掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，主要内容包括：通过在制作彩膜基板的工艺流程中，使用具有至少两个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩膜基板的中间区域中用于形成柱状隔垫物的位置处彩色光阻高度低于四周区域中用于形成柱状隔垫物的位置处彩色光阻的的高度，从而，补偿了后续由于掩膜板面积较大而造成柱状隔垫物膜层曝光不均匀而导致的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面不在同一水平面内的缺陷，尽可能的使中间区域形成的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面与四周区域形成的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面在同一水平面内，保证了面板的均一性，以便后续对位贴合。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置。
技术介绍
目前，随着液晶生产线代的升级，可生产的基板的尺寸越来越大，其生产良率的要求越来越高，但同时也引发一系列问题。例如：在彩膜基板的制作过程中，由于彩膜基板面积过大而造成面内压力分布不均成为限制产品设计的主要因素。尤其在制作柱状隔垫物时，如图1所示，由于彩膜基板1的面积过大，因此，采用的用于制作柱状隔垫物的掩膜板2的面积也会比较大，由于重力的原因会造成掩膜板2中间区域弯曲下陷，使得四周曝光高度h1比中心曝光高度h2高50～70um，针对使用正性光刻胶的情况而言，被曝光区域是需要显影掉的，最终保留的柱状隔垫物位于非曝光区域，因此，形成的柱状隔垫物的高度是不会受到曝光影响的；然而，使用负性光刻胶的情况不同，最终保留的柱状隔垫物位于曝光区域，非曝光区域是要显影掉的，因此，由负性光刻胶形成的柱状隔垫物的高度会受到曝光程度的影响，从而导致曝光形成的柱状隔垫物的高度有0.05um的差异，影响彩膜基板的面板均一性。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，用以解决现有技术中存在的由于掩膜板面积过大而导致同一面板中曝光高度不同，进而导致形成的柱状隔垫物的远离彩膜基板的一端面不在同一水平面的问题。本专利技术实施例采用以下技术方案：一种掩膜板，包括：<br>至少两个透光率等级的曝光区域，其中，所述掩膜板中对应黑矩阵的曝光区域的透光率等级按照由中心区域向四周区域依次升高的规则设置。优选地，所述掩膜板的透光率等级的取值范围为：60％-100％。一种彩膜基板的制作方法，所述方法包括：提供一彩膜基底；在所述彩膜基底上形成图案化的黑矩阵；在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用所述的掩膜板形成图案化的彩色光阻，其中，利用所述掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度；在所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域形成柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。优选地，在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用所述的掩膜板形成图案化的彩色光阻，具体包括：在形成有黑矩阵的彩膜基底上，涂布第一彩色光阻材料，利用具有至少两个透光率等级的第一掩膜板形成图案化的第一彩色光阻；在形成有第一彩色光阻的彩膜基底上，涂布第二彩色光阻材料，利用具有至少两个透光率等级的第二掩膜板形成图案化的第二彩色光阻；在形成有第二像素单元的彩膜基底上，涂布第三像素材料，利用具有至少两个透光率等级的第三掩膜板形成图案化的第三彩色光阻。优选地，用于形成柱状隔垫物的区域的图形为矩形或圆柱形，所述用于形成柱状隔垫物的区域的图形面积大于待形成的柱状隔垫物在垂直彩膜基底方向上的投影面积。优选地，在所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域形成柱状隔垫物，具体包括：在具有高度差的彩色光阻之上，涂布用于制作柱状隔垫物的有机材料和光刻胶层；利用掩膜板对所述有机材料和光刻胶层进行曝光，形成柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。一种彩膜基板，包括：彩膜基底；位于所述彩膜基底之上的图案化的黑矩阵；位于形成有黑矩阵的彩膜基底之上图案化的彩色光阻，其中，利用权利要求1-2任一所述的掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度；位于所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域的柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端均在同一水平面上。优选地，位于形成有黑矩阵的彩膜基底之上图案化的彩色光阻，具体包括：多个呈条状图形、且间隔排列的第一彩色光阻，第二彩色光阻和第三彩色光阻。优选地，所述彩色光阻中用于形成柱状隔垫物的区域处的彩色光阻的高度差大于0μm，小于等于0.05μm。。一种显示面板，包括所述的彩膜基板。一种显示装置，包括所述的显示面板。在本专利技术实施例中，通过在制作彩膜基板的工艺流程中，使用具有至少两个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩色光阻的中间区域中用于形成柱状隔垫物的位置的高度低于四周区域中用于形成柱状隔垫物的位置的高度，从而，补偿了后续由于掩膜板面积较大而造成柱状隔垫物膜层曝光不均匀而导致的柱状隔垫物的高度不在同一水平面内的缺陷，尽可能的使中间区域形成的柱状隔垫物的高度与四周区域形成的柱状隔垫物的高度在同一水平面内，保证了面板的均一性，以便后续对位贴合。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中，制作柱状隔垫物的原理示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的制作方法的流程图；图3(a)-图3(c)为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作工艺示意图；图4(a)-图4(b)为利用本专利技术所涉及的彩膜基板制作柱状隔垫物的工艺示意图；图5(a)-图5(b)为利用具有两个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻的示意图；图6(a)-图6(b)为利用具有三个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻的示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术实施例中，通过在制作彩膜基板的工艺流程中，使用具有至少两个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩色光阻的中间区域中用于形成柱状隔垫物的位置的高度低于四周区域中用于形成柱状隔垫物的位置的高度，从而，补偿了后续由于掩膜板面积较大而造成柱状隔垫物膜层曝光不均匀而导致的柱状隔垫物的高度不在同一水平面内的缺陷，尽可能的使中间区域形成的柱状隔垫物的远离彩膜基底的一端面与四周区域形成的柱状隔垫物的远离彩膜基底的一端面在同一水平面上，保证了面板的均一性，以便后续对位贴合。下面通过具体的实施例对本专利技术所涉及的技术方案进行详细描述，本专利技术包括但并不限本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，其特征在于，包括：至少两个透光率等级的曝光区域，其中，所述掩膜板中对应黑矩阵的曝光区域对应的透光率等级按照由中心区域向四周区域依次升高的规则设置。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：
至少两个透光率等级的曝光区域，其中，所述掩膜板中对应黑矩阵的曝光
区域对应的透光率等级按照由中心区域向四周区域依次升高的规则设置。
2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板的透光率等级
的取值范围为：60％-100％。
3.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一彩膜基底；
在所述彩膜基底上形成图案化的黑矩阵；
在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用权利要求1-2任一所述的掩膜板形成
图案化的彩色光阻，其中，利用所述掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低
于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度；
在所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域形成柱状隔垫物，其中，所
述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，在形成有黑矩阵的彩膜基底
上，利用权利要求1-2任一所述的掩膜板形成图案化的彩色光阻，具体包括：
在形成有黑矩阵的彩膜基底上，涂布第一彩色光阻材料，利用所述掩膜板
形成图案化的第一彩色光阻；
在形成有第一彩色光阻的彩膜基底上，涂布第二彩色光阻材料，利用所述
掩膜板形成图案化的第二彩色光阻；
在形成有第二彩色光阻的彩膜基底上，涂布第三彩色光阻材料，利用所述
掩膜板形成图案化的第三彩色光阻。
5.如权利要求3或4任一所述的方法，其特征在于，用于形成柱状隔垫
物的区域的图形为矩形或圆柱形，所述用于形成柱状隔垫物的区域的图形面积<...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟庆勇，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34