一种光刻胶剥离液制造技术

技术编号:11476674 阅读:151 留言:0更新日期:2015-05-20 06:32
本发明专利技术涉及一种光刻胶剥离液,包含季胺氢氧化物,环氧类有机溶剂,以及除所述环氧类有机溶剂以外的其它溶剂,该所述环氧类有机溶剂是指含有结构式I的环氧有机溶剂:,本发明专利技术的清洗液在有效去除晶圆上的光阻残留物的同时,对于基材如金属铝、铜等基本无腐蚀,在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光刻胶剥离液,包含季胺氢氧化物,环氧类有机溶剂,以及除所述环氧类有机溶剂以外的其它溶剂,且其中所述环氧类有机溶剂是指含有结构式I的环氧有机溶剂:结构式I。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘兵何春阳孙广胜黄达辉
申请(专利权)人:安集微电子科技上海有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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