模体及多射线源X射线设备的对中校正方法技术

技术编号:11544398 阅读:96 留言:0更新日期:2015-06-03 18:11
模体及多射线源X射线设备对中校正方法。所述模体包括本体、一第一对中体和若干沿所述本体表面布置的第二对中体,所述第二对中体与所述第一对中体位于同一平面,所述第一对中体与每个所述第二对中体之间的距离相等。本发明专利技术技术方案的模体在本体的内部设置一个第一对中体,在本体的表面设置多个对应于射线源的第二对中体,在对多个射线源进行对中校正时,观察第一对中体和第二对中体在由探测器获得的灰度图像中的成像区域是否重合即可判断上述多个射线源是否对中,满足了多射线源X射线设备对中校正的目的。

【技术实现步骤摘要】
模体及多射线源X射线设备的对中校正方法
本专利技术涉及医疗设备领域,特别涉及一种模体及多射线源X射线设备的对中校正方法。
技术介绍
数字化X射线摄影(DigitalRadiography,DR)设备作为一种图像分辨率高、成像速度快、后处理功能强大、辐射剂量低的医疗设备,广泛应用于医学诊断和治疗领域。在利用X射线穿透人体或受检对象时,由于人体或受检对象各组织,例如肌肉、骨骼等的密度不同,因此对X射线的吸收也不同。穿透人体或受检对象的X射线照射在探测器后便形成反应人体或受检对象内部组织结构的图像,医生可以根据上述图像诊断疾病的性质。目前医院中应用的典型X射线摄影设备的球管是采用一种“热”真空管驱动的,在这种“热”真空管内,一个类似于白炽灯泡中的钨金属丝被加热到1000摄氏度,并释放出电子,加速的电子打倒阳极靶上,从而产生X射线。由于撞击会产生大量热,故阳极靶需要水冷。由于这种热光源是单一光源,因此,对上述热光源进行对中校正的模体也是针对单一光源设计的。随着X射线源技术的发展,目前已经开发出了一种冷光源。这种冷光源以碳纳米管取代了钨丝。当有电压时,碳纳米管的尖端瞬时发出电子。碳纳米管的特征之一是可瞬间开启或关闭。应用多个碳纳米管序列组成的X射线源即为多射线源X射线球管。现有的针对单一光源的对中校正设计的模体无法对上述多射线源的X射线球管进行对中校正。
技术实现思路
本专利技术所要解决的是现有针对单一光源对中校正设计的模体无法对多射线源的X射线球管进行对中校正的问题。为解决上述问题,本专利技术技术方案提供一种模体,包括本体、一第一对中体和若干沿所述本体表面布置的第二对中体,所述第二对中体与所述第一对中体位于同一平面,所述第一对中体与每个所述第二对中体之间的距离相等。可选地,所述本体为半圆柱体,半圆柱体的侧面设有若干用于固定所述第二对中体的卡位,所述第二对中体布置于第一侧边,所述第一侧边是指与半圆柱体底面平行的截面和半圆柱体侧面相交的曲线,所述第一对中体位于所述卡位对应半圆的圆心。可选地,所述卡位在所述第一侧边上以所述第一对中体为圆心间隔一预设角度布置。可选地,所述预设角度大于或等于1°且小于或等于5°。可选地,所述本体的半径大于或等于60mm且小于或等于150mm。可选地,所述本体由均质材料制成。可选地,所述本体的材料为聚甲基丙烯酸甲酯。可选地,对于波长相同的射线,所述第一对中体的衰减系数大于或等于铁的衰减系数。可选地,对于波长相同的射线,所述第二对中体的衰减系数大于或等于铁的衰减系数。可选地,所述第一对中体的衰减系数与所述第二对中体的衰减系数相同。可选地,所述模体还包括一连接于所述本体的基座。相应地,本专利技术还提供一种多射线源X射线设备的对中校正方法,所述方法包括:将上述模体放置于所述多射线源X射线设备的X射线源与探测器之间;获取所述模体的灰度图像;评估所述灰度图像以确定是否校正所述多射线源X射线设备的X射线源。可选地,所述评估所述灰度图像以确定是否校正所述多射线源X射线设备的X射线源包括:判断所述第一标志和所述第二标志是否重合,所述第一标志是指所述灰度图像中与所述第一对中体相应的成像区域,所述第二标志是指所述灰度图像中与所述第二对中体相应的成像区域;若所述第一标志与所述第二标志不重合,则校正所述多射线源X射线设备的X射线源。与现有技术相比,本专利技术技术方案在模体的本体的内部设置一个第一对中体,在本体的表面设置多个对应于射线源的第二对中体,在对多个射线源进行对中校正时,观察第一对中体和第二对中体在由探测器获得的灰度图像中的成像区域是否重合即可判断上述多个射线源是否对中,满足了多射线源X射线设备对中校正的目的。附图说明图1是多射线源的X射线球管示意图;图2是对中校正原理示意图;图3是本专利技术一实施例的模体的示意图;图4是本专利技术另一实施例的模体的示意图;图5是本专利技术又一实施例的模体的示意图;图6是本专利技术一实施例的多射线源X射线设备的对中校正方法的流程图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂,下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广。因此本专利技术不受下面公开的具体实施方式的限制。为保证X射线摄影设备等成像的稳定性及图像的数据准确性,需要在出厂前及日常的测试和质量检测中利用各种模体对医疗设备进行校正,也称模体校正。对多射线源的X射线球管进行对中校正正是其中一种。参阅图1,图1是多射线源的X射线球管示意图。该X射线球管上的多个射线源并排布置,每个射线源之间间隔一定距离。在进行X射线检查时,多个X射线源均可发出X射线。参阅图2,图2是对中校正原理示意图。在对上述多射线源的X射线球管进行对中校正时,各个射线源10将X射线投射至探测器20上,例如,可以将X射线源投射至探测器20的中心。通过观察探测器20获得的灰度图像,可以判断这些射线源是否对中。基于此,本专利技术提供一种模体。参阅图3,图3是本专利技术一实施例的模体的示意图。所述模体100包括本体130、一第一对中体110和若干沿所述本体130表面布置的第二对中体120,所述第二对中体120与所述第一对中体110位于同一平面,所述第一对中体110与每个所述第二对中体120之间的距离相等。所述第一对中体110可以根据需要制成多种形状,例如球体或圆形薄片等。对于球体的第一对中体,球体的半径可以是1mm至2mm。所述第二对中体120也可以根据需要制成多种形状,例如球体或圆形薄片等。对于球体的第二对中体,球体的半径可以是1mm至2mm。需要说明的是,当使用在同一模体上时,优选采用形状相同的第二对中体,以便在灰度图像中得到形状相同的成像区域,便于根据上述成像区域是否重合判别多个射线源是否对中。本实施例中,所述本体130为半圆柱体,半圆柱体的侧面设有若干用于固定所述第二对中体120的卡位。所述卡位的形状可以根据第二对中体120形状的不同而有所不同。例如,对于圆球形的第二对中体120,所述卡位可以是设置在本体130上的空心半圆;对于圆柱形的第二对中体120,所述卡位可以是设置在本体130上的空心圆柱。所述卡位在本体130上的位置根据需要布置第二对中体120的位置而确定。本实施例中,所述第二对中体120布置于第一侧边。对于半圆柱体的本体130,所述第一侧边是指与半圆柱体底面平行的截面和半圆柱体侧面相交的曲线。需要说明的是,可以沿第一侧边的180°范围内均布置所述卡位,也可以仅在第一侧边小于180°的弧度范围内布置所述卡位。如图4所示,所述卡位仅布置在第一侧边中90°的弧度范围内。相应地,所述第一对中体110位于所述卡位(即所述第二对中体120的位置)对应半圆的圆心。在一个实施例中,所述卡位在所述第一侧边上以所述第一对中体110为圆心间隔一预设角度布置。对同一模体而言,所述卡位在所述第一侧边上以所述第一对中体110为圆心间隔的预设角度可以相同,也可以不同。也就是说,所述卡位可以沿所述第一侧边均匀布置,也可以非均匀布置。所述预设角度大于或等于1°且小于或等于5°。例如,所述预设角度可以是1°、2°、3°、4°或5°。若选择较小本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种模体,其特征在于,包括本体、一第一对中体和若干沿所述本体表面布置的第二对中体,所述第二对中体与所述第一对中体位于同一平面,所述第一对中体与每个所述第二对中体之间的距离相等。

【技术特征摘要】
1.一种多射线源X射线设备的对中校正的模体,其特征在于,包括本体、一第一对中体和若干沿所述本体表面布置的第二对中体,所述第一对中体位于所述本体内,所述第二对中体与所述第一对中体位于同一平面,所述第一对中体与每个所述第二对中体之间的距离相等。2.根据权利要求1所述的多射线源X射线设备的对中校正的模体,其特征在于,所述本体为半圆柱体,半圆柱体的侧面设有若干用于固定所述第二对中体的卡位,所述第二对中体布置于第一侧边,所述第一侧边是指与半圆柱体底面平行的截面和半圆柱体侧面相交的曲线,所述第一对中体位于所述卡位对应半圆的圆心。3.根据权利要求2所述的多射线源X射线设备的对中校正的模体,其特征在于,所述卡位在所述第一侧边上以所述第一对中体为圆心间隔一预设角度布置。4.根据权利要求3所述的多射线源X射线设备的对中校正的模体,其特征在于,所述预设角度大于或等于1°且小于或等于5°。5.根据权利要求2所述的多射线源X射线设备的对中校正的模体,其特征在于,所述本体的半径大于或等于60mm且小于或等于150mm。6.根据权利要求1所述的多射线源X射线设备的对中校正的模体,其特征在于,所述本体由均质材料制成。7.根据权利要求6所述的多射线源X射线设备的对中校正的模体,其特征在于,所述本体的材料为聚甲基丙烯酸甲酯。8.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员:冯娟崔凯马艳歌
申请(专利权)人:上海联影医疗科技有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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