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磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法技术

技术编号:11471160 阅读:90 留言:0更新日期:2015-05-20 00:52
本发明专利技术提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法,在使用固定磨粒的磨削加工中,能够缩短无法进行磨削加工的时间,不会使得加工速度下降,而且将加工面的表面粗糙度抑制得较低,能够制造高品质的玻璃基板。本发明专利技术包括磨削加工处理,在该磨削加工处理中,使用润滑液和磨削面上配备有包含金刚石粒子的固定磨粒的模座磨削玻璃基板的主表面。玻璃基板是主表面为镜面的玻璃基板。磨削加工处理具有通过相对于进行磨削加工的负荷高的负荷使玻璃基板表面变得粗糙的第一阶段、以及通过相对于第一阶段的负荷低的负荷进行玻璃基板表面的磨削加工的第二阶段。使用同一个装置进行第一阶段和第二阶段。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法
本专利技术涉及搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置上的磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法。
技术介绍
作为搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置上的信息记录介质之一可举出磁盘。磁盘是在基板上形成磁性层等的薄膜而构成的,作为这种基板,以往使用铝基板。然而,最近响应高记录密度化的追求,相比铝基板而言,能够进一步缩小磁头与磁盘的间隔的玻璃基板所占比率逐渐变高。此外,以能够尽量降低磁头的浮起高度的方式高精度研磨玻璃基板表面,从而实现高记录密度化。近些年来,对于HDD的进一步大记录容量化、低价化的要求激增,为了实现这种需求,对于磁盘用玻璃基板也需要实现进一步的高品质化、低成本化。如上所述,为了实现对于高记录密度化而言必须的低磁头飞行高度(浮起量)化,磁盘表面的高度平滑性是不可或缺的。为了获得磁盘表面的高度平滑性,最终会要求高度平滑性的基板表面,需要高精度研磨玻璃基板表面。为了制作这种玻璃基板,在通过磨削(抛光)处理进行了板厚的调整并降低了平坦度(平面度)之后,再进行研磨处理以减少表面粗糙度和微小起伏,从而可实现主表面的极高的平滑性。另一方面,以往,关于使用游离磨粒的磨削(抛光)工序(例如专利文献1等),提出了使用金刚石磨垫的基于固定磨粒的磨削方法(例如专利文献2、专利文献3等)。金刚石磨垫指的是将使用树脂(例如丙烯类树脂等)等的支撑部件固定金刚石粒子和通过玻璃、陶瓷、金属或树脂等的粘结剂固定若干个金刚石粒子得到的凝聚体的颗粒贴附于树脂等的片上的结构。此外,在将包含金刚石的树脂层形成于片上之后,还可以在树脂层上形成槽而呈突起状。另外,这里所称的金刚石磨垫不一定是通常的名称,在本说明书中为了方便起见称之为“金刚石磨垫”。在现有的游离磨粒中形状变形的磨粒处于模座与玻璃之间而不均匀地存在,因而对于磨粒的负荷不稳定,在负荷集中的情况下,模座表面因铸铁而变为低弹性,因而会在玻璃上产生较深的裂纹,加工变质层变深,并且玻璃的加工表面粗糙度也会变大,因此在后续工序的镜面研磨工序中需要较多的去除量,因而难以削减加工成本。与此相对,在使用金刚石磨垫的基于固定磨粒的磨削中,磨粒均匀存在于片表面,因此负荷不会集中,此外还使用树脂将磨粒固定于片上,因而即使对磨粒施加了负荷,凭借固定磨粒的树脂的高弹性作用,加工面的裂纹(加工变质层)较浅,能够实现加工表面粗糙度的降低,减少了对于后续工序的负荷(加工余量等),能够削减加工成本。该磨削(抛光)工序结束后,进行用于获得高精度平面的镜面研磨加工。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2001-6161号公报专利文献2:日本特开2012-99173号公报专利文献3:日本特开2009-99249号公报
技术实现思路
专利技术欲解决的课题如上所述,根据使用金刚石磨垫的基于固定磨粒的磨削方法,能够实现加工面的表面粗糙度的降低,可减少对于后续的镜面研磨工序的负荷,能够实现玻璃基板的加工成本的削减,然而根据本专利技术人的研究,查明存在如下课题。例如对于将通过浮法玻璃生产法等制造的片状玻璃板切取为规定形状的玻璃基板,直接进行在上述专利文献2中公开的现有的使用金刚石磨垫的基于固定磨粒的磨削加工的情况下,由于玻璃基板表面是所谓的镜面,因而在加工初期,金刚石磨粒始终无法进入基板表面而会打滑,存在产生无法进行磨削加工的时间的问题。由此使得生产性大幅降低。另外,在上述专利文献3中公开了如下的技术,在镜面板玻璃的固定磨粒磨削工序之前,以固定磨粒能够产生研磨作用的程度通过机械或化学的方法使镜面板玻璃表面变得粗糙(例如使用氧化铝等的游离磨粒的抛光),然而需要追加其他工序,因而生产性会降低。而且,基于游离磨粒的抛光虽然能够稳定地加工镜面板玻璃,然后由于切入(加工变质层)较深,因而存在增大后续工序的加工负荷的问题。本专利技术就是为了解决这种现有课题而完成的,其目的在于提供一种在基于固定磨粒的磨削加工中,能够减少无法进行磨削加工的时间,能够在不使加工速度降低的情况下进行该磨削加工,并且能够以低成本制造高品质的玻璃基板的磁盘用玻璃基板的制造方法以及使用由此得到的玻璃基板的磁盘的制造方法。用于解决课题的手段为了解决上述课题,本专利技术具有以下的结构。(结构1)一种磁盘用玻璃基板的制造方法,包括磨削加工处理,在该磨削加工处理中,使用润滑液和在磨削面上配备有包含金刚石粒子的固定磨粒的模座来磨削玻璃基板的主表面,其特征在于,所述玻璃基板是主表面为镜面的玻璃基板,所述磨削加工处理具有:第一阶段,以相对于进行磨削加工的负荷高的负荷使所述玻璃基板表面变得粗糙;以及第二阶段,在该第一阶段之后,以相对于所述第一阶段的负荷低的负荷进行所述玻璃基板表面的磨削加工,使用相同的固定磨粒磨石并使用同一个装置来进行具有所述第一阶段和所述第二阶段的所述磨削加工处理,在所述磨削加工处理中投入的所述玻璃基板的主表面的表面粗糙度以Ra计为0.05μm以下。(结构2)根据结构1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,在设所述第一阶段中的负荷为P1(g/cm2)、所述第二阶段的负荷为P2(g/cm2)时,P1/P2在3.0以下。(结构3)根据结构2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,在设维持所述第一阶段中的负荷P1的时间为t1、维持所述第二阶段中的负荷P2的时间为t2时,t1<t2。(结构4)根据结构1至3中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述磨削加工处理中的加工速度为3.0μm/分钟~9.0μm/分钟。(结构5)根据结构1至4中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述第二阶段结束后的玻璃基板的表面粗糙度以Ra计为0.080μm~0.130μm。(结构6)一种磁盘的制造方法,其特征在于,在通过结构1至5中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法制造的磁盘用玻璃基板上,至少形成磁记录层。专利技术的效果根据本专利技术,能够改善以往的使用固定磨粒的磨削加工中无法进行磨削加工的时间的产生所导致的生产性的降低。此外,根据本专利技术,能够不减慢加工速度,而且能够将加工面的表面粗糙度抑制得较低,还能够减少后续工序的加工负荷。由此,能够以低成本制造高品质的玻璃基板。进而,使用如上得到的玻璃基板,能够得到可靠性更高的磁盘。附图说明图1是表示用于本专利技术的金刚石磨垫的结构的概要剖面图。图2是用于说明磨削加工时的状态的示意图。图3是表示本专利技术的磨削加工处理中施加负荷的指令的一例的图。图4是表示用于本专利技术的金刚石磨垫的结构的概要剖面图。具体实施方式以下,详细叙述本专利技术的实施方式。本专利技术如上述结构1所述,是一种磁盘用玻璃基板的制造方法,包括磨削加工处理,在该磨削加工处理中,使用润滑液和在磨削面上配备有包含金刚石粒子的固定磨粒的模座磨削玻璃基板的主表面,其特征在于,所述玻璃基板是主表面为镜面的玻璃基板,所述磨削加工处理具有:第一阶段,通过相对于进行磨削加工的负荷高的负荷使所述玻璃基板表面变得粗糙;以及第二阶段,在该第一阶段之后,通过相对于所述第一阶段的负荷低的负荷进行所述玻璃基板表面的磨削加工,具有所述第一阶段和所述第二阶段的所述磨削加工处理是使用同一个装置来进行的。磁盘用玻璃基板通常经过粗磨削工序(粗抛光工序)、形状加工工序本文档来自技高网
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磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃基板的制造方法,包括磨削加工处理,在该磨削加工处理中,使用润滑液和在磨削面上配备有包含金刚石粒子的固定磨粒的模座来磨削玻璃基板的主表面,该磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于,所述玻璃基板是主表面为镜面的玻璃基板,所述磨削加工处理具有:第一阶段,以相对于进行磨削加工的负荷高的负荷使所述玻璃基板的表面变得粗糙;以及第二阶段,在该第一阶段之后,以相对于所述第一阶段的负荷低的负荷进行所述玻璃基板表面的磨削加工,具有所述第一阶段和所述第二阶段的所述磨削加工处理是使用同一个装置来进行的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.10.31 JP 2012-2411561.一种磁盘用玻璃基板的制造方法,包括磨削加工处理,在该磨削加工处理中,使用润滑液和在磨削面上配备有包含金刚石粒子的固定磨粒的模座来磨削玻璃基板的主表面,该磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于,所述玻璃基板是主表面为镜面的玻璃基板,所述磨削加工处理具有:第一阶段,以相对于进行磨削加工的负荷高的负荷使所述玻璃基板的表面变得粗糙;以及第二阶段,在该第一阶段之后,以相对于所述第一阶段的负荷低的负荷进行所述玻璃基板的表面的磨削加工,使用相同的固定磨粒磨石并使用同一个装置来进行具有所述第一阶段和所述第二阶段的所述磨削加工处理,在所述磨削加工处理中投入的所述玻璃基板的主表面的表面粗糙度以Ra计为0.05μm以下。2.根据权利要求1所述的磁盘用玻璃基板...

【专利技术属性】
技术研发人员:深田顺平吉川博则
申请(专利权)人:HOYA株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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