【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及通过沉积薄膜制造的太阳能电池和/或光电装置,并且更具体来说涉及当形成光电装置的包含硫族化物半导体或ABC半导电化合物的层或层堆叠时添加碱金属。
技术介绍
光伏装置通常被理解为光伏电池或光伏模块。光伏模块通常包括互连的光伏电池的阵列。一个薄膜光伏或光电装置通常通过将材料层沉积到一个衬底上制造。一个薄膜光伏装置通常包括一个被层堆叠(包括导电层堆叠)涂布的衬底、至少一个吸收层、任选地至少一个缓冲层以及至少一个透明导电层堆叠。本专利技术涉及光伏装置,这些装置包括一个吸收层,该吸收层通常基于一种ABC硫族化物材料,诸如一种ABC2黄铜矿材料,其中A表示如由国际纯粹与应用化学联合会(International Union of Pure and Applied Chemistry)定义的化学元素周期表的第11族中的元素(包括Cu或Ag),B表示该周期表的第13族中的元素(包括In、Ga或Al),并且C表示该周期表的第16族中的元素(包括S、Se或Te)。ABC2材料的一个实例是Cu(In,Ga)Se2半导体,也称为CIGS。本专利技术还涉及普通三元ABC组合物(诸如铜-铟-硒化物或铜-镓-硒化物)的变体,呈四元、五元或多元材料形式,诸如铜-(铟,镓)-(硒,硫)、铜-(铟,铝)-硒、铜-(铟,铝)-(硒,硫)、铜-(锌,锡)-硒、铜-(锌,锡)-(硒,硫)、(银,铜)-(铟,镓)-硒、或(银,铜)-(铟 ...
【技术保护点】
一种制造薄膜光电装置(100)的方法(200),该方法包括:提供一个钾不扩散衬底(210,110);形成一个背接触层(220,120);形成至少一个吸收层(230,130),该吸收层由一种ABC硫族化物材料制成,该ABC硫族化物材料包括ABC硫族化物材料三元、四元、五元或多元变体,其中A表示如由国际纯粹与应用化学联合会定义的化学元素周期表的第11族的元素,包括Cu和Ag,B表示该周期表的第13族中的元素,包括In、Ga以及Al,并且C表示该周期表的第16族中的元素,包括S、Se以及Te;添加至少两种不同的碱金属(235);以及形成至少一个前接触层(250,150);其中所述至少两种不同的碱金属中的一者是钾(K),并且其中,在形成所述前接触层(150)之后,在从背接触层(120),不包括背接触层(120),到前接触层(150),包括前接触层(150)的层区间(470)中,由添加至少两种不同的碱金属产生的包含量对于钾是在500到10000个原子/百万原子(ppm)的范围内,并且对于所述至少两种不同的碱金属中的另一者是在5到2000ppm的范围内并且是该钾的包含量的至多1/2并且至少1/20 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.12.21 IB PCT/IB2012/0576051.一种制造薄膜光电装置(100)的方法(200),该方法包括:
提供一个钾不扩散衬底(210,110);
形成一个背接触层(220,120);
形成至少一个吸收层(230,130),该吸收层由一种ABC硫族化物材料制
成,该ABC硫族化物材料包括ABC硫族化物材料三元、四元、五元或多元变
体,其中A表示如由国际纯粹与应用化学联合会定义的化学元素周期表的第11
族的元素,包括Cu和Ag,B表示该周期表的第13族中的元素,包括In、Ga
以及Al,并且C表示该周期表的第16族中的元素,包括S、Se以及Te;
添加至少两种不同的碱金属(235);以及
形成至少一个前接触层(250,150);
其中
所述至少两种不同的碱金属中的一者是钾(K),并且其中,在形成所述
前接触层(150)之后,在从背接触层(120),不包括背接触层(120),到前
接触层(150),包括前接触层(150)的层区间(470)中,由添加至少两种不
同的碱金属产生的包含量对于钾是在500到10000个原子/百万原子(ppm)的
范围内,并且对于所述至少两种不同的碱金属中的另一者是在5到2000ppm的
范围内并且是该钾的包含量的至多1/2并且至少1/2000。
2.根据权利要求1所述的方法,其中在所述层区间(470)中,该钾的包
含量是在1000到2000ppm的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述层区间(470)中的所述至
少一种其他碱金属是Na,其量是在5到500ppm的范围内。
4.根据权利要求1、2或3所述的方法,其中在所述层区间(470)中,
K/Na的ppm比是在2到2000的范围内。
5.根据权利要求4所述的方法,其中在所述层区间(470)中,该K/Na
\t的ppm比是在10到100的范围内。
6.根据任一前述权利要求所述的方法,其中形成至少一个吸收层(230,
130)包括物理气相沉积。
7.根据任一前述权利要求所述的方法,其中形成至少一个吸收层(230,
130)包括在100℃到500℃的范围内的衬底温度下的物理气相沉积。
8.根据任一前述权利要求所述的方法,其中至少一个吸收层(130)是
Cu(In,Ga)Se2。
9.根据任一前述权利要求所述的方法,其中添加至少两种不同的碱金属
(235)包括分别添加所述至少两种不同的碱金属中的任一者。
10.根据任一前述权利要求所述的方法,其中添加K包括添加KF。
11.根据权利要求10所述的方法,其中,在形成所述至少一个吸收层(130)
之后,添加K包括在低于700℃的一个衬底温度下物理气相沉积KF。
12.根据权利要求11所述的方法,其中,在形成所述至少一个吸收层(130)
之后,添加K包括在300℃到400℃的范围内的一个衬底温度下物理气相沉积
KF。
13.根据任一前述权利要求所述的方法,其中添加所述两种不同的碱金属
中的至少一者(235)在所述C元素中的至少一者存在下进行。
14.根据任一前述权利要求所述的方法,其中添加至少两种不同的碱金属
包括在320℃到380℃范围内的一个衬底温度下并且在形成所述吸收层(130)
之后的一个物理气相沉积工艺,该工艺包括首先以一个第一沉积速率添加NaF
(734),随后以一个第二沉积速率添加KF(73...
【专利技术属性】
技术研发人员:阿德里安·希里拉,史蒂芬·布撤勒,费边·皮内泽,帕特里克·莱因哈德,阿约蒂亚·纳什·蒂瓦里,
申请(专利权)人:弗立泽姆公司,瑞士材料科学技术研究所,
类型:发明
国别省市:瑞士;CH
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