新型锗原料清洗腐蚀装置制造方法及图纸

一种新型锗原料清洗腐蚀装置，它包括清洗加热槽、原料支架和天车；该清洗加热槽内设有一个或多个石英杯，该石英杯底部设有加热丝；该原料支架设于一个石英杯内部，底部不与该石英杯底部接触，且该原料支架与上部的天车的吊钩通过钢丝连接；该原料支架为不锈钢框架，内部具有若干个网状的放置层；该原料支架的各部件外部均包覆有聚四氟层；该天车设于上部轨道上。本实用新型专利技术新型锗原料清洗腐蚀装置，其具有半自动化，一次投入锗原料量大，洁净度高的优点。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及单晶制备
，特别是一种新型锗原料清洗腐蚀装置。
技术介绍
锗原料腐蚀、清洗是拉制锗单晶的重要前期步骤。要求先用清洗液对锗原料进行高温清洗，去除原料表面杂质。然后，用去离子水高温清洗原料表面。整个过程中要求清洗液温度大于90度，去离子水温度保持一段时间沸腾状态，以得到干净的锗原料。锗原料在整个清洗过程中严禁接触金属，就是水中含有金属离子也不可以。现有技术中，为了保证锗原料在清洗过程中隔离金属离子，采用石英杯盛放锗原料，石英杯中顺次注入清洗液和去离子水，将石英杯放在电炉上加热，清洗完毕后，技术人员将石英杯在高温状态下搬下电炉，将已清洗好的原料趁热从石英杯中取出。这种方式虽然简单易行，但是，随着生产量的增大，石英杯一次放入的原料量逐渐增加，石英杯体积逐渐加大，它存在的缺点开始显现。首先，因为石英杯脆性大、易碎，锗原料硬度大，现有方式锗原料要同石英杯接触，容易将石英杯碰裂。锗原料密度大，石英杯底部承重有限，所以一次不能放入过多原料(15公斤左右)。其次，锗原料在清洗过程中，要求表面尽量接触清洗液和水，所以技术人员在向石英杯中放原料时，须仔细放置，确保原料之间，原料和石英杯之间，尽可能减少接触面积，提高了技术人员的工作难度。最后，一杯锗原料大概15公斤左右，技术人员要在高温下将其从电炉上搬下，马上取出、烘干，由于生产量大，技术人员一天要多次操作，体力消耗大，而且电炉属于明火，存在安全隐患。
技术实现思路
针对上述问题，本技术的目的是提供一种新型锗原料清洗腐蚀装置，其具有半自动化，一次投入锗原料量大，洁净度高的优点。为实现上述目的，本技术采取以下技术方案:一种新型锗原料清洗腐蚀装置，它包括清洗加热槽、原料支架和天车；该清洗加热槽内设有一个或多个石英杯，该石英杯底部设有加热丝；该原料支架设于一个石英杯内部，底部不与该石英杯底部接触，且该原料支架与上部的天车的吊钩通过钢丝连接；该原料支架为不锈钢框架，内部具有若干个网状的放置层；该原料支架的各部件外部均包覆有聚四氟层；该天车设于上部轨道上。进一步的，所述放置层具有若干凸起，使该放置层表面凹凸不平。进一步的，所述天车的吊钩下方设有遮挡板。进一步的，所述石英杯底部设有泄水阀。本技术的有益效果是:采用本技术对锗原料进行清洗，可以大幅度提高原料清洗效率，而且清洗质量也有明显改善，整个过程中人员无大体力操作，采用天车实现半自动操作，放置原料的难度降低。另外，技术人员也无需接触高温，远离明火，明显减少了的操作强度、难度，提高了工作的安全性。【附图说明】图1是本技术的结构示意图。图2是本技术的放置层的俯视图。【具体实施方式】以下结合附图对本技术做进一步的说明，然而并非用以限制本技术的范围。如图1所示，本技术提供一种新型锗原料清洗腐蚀装置，它包括清洗加热槽1、原料支架2和天车3，该天车3设于上部轨道4上，负责原料支架2的升降、平移。该原料支架2与上部的天车3的吊钩31通过钢丝5连接。该清洗加热槽I用于盛放去离子水及清洗液，内设有一个或多个石英杯6，该石英杯6底部设有加热丝7。该原料支架2设于一个石英杯内部，天车3设定下降下限，确保原料支架2不会接触石英杯6底部。原料清洗过程中，石英杯6只起到盛水作用，受力小，过程中无搬动，可以做到超大尺寸。所述石英杯6底部设有泄水阀61，用于排放里面的液体。如图1、图2所示，该原料支架2为不锈钢框架，因其骨干由不锈钢构成，所以承重大。该原料支架2内部具有若干个网状的放置层21，锗原料8单层放在各放置层21上，原料之间不会叠加接触，减少了锗原料之间的接触，尽可能增大清洗面积。该原料支架2的各部件外部均包覆有聚四氟层，具体来说，不锈钢框架所有浸水部分外面套有聚四氟管，接缝处紧密缠上聚四氟生料带，保证不锈钢不会接触清洗液和水，确保清洗质量。进一步的，所述放置层21具有若干凸起22，使该放置层21表面凹凸不平，保证锗原料8与放置层21间没有面或线接触。进一步的，所述天车3的吊钩31下方设有遮挡板9，既能防止天车3的油污掉入清洗液，也能防止清洗液的高温蒸汽挥发到天车3上，确保洁净。在实际清洗过程中，技术人员将待清洗锗原料8 一层层放在原料支架2的各放置层21上，原料的清洗面积可以做到最大。由天车3平稳放入盛有清洗液的石英杯6中，原料支架2不落入石英杯6底部，整个过程一直用天车3提拉原料支架2，石英杯6不受锗原料重力，石英杯不易坏。石英杯6底部加热丝7加热清洗液，因为加热丝7在清洗加热槽I内部，所以热量损耗小，加热无明火，人员安全性提高。因为石英杯6 —次清洗量大幅增加，所以注水、加热、放水时间也大幅增加，为了减少等待时间，采用双杯或多杯的方式，即在清洗加热槽I内放置两个或多个石英杯，均放置清洗液和去离子水，并可以提前预热。锗原料在第一杯清洗液中处理好后，用天车提出，放入第二个石英杯中继续清洗，这样大幅减少了等待时间。锗原料8完全清洗干净后，再用天车3提出，放到安全位置，技术人员取料。采用本技术对锗原料进行清洗，可以大幅度提高原料清洗效率。现有技术一次只能清洗15公斤左右的锗原料，采用本技术在相同时间下，一次可以清洗50公斤左右的锗原料。而且清洗质量也有明显改善，原料表面未清洗到的面积明显减少。整个过程中人员无大体力操作，采用天车实现半自动操作，放置原料的难度降低。另外，技术人员也无需接触高温，远离明火，明显减少了的操作强度、难度，提高了工作的安全性。以上所述，仅是本技术的较佳实施例而已，并非对本技术的结构作任何形式上的限制。凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本技术的技术方案的范围内。【主权项】1.一种新型锗原料清洗腐蚀装置，其特征在于，它包括清洗加热槽、原料支架和天车；该清洗加热槽内设有一个或多个石英杯，该石英杯底部设有加热丝；该原料支架设于一个石英杯内部，底部不与该石英杯底部接触，且该原料支架与上部的天车的吊钩通过钢丝连接；该原料支架为不锈钢框架，内部具有若干个网状的放置层；该原料支架的各部件外部均包覆有聚四氟层；该天车设于上部轨道上。2.根据权利要求1所述的新型锗原料清洗腐蚀装置，其特征在于:所述放置层具有若干凸起，使该放置层表面凹凸不平。3.根据权利要求1或2所述的新型锗原料清洗腐蚀装置，其特征在于:所述天车的吊钩下方设有遮挡板。4.根据权利要求3所述的新型锗原料清洗腐蚀装置，其特征在于:所述石英杯底部设有泄水阀。【专利摘要】一种新型锗原料清洗腐蚀装置，它包括清洗加热槽、原料支架和天车；该清洗加热槽内设有一个或多个石英杯，该石英杯底部设有加热丝；该原料支架设于一个石英杯内部，底部不与该石英杯底部接触，且该原料支架与上部的天车的吊钩通过钢丝连接；该原料支架为不锈钢框架，内部具有若干个网状的放置层；该原料支架的各部件外部均包覆有聚四氟层；该天车设于上部轨道上。本技术新型锗原料清洗腐蚀装置，其具有半自动化，一次投入锗原料量大，洁净度高的优点。【IPC分类】C23G3-00【公开号】CN204369994【申请号】CN201420806894【专利技术人】王霈文, 冯德伸 【申请人】北京国晶辉红外光学科技有限本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型锗原料清洗腐蚀装置，其特征在于，它包括清洗加热槽、原料支架和天车；该清洗加热槽内设有一个或多个石英杯，该石英杯底部设有加热丝；该原料支架设于一个石英杯内部，底部不与该石英杯底部接触，且该原料支架与上部的天车的吊钩通过钢丝连接；该原料支架为不锈钢框架，内部具有若干个网状的放置层；该原料支架的各部件外部均包覆有聚四氟层；该天车设于上部轨道上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王霈文，冯德伸，
申请(专利权)人：北京国晶辉红外光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11