一种高耐热化学增幅型光刻胶树脂及其光刻胶组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种高耐热化学增幅型负胶的成膜树脂及使用该树脂的光刻胶组合物，其包含一种马来酰亚胺改性的环氧间苯二酚-甲醛树脂、产酸剂(2，4-双(三氯甲基)-6-呋喃-4-乙烯基-1，3，5三嗪)1～5％、光吸收剂2～5％、酸致聚合单体及其它助剂等。该组合物最大吸收在328nm左右，可使用i-line，KrF光源曝光，解析度高，通过该光刻胶形成的图案具有良好的耐热性能，可以用于高温作业条件下IC封装金属倒装工艺。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高耐热化学增幅型负胶的成膜树脂及使用该树脂的光刻胶组合物，其特征在于该组合物同时含有一种马来酰亚胺改性的环氧间苯二酚‑甲醛树脂、产酸剂、光吸收剂、酸致聚合单体及其它助剂等。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄巍，
申请(专利权)人：苏州瑞红电子化学品有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32