蒸发镀膜仪制造技术

本实用新型专利技术公开了一种蒸发镀膜仪，包括机架，机架上设有真空室，真空室内设有载物台；载物台设置在真空室的上腔体中，真空室的下腔体中设有电蒸发系统，电蒸发系统包括陶封电极，陶封电极包括公共电极及一个以上的负极，公共电极与负极之间连接有钨体。本实用新型专利技术通过钨体，依靠电蒸发系统和真空腔室，采用从下往上的蒸发方式，大大的提高了蒸发的效率，可简单并有效的满足蒸镀要求。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种镀膜装置，具体涉及一种蒸发镀膜仪。
技术介绍
目前，蒸发镀膜仪即可以用作一种光学镀膜，金属、非金属表面镀膜设备，也可以用作电子显微镜制样、镀导电膜、光栏加热清洗、教学及生产线前期工艺试验时所必须使用的设备，已经广泛应用在研宄院校和实验当中。现在技术中的蒸发镀膜仪，大多只装有单个钨舟，并采用从上向下的镀膜的方式，存在效率低的缺陷，无法有效满足实验要求。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种结构简单、镀膜效率高的蒸发镀膜仪。一种蒸发镀膜仪，包括机架，机架上设有真空室，真空室内设有载物台；载物台设置在真空室的上腔体中，真空室的下腔体中设有电蒸发系统，电蒸发系统包括陶封电极，陶封电极包括公共电极及一个以上的负极，公共电极与负极之间连接有钨体。作为对上述技术方案的进一步描述:所述钨体为钨舟或钨丝篮。作为对上述技术方案的进一步描述:所述真空室包括石英玻璃罩，石英玻璃罩的上下端分别盖设有上盖板与下盖板，上盖板一端铰接在石英玻璃罩上，载物台固定在上盖板的底面上。作为对上述技术方案的进一步描述:所述真空室上开设有真空抽气口，真空泵通过管路与真空抽气口相连通。作为对上述技术方案的进一步描述:所述载物台一侧设有用于检测镀膜厚度的测厚仪。作为对上述技术方案的进一步描述:所述钨体之间设有挡板，挡板底部设有旋转轴，由电机带动旋转。本技术通过钨体，依靠电蒸发系统和真空腔室，采用从下往上的蒸发方式，大大的提高了蒸发的效率，可简单并有效的满足蒸镀要求。【附图说明】为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的结构示意图。图例说明:1、机架；2、真空室；21、石英玻璃罩；22、上盖板；23、下盖板；3、载物台；4、电蒸发系统；41、陶封电极；411、公共电极；412、负极；42、钨体；5、测厚仪；6、挡板；7、旋转轴；8、电机。【具体实施方式】下面结合附图对本技术的优选实施例进行详细阐述，以使本技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。参见图1，本技术提供的一种蒸发镀膜仪，包括机架1，机架I上设有真空室2，真空室2内设有载物台3，为了解决
技术介绍
中所述的技术问题，本技术的技术方案是，载物台3设置在真空室2的上腔体中，真空室2的下腔体中设有电蒸发系统4，电蒸发系统4包括陶封电极41，陶封电极41包括公共电极411及一个以上的负极412，公共电极411与负极412之间连接有钨体42。使用时，将样品(如AL，Mg，和Li等)放在钨体42上，再将真空室2抽真空，并通惰性气体反复清洗几次真空室2，之后将电蒸发系统4通电，使钨体42上的样品挥发，打在载物台2上的待镀件上即可。通过钨体42，依靠电蒸发系统4和真空腔室，采用从下往上的蒸发方式，大大的提高了蒸发的效率，可简单并有效的满足蒸镀要求。本实施例中，钨体42为钨舟或钨丝篮。可以根据使用需要进行选择适用。本实施例中，真空室2包括石英玻璃罩21，石英玻璃罩21的上下端分别盖设有上盖板22与下盖板23，上盖板22 —端铰接在石英玻璃罩21上，载物台3固定在上盖板22的底面上。目的在于，石英玻璃罩21具有较好的强度及耐热性，配合上盖板22与下盖板23的盖合方式，能方便的进行组装、维护，载物台3固定在上盖板22的底面上，能够确保蒸发全面，操作时也非常方便。本实施例中，真空室2上开设有真空抽气口，真空泵(图未示)通过管路与真空抽气口相连通。目的在于，提高操作时的方便度及可控性。本实施例中，载物台3 —侧设有用于检测镀膜厚度的测厚仪5。本实施例中，钨体42之间设有挡板6，挡板6底部设有旋转轴7，由电机8带动旋转。目的在于，使得钨体42的样品之间不会受到污染。以上所述仅是本技术的优选实施方式，本技术的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本技术思路下的技术方案均属于本技术的保护范围。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。【主权项】1.一种蒸发镀膜仪，包括机架，机架上设有真空室，真空室内设有载物台，其特征在于:所述载物台设置在真空室的上腔体中，真空室的下腔体中设有电蒸发系统，电蒸发系统包括陶封电极，陶封电极包括公共电极及一个以上的负极，公共电极与负极之间连接有钨体。2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜仪，其特征在于:所述钨体为钨舟或钨丝篮。3.根据权利要求1或2所述的蒸发镀膜仪，其特征在于:所述真空室包括石英玻璃罩，石英玻璃罩的上下端分别盖设有上盖板与下盖板，上盖板一端铰接在石英玻璃罩上，载物台固定在上盖板的底面上。4.根据权利要求1或2所述的蒸发镀膜仪，其特征在于:所述真空室上开设有真空抽气口，真空泵通过管路与真空抽气口相连通。5.根据权利要求1或2所述的蒸发镀膜仪，其特征在于:所述载物台一侧设有用于检测镀膜厚度的测厚仪。6.根据权利要求1所述的蒸发镀膜仪，其特征在于:所述钨体之间设有挡板，挡板底部设有旋转轴，由电机带动旋转。【专利摘要】本技术公开了一种蒸发镀膜仪，包括机架，机架上设有真空室，真空室内设有载物台；载物台设置在真空室的上腔体中，真空室的下腔体中设有电蒸发系统，电蒸发系统包括陶封电极，陶封电极包括公共电极及一个以上的负极，公共电极与负极之间连接有钨体。本技术通过钨体，依靠电蒸发系统和真空腔室，采用从下往上的蒸发方式，大大的提高了蒸发的效率，可简单并有效的满足蒸镀要求。【IPC分类】C23C14-26【公开号】CN204369974【申请号】CN201420843031【专利技术人】邾根祥, 朱沫浥, 汪震, 江晓平 【申请人】合肥科晶材料技术有限公司【公开日】2015年6月3日【申请日】2014年12月25日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸发镀膜仪，包括机架，机架上设有真空室，真空室内设有载物台，其特征在于：所述载物台设置在真空室的上腔体中，真空室的下腔体中设有电蒸发系统，电蒸发系统包括陶封电极，陶封电极包括公共电极及一个以上的负极，公共电极与负极之间连接有钨体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邾根祥，朱沫浥，汪震，江晓平，
申请(专利权)人：合肥科晶材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34