【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种蚀刻液组合物，用于蚀刻含铜及含钼的多层薄膜，其中基于该蚀刻液组合物为100重量百分比，该蚀刻液组合物包含：过氧化氢；第一有机酸或其盐类，该第一有机酸与铜的螯合常数大于、等于0且小于6，该第一有机酸添加比例为5.5重量百分比至17.5重量百分比；第二有机酸或其盐类，该第二有机酸与铜的螯合常数大于、等于6且小于18.5；以及醇胺化合物，该醇胺化合物具有一个以上的胺基与一个以上的羟基。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄若涵，吴光耀，黄宜琤，罗致远，卢厚德，
申请(专利权)人：达兴材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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