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线圈制造技术

技术编号:11555355 阅读:224 留言:0更新日期:2015-06-04 04:04
本发明专利技术提供一种维持寄生电容的平衡性并且具有能够进行多层结构化的线圈构造的线圈。其是在各层具备由平面状卷绕多次的导线构成的绕组部(2a,2b)的层叠结构的线圈(11),各层的绕组部(2a,2b)由对于各层实施从最下层朝向最上层往相同卷绕方向单次卷绕的第1卷绕部分、以及对于各层实施从最上层朝向最下层往相同卷绕方向单次卷绕的第2卷绕部分构成,第1卷绕部分与第2卷绕部分的卷绕方向彼此相同,并且第1卷绕部分与第2卷绕部分在最上层或最下层连结。

【技术实现步骤摘要】
线圈
本专利技术涉及用于非接触提供电力的非接触供电装置的发送电力用或接收电力用的线圈。
技术介绍
近年来,从发送电力侧向接收电力侧非接触传送电力的非接触电力传送技术引人注目。例如,为了对搭载于电动汽车等的蓄电池进行充电而使用该非接触电力传送技术的非接触充电装置的开发日益盛行。在该非接触充电装置中,大多使用平面状构成的螺旋状的线圈作为发送电力用或接收电力用的线圈。但是,作为发送电力用或接收电力用的线圈,为了获得充分的特性,存在线圈尺寸变大的问题。在专利文献1中,作为解决该问题的手段,公开了形成在第1层的螺旋状的线圈与形成在第2层的螺旋状的线圈串联连接而成的双层结构的线圈。这种螺旋状的线圈通常是在线圈平面的背面配置由磁性材料构成的磁性平板和由非磁性的金属材料构成的金属平板(例如,铝板及铜板)来使用,因而在线圈的导体与金属平板之间会产生寄生电容。而且,在双层结构的线圈中,形成在第1层的螺旋状的线圈的导体与金属平板的距离跟形成在第2层的螺旋状的线圈的导体与金属平板的距离不同,因此,形成在第1层的螺旋状的线圈的导体与金属平板之间所产生的寄生电容跟形成在第2层的螺旋状的线圈的导体与金属平板之间所产生的寄生电容会产生差异。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2011-86890号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题因此,在使用专利文献1中公开的双层结构的线圈进行电力传送的情况下,在该寄生电容的不平衡性的影响下,有时金属平板的对地电压变高。因此,本专利技术的目的在于,提供一种维持与金属平板的寄生电容的平衡性并且具有能够进行多层结构化的线圈构造的线圈。另外,本专利技术的目的还在于提供一种生产效率良好的多层结构的线圈。解决技术问题的手段为了解决上述课题,本专利技术所涉及的线圈,其特征在于,是在各层具备由平面状卷绕多次的导线构成的绕组部,各层的所述绕组部由对于各层实施从最下层朝向最上层往相同卷绕方向单次卷绕的第1卷绕部分、以及对于各层实施从最上层朝向最下层往相同卷绕方向单次卷绕的第2卷绕部分构成,第1卷绕部分与第2卷绕部分的卷绕方向彼此相同,并且第1卷绕部分与第2卷绕部分在最上层或最下层连结。在该结构中,能够将导线的各部分分散地分配在各层的绕组部。即,能够使从最下层到最上层的构成各层的绕组部的部分散布在从导线的一个端部到另一个端部之间,不会产生最下层的绕组部分配在接近于导线的一个端部的侧而最上层的绕组部分配在接近于导线的另一个端部的侧那样的偏颇。因此,也抑制了起因于线圈的构造的与金属平板的寄生电容的不平衡性。另外,由于各层的卷绕并行地进行,因此能够有效地制造多层结构的线圈。优选地,相邻的上层和下层的所述绕组部可以经由绝缘构件而相对。根据该结构,由于相邻的上层和下层的所述绕组部被隔离,因此能够减少这些绕组部间的接近效应所引起的损失。优选地,所述绝缘构件是设置有狭缝的平板状的构件,相邻的上层和下层的所述绕组部的导线经由所述狭缝而连结。通过在平板状的构件设置狭缝,从而能够有效地形成各层的绕组部。另外,经由狭缝,导线在相邻的上层和下层的绕组部间被连结,因此也不会对导线赋予过度的压迫。另外,本专利技术所涉及的线圈,其特征在于,是层叠结构的线圈,具备:骨架,其具有将各层的导线收纳部分隔的平板部;以及绕组部,其由平面状卷绕多次的导线构成,收纳于各层的所述导线收纳部,所述绕组部由对于各层实施从所述导线收纳部的最下层朝向最上层往相同卷绕方向单次卷绕的第1卷绕部分、以及对于各层实施从所述导线收纳部的最上层朝向最下层往相同卷绕方向单次卷绕的第2卷绕部分,第1卷绕部分与第2卷绕部分的卷绕方向彼此相同,并且第1卷绕部分与第2卷绕部分在所述导线收纳部的最上层或最下层连结。在该结构中,能够将导线的各部分分散地分配在各层的收纳于导线收纳部的绕组部。因此,也抑制了起因于线圈的构造的寄生电容的不平衡性。此外,由于各层的导线收纳部被平板部隔离,因此能够减少相邻的上层和下层的绕组部间的接近效应所引起的损失。另外,由于各层的导线收纳部的卷绕并行地进行,因此能够有效地制造多层结构的线圈。优选地,所述平板部具有狭缝,相邻的上层和下层的收纳于所述导线收纳部的所述绕组部的导线经由所述狭缝而连结。通过设置狭缝,能够有效地形成收纳于各层的导线收纳部的绕组部。另外,经由狭缝,导线在分别被收纳在相邻的上层和下层的导线收纳部的两个绕组部间被连结,因此,也不会对导线赋予过度的压迫。专利技术的效果根据本专利技术的多层结构的线圈,能够有效地制造与金属平板的寄生电容的分布更均匀的多层结构的线圈。附图说明图1是表示第1实施方式所涉及的双层结构的线圈的结构的分解图。图2是表示第1实施方式所涉及的双层结构的线圈的截面的截面图。图3是表示第2实施方式所涉及的双层结构的线圈的结构的分解图。图4是表示第2实施方式所涉及的双层结构的线圈的截面的截面图。图5是表示狭缝的截面的截面图。图6是表示三层结构的线圈的截面的截面图。图7是表示非接触电力传送电路的主要部分的电路图。图8是表示发送电力线圈和接收电力线圈的结构的截面图。图9是表示发送电力线圈和接收电力线圈的结构的截面图。符号的说明:1…骨架,1a,1b,1c…平板部,2…导线,2a,2b,2c…绕组部,3…狭缝,4…倒角部,10,30…发送电力线圈,11,21,31a,31b,41a,41b…线圈,12,22,32,42…磁性构件,13,23,33,43…金属平板,20,40…接收电力线圈。具体实施方式参照附图说明用于实施专利技术的方式。还有,本专利技术不受以下的实施方式中所说明的内容限定。另外,在以下的说明中,对于相同要素或具有相同功能的要素使用相同符号,省略重复的说明。图1是将本专利技术第1实施方式所涉及的双层结构的线圈各层分离而表示的分解图,图2是表示该线圈的a-a’截面的截面图。该双层结构的线圈具备通过卷绕导线2而形成的第1层(最下层)的绕组部2a和第2层(最上层)的绕组部2b。另外,该线圈的骨架1在平板部1a的上面侧具备第1层(最下层)的导线收纳部和第2层(最上层)的导线收纳部。而且,第1层(最下层)的绕组部2a收纳于第1层(最下层)的导线收纳部,第2层(最上层)的绕组部2b收纳于第2层(最上层)的导线收纳部。在此,导线收纳部是指收纳有各层的绕组的空间。即,在本实施方式中,具备收纳有第1层的绕组部2a的导线收纳部和收纳有第2层的绕组部2b的导线收纳部两个。在该双层结构的线圈中,第1层(最下层)的绕组部2a的最内周的绕组与第2层(最上层)的绕组部2b的最内周的绕组(第1圈绕组)连结(直接连接),从绕组部2a的内周侧起第2圈的绕组(第2圈绕组)和从绕组部2b的内周侧起第2圈的绕组(第2圈绕组)连结(直接连接),以下同样地,相同的卷绕数的绕组彼此相互连结(直接连接)。另外,第1圈绕组与第2圈绕组在第2层(最上层)连结,第2圈绕组与第3圈绕组在第1层(最下层)连结,以下同样地,在第1层(最下层)或第2层(最上层)各卷绕数目的绕组连结于下一卷绕数目的绕组。即,在本专利技术所涉及的n层结构的线圈(n为2以上的整数)中,各层的第j圈(j为1以上的整数)的绕组在相邻的层间相互连结,第j圈绕组与(j+1)圈绕组在第1层(最下层)或第n层(最上层)连结。另外,形成各层的绕组部的全部绕组往本文档来自技高网...
线圈

【技术保护点】
一种线圈,其特征在于,是在各层具备由平面状卷绕多次的导线构成的绕组部的层叠结构的线圈,各层的所述绕组部由对于各层实施从最下层朝向最上层往相同卷绕方向单次卷绕的第1卷绕部分、以及对于各层实施从最上层朝向最下层往相同卷绕方向单次卷绕的第2卷绕部分构成,第1卷绕部分与第2卷绕部分的卷绕方向彼此相同,并且第1卷绕部分与第2卷绕部分在最上层或者最下层连结。

【技术特征摘要】
2013.11.28 JP 2013-246455;2014.10.17 JP 2014-212671.一种线圈,其特征在于,是在各层具备由平面状卷绕多次的导线构成的绕组部的层叠结构的线圈,各层的所述绕组部由对于各层实施从最下层朝向最上层往相同卷绕方向单次卷绕的第1卷绕部分、以及对于各层实施从最上层朝向最下层往相同卷绕方向单次卷绕的第2卷绕部分构成,第1卷绕部分与第2卷绕部分的卷绕方向彼此相同,并且第1卷绕部分与第2卷绕部分在最上层或者最下层连结,各层的所述绕组部的圈数比多层结构的层数大。2.如权利要求1所述的线圈,其特征在于,相邻的上层和下层的所述绕组部经由绝缘构件而相对。3.如权利要求2所述的线圈,其特征在于,所述绝...

【专利技术属性】
技术研发人员:铃木满成鸭野武志寺崎泰弘千代宪隆
申请(专利权)人:TDK株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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