发光层(7)的主体材料为空穴型主体材料。
4.根据权利要求1所述具有四色亚像素的有机电致发光装置，其特征
在于，所述黄光发光层(9)覆盖部分所述空穴传输层(6)，所述阻挡层覆
盖所述黄光发光层(9)，所述蓝光发光层(7)的一部分覆盖所述阻挡层，
所述阻挡层为空穴阻挡层(14)。
5.根据权利要求4所述具有四色亚像素的有机电致发光装置，其特征
在于，所述蓝光发光层(7)的主体材料为电子型主体材料。
6.根据权利要求5所述具有四色亚像素的有机电致发光装置，其特征
在于，所述蓝光发光层(7)的主体材料为式(1)或式(2)所示结构：
其中：式(1)中R选自H、C1-C20的苯基衍生物、萘基衍生物或芳基
衍生物的取代物；X选自于萘基衍生物、苯基衍生物、苯基萘衍生物或苯
基蒽衍生物单体；
式(2)中其中，R1-R6相同或不同，分别独立选自H、卤素原子、羟
基、氰基、硝基或包含具有20个碳原子以下的羰基的基团，包含羰基酯基
团的基团、烷基、烯基、烷氧基，包含具有30个碳原子以下的甲硅烷基的
基团，包含芳基的基团，包含杂环基的基团或包含氨基的基团或其衍生物。
7.根据权利要求6所述具有四色亚像素的有机电致发光装置，其特征
在于，所述蓝光发光层(7)的主体材料为蒽二萘、蒽二联苯、蒽萘联苯和
蒽二苯中的一种或其中几种的混合物。
8.根据权利要求6所述具有四色亚像素的有机电致发光装置，其特征
在于，所述蓝光发光层(7)的主体材料选自式(3)-式(11)所示化合物：
9.根据权利要求1所述具有四色亚像素的有机电致发光装置，其特征
在于，所述光学补偿层位于所述第一电极层和所述空穴注入层(5)之间，
光学补偿层覆盖部分所述第一电极层，且在基板上的投影落在所述黄光发
光层(9)在基板上的投影范围内。
10.根据权利要求9所述具有四色亚像素的有机电致发光装置，其特
征在于，所述第一电极层包括堆叠设置的第一导电层(1)和第二导电层(2)，
所述光学补偿层与所第二导电层(2)采用相同材...

【专利技术属性】
技术研发人员：李维维，刘嵩，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，北京维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32