【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于衬底刻蚀的装置，包括：等离子体刻蚀腔室；在所述腔室内并配置为保持光掩模版的衬底支撑构件，所述衬底支撑构件具有设置在中心区域的第一窗口以及设置在外围区域的第二窗口，所述中心区域和外围区域对应于所述掩模版的中心和外围区域；在所述外围区域中的第三窗口，并且所述第二窗口和第三窗口分别在所述外围区域的角处、及沿着所述外围区域的侧面设置；以及终点检测系统，其可通过所述第一窗口和第二窗口运动耦合至所述腔室。
【技术特征摘要】
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