芯片与静电放电保护组件及其制造方法技术

技术编号:11406185 阅读:87 留言:0更新日期:2015-05-03 23:23
本发明专利技术提供一种芯片与静电放电保护组件及其制造方法,静电放电保护组件包括N型阱、P型掺杂区、第一N型掺杂区、多个N型子掺杂区、第一N+型掺杂区、第一P+型掺杂区、第二N+型掺杂区与第二P+型掺杂区。P型掺杂区配置于N型阱中。第一N型掺杂区配置于P型掺杂区中。多个N型子掺杂区并列配置于P型掺杂区中。第一N+型掺杂区配置于第一N型掺杂区中。第一P+型掺杂区配置于第一N型掺杂区中。第二N+型掺杂区配置于P型掺杂区中。第二P+型掺杂区配置于P型掺杂区中。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种静电放电保护组件,其特征在于,该静电放电保护组件包括:一N型阱;一P型掺杂区,配置于该N型阱中;一第一N型掺杂区,配置于该P型掺杂区中;多个N型子掺杂区,并列配置于该P型掺杂区中,所述多个N型子掺杂区与该第一N型掺杂区不接触,并且所述多个N型子掺杂区电性连接一第一电源轨线;一第一N+型掺杂区,配置于该第一N型掺杂区中;一第一P+型掺杂区,配置于该第一N型掺杂区中,其中该第一N+型掺杂区与该第一P+型掺杂区用以电性连接一焊垫;一第二N+型掺杂区,配置于该P型掺杂区中;以及一第二P+型掺杂区,配置于该P型掺杂区中,其中该第二P+型掺杂区与该第二N+型掺杂区电性连接一第二电源轨线,其中所述多个N型子掺杂区配置在该第一N型掺杂区与该第二N+型掺杂区之间。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈哲宏
申请(专利权)人:创杰科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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