【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
在氧化铝合金框内,自上而下依次是石英绒面玻璃层、Cu电极、EVA纳米减反射层、掺杂Cu的碳纳米管透明导电层、多元掺杂磁性纳米材料的碳纳米管垂直阵列上电池、Cu掺杂CeO2纳米线层、多元掺杂磁性纳米材料的硅纳米线中电池、Cu掺杂CeO2纳米线层、多元掺杂磁性纳米材料的锗纳米材料下电池、Cu纳米线导电层、TPT纳米减反射层、背面电极、绝缘层、LYC层、背面板。其中,多元掺杂磁性纳米材料的碳纳米管垂直阵列上电池,结构为多元掺杂磁性纳米材料和纳米Cu的碳纳米管垂直阵列N层、Cu掺杂CeO2的i层、多元掺杂磁性纳米材料和纳米Cu的碳纳米管垂直阵列P层;多元掺杂磁性纳米材料的硅纳米线中电池,结构为多元掺杂磁性纳米材料和纳米Cu的硅纳米线N层、Cu掺杂CeO2的i层、多元掺杂磁性纳米材料和纳米Cu的硅纳米线P层。多元掺杂磁性纳米材料的锗纳米线下电池,结构为多元掺杂磁性纳米材料和纳米Cu的锗纳米材料N层、Cu掺杂CeO2的i层、多元掺杂磁性纳米材料和纳米Cu的锗纳米材料P层。其中多元掺杂磁性纳米材料的碳纳米管垂直阵列上电池和下电池所指磁性纳米材料均为多元掺杂氧化的磁性半金属和稀土元素,即掺杂钴、錳、镍 ...
【技术特征摘要】
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