一种超势垒自偏置整流二极管制造技术

技术编号:11421399 阅读:77 留言:0更新日期:2015-05-06 23:05
本发明专利技术公开了一种超势垒自偏置整流二极管,包括:垂直双扩散金属氧化物半导体器件和多晶电阻,其中,所述垂直双扩散金属氧化物半导体器件的栅极与源极通过所述多晶电阻连接。本发明专利技术通过将形成超势垒自偏置整流二极管的垂直双扩散金属氧化物半导体器件的栅极与源极经多晶电阻连接,利用多晶电阻的负反馈作用,增强垂直双扩散金属氧化物半导体器件的栅极对沟道导通能力的控制,从而可以实现较小的反向漏电。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种超势垒自偏置整流二极管,其特征在于,包括:垂直双扩散金属氧化物半导体器件和多晶电阻,其中,所述垂直双扩散金属氧化物半导体器件的栅极与源极通过所述多晶电阻连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:魏峰唐红祥
申请(专利权)人:无锡华润华晶微电子有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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