本实用新型专利技术公开了一种石墨烯清洗装置，包括机架、位于机架上工作槽、安装在工作槽内的滚动轴阵列、以及覆盖在工作槽上方的多个清洗室；所述滚动轴阵列通过链条连接滚动电机；所述滚动轴阵列两头均长出清洗室，其中一端为输入端，另一端为输出端；所述机架一侧设有泵、过滤池，并通过管道连接将泵、过滤池与位于清洗室内的清洗管道形成循环。本实用新型专利技术所述的石墨烯清洗装置，具有清洗效率高，使用方便的特点。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及石墨烯生产设备领域，特别是一种用于石墨烯清洗的装置。
技术介绍
石墨稀(Graphene)是一种由碳原子构成的单层片状结构的新材料。是一种由碳原子以sp2杂化轨道组成六角型呈蜂巢晶格的平面薄膜，只有一个碳原子厚度的二维材料。石墨烯是已知的世上最薄、最坚硬的纳米材料，它几乎是完全透明的，只吸收2.3%的光；导热系数高达5300 W/m.K，高于碳纳米管和金刚石，常温下其电子迀移率超过15000 cm2/V.S，又比纳米碳管或硅晶体高，而电阻率只约10-8 Ω.cm，比铜或银更低，为世上电阻率最小的材料。因其电阻率极低，电子迀移的速度极快，因此被期待可用来发展更薄、导电速度更快的新一代电子元件或晶体管。由于石墨烯具有这些特殊性能，适合用来制造透明触控屏幕、光板、甚至是太阳能电池等领域，使得石墨烯制备与应用近年来获得空前的关注和研发。目前，石墨烯的制备一般都采用在金属基材上生长石墨烯，然后再去除金属基材获得石墨烯。但是，在去除金属基材的过程中，目前并没有较好的装置能够便捷、快速去除。本案由此而产生。
技术实现思路
本技术解决的问题是提供一种石墨烯清洗装置，解决现有石墨烯生长好后无法简便去除基材的问题。为解决上述问题，本技术采用的技术方案为:一种石墨烯清洗装置，包括机架、位于机架上工作槽、安装在工作槽内的滚动轴阵列、以及覆盖在工作槽上方的多个清洗室；所述滚动轴阵列通过链条连接滚动电机；所述滚动轴阵列两头均长出清洗室，其中一端为输入端，另一端为输出端；所述机架一侧设有泵、过滤池，并通过管道连接将泵、过滤池与位于清洗室内的清洗管道形成循环。进一步的，所述清洗室依次包含酸洗室、酸泡室、水洗室和风干室，并且每个清洗室顶部均设有可开关的透明观察窗。进一步的，所述机架四周由隔离门围住，且在机架底部设有滚轮和可升高支撑脚。进一步的，所述管道均采用管卡固定在机架上。与现有技术相比，本技术技术方案的优点在于:通过设计滚动轴阵列形成传输机构，将生长在金属基材上石墨烯依次输送通过多个清洗室进行清洗，直至去除金属基材并获得干燥，最后输出石墨烯成品。进一步的，各清洗室的清洗管道设计成可循环连接，使得清洗液能够经过过滤等处理后循环使用，提高清洗液的利用率，降低成本。本技术所述的石墨烯清洗装置，方便快捷地实现去除石墨烯生长基材的目的，并且能够循环利用清洗液，降低清洗成本，从而提高了石墨烯生产率。【附图说明】图1为本技术所述的石墨烯清洗装置示意图。图2为图1的左视图。图3为图1的俯视图。【具体实施方式】下面结合附图对本技术的【具体实施方式】作详细说明。结合图1至图3所示，一种石墨烯清洗装置，包括机架1、工作槽2、滚动轴阵列3及清洗室。所述机架I两侧用于安装管道5以及水泵6、压缩泵7、电机8等设备，机架I顶部装有工作槽2，工作槽2内为滚动轴阵列3，所述滚动轴阵列的端部通过齿轮和链条与滚动电机8连接。工作时，滚动电机8带动链条和齿轮，进而带动滚动轴转动。所述清洗室分为酸洗室41、酸泡室42、水洗室43和风干室44。酸洗室41通过设置在滚动轴上方的管道向下喷洒酸洗液，对通过该酸洗室的石墨烯进行酸洗。酸泡室42则将酸泡液淋洒在石墨烯上，使得整个石墨烯及其金属基材浸泡在酸泡液中，对金属基材进一步溶解去除。水洗室43通过管道设置有喷头，去离子水通过喷头喷出，对石墨烯进行清洗，去除前两道酸洗、酸泡留下的酸液。为了保证清洗干净，本具体实例中，设有两道水洗室43。最后的风干室44，则对清洗干净的石墨烯进行风干，去除石墨烯上残留的水分。其中，风干室44也可以设置多个，比如在两道酸洗后增加一个风干室，用于吹干石墨烯及基材上的酸洗液，然后再进入水洗室。其中，为了便于观察各个清洗室的工作状况，在每个清洗室上方均设置有透明的观察窗45，并且该观察窗45设有把手451，必要时，可以通过把手将观察窗打开。其中，所述机架I四周均由隔离门11围住，防止机架上的设备受到碰撞损坏，而且，也使得整个机架更整洁干净。同时，为了移动方便，整个机架I的底部设有滚轮12和可升高支撑脚13。当需要移动整个清洗装置时，将支撑脚收起，则滚轮着地，即可推动移动；当需要固定时，将支撑脚打开，作为支撑，滚轮离地，即可固定。本技术所述的石墨烯清洗装置，其使用过程如下:将生长在金属基材上的石墨烯固定至玻璃板上，然后放置到清洗装置的滚动轴阵列的输入端；启动滚动电机，滚动轴阵列将玻璃板传输至酸洗室进行酸洗刻蚀石墨烯的生长基材；酸洗后进入酸泡室继续进行金属基材的刻蚀，直至去除干净；接着，采用风干室进行风干残留的酸洗液，再进入水洗室进行水洗，彻底去除残留的酸洗液，最后将石墨烯风干，并输出至输出端，取出石墨烯即可。本技术所述的石墨烯清洗装置，通过设计滚动轴阵列形成传输机构，将生长在金属基材上石墨烯依次输送通过多个清洗室进行清洗，直至去除金属基材并获得干燥，最后输出石墨烯成品。进一步的，各清洗室的清洗管道设计成可循环连接，使得清洗液能够经过过滤等处理后循环使用，提高清洗液的利用率，降低成本。本技术所述的石墨烯清洗装置，方便快捷地实现去除石墨烯生长基材的目的，并且能够循环利用清洗液，降低清洗成本，从而提高了石墨烯生产率。本技术虽然以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本技术，任何本领域技术人员在不脱离本技术的精神和范围内，都可以做出可能的变动和修改，因此本技术的保护范围应当以本技术权利要求所界定的范围为准。【主权项】1.一种石墨烯清洗装置，其特征在于，包括机架、位于机架上工作槽、安装在工作槽内的滚动轴阵列、以及覆盖在工作槽上方的多个清洗室；所述滚动轴阵列通过链条连接滚动电机；所述滚动轴阵列两头均长出清洗室，其中一端为输入端，另一端为输出端；所述机架一侧设有泵、过滤池，并通过管道连接将泵、过滤池与位于清洗室内的清洗管道形成循环。2.根据权利要求1所述的石墨烯清洗装置，其特征在于，所述清洗室依次包含酸洗室、酸泡室、水洗室和风干室，并且每个清洗室顶部均设有可开关的透明观察窗。3.根据权利要求1所述的石墨烯清洗装置，其特征在于，所述机架四周由隔离门围住，且在机架底部设有滚轮和可升高支撑脚。4.根据权利要求1所述的石墨烯清洗装置，其特征在于，所述管道均采用管卡固定在机架上。【专利摘要】本技术公开了一种石墨烯清洗装置，包括机架、位于机架上工作槽、安装在工作槽内的滚动轴阵列、以及覆盖在工作槽上方的多个清洗室；所述滚动轴阵列通过链条连接滚动电机；所述滚动轴阵列两头均长出清洗室，其中一端为输入端，另一端为输出端；所述机架一侧设有泵、过滤池，并通过管道连接将泵、过滤池与位于清洗室内的清洗管道形成循环。本技术所述的石墨烯清洗装置，具有清洗效率高，使用方便的特点。【IPC分类】C01B31-04【公开号】CN204369571【申请号】CN201420762659【专利技术人】刘长江, 连榕 【申请人】厦门烯成新材料科技有限公司【公开日】2015年6月3日【申请日】2014年12月8日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种石墨烯清洗装置，其特征在于，包括机架、位于机架上工作槽、安装在工作槽内的滚动轴阵列、以及覆盖在工作槽上方的多个清洗室；所述滚动轴阵列通过链条连接滚动电机；所述滚动轴阵列两头均长出清洗室，其中一端为输入端，另一端为输出端；所述机架一侧设有泵、过滤池，并通过管道连接将泵、过滤池与位于清洗室内的清洗管道形成循环。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘长江，连榕，
申请(专利权)人：厦门烯成新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35
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