防尘薄膜组件制造技术

本发明专利技术的目的，是提供一种利用减小了宽度的框架来确保更大的曝光面积，并且在防尘薄膜组件的制作、运输过程中不发生框架的变形及起皱问题，从而能够以所期望的尺寸精度将防尘薄膜粘贴于光掩模上的防尘薄膜组件。本发明专利技术的防尘薄膜组件的特征在于，其为至少一对边长是大于500mm的矩形的防尘薄膜组件，在至少一对相对边的以边长的40～80％的边中心为中心的区域，该框架的宽度通过使框架的内侧壁凹陷而变细，并且该变细的区域的框架宽度为3mm以上6mm以下。

【技术实现步骤摘要】
防尘薄膜组件
本专利技术涉及作为在制造半导体器件、IC封装、印刷电路板、液晶显示器或有机EL显示器等时的防尘器使用的防尘薄膜组件，涉及其边长大于500mm的大型防尘薄膜组件。
技术介绍
在LSI、超LSI等的半导体或液晶显示器等的制造过程中，通过向半导体晶片或液晶用玻璃板上照射紫外线光来制作图案，但此时存在一个问题，即如果在所使用的光掩模上附着有灰尘的话，由于这种灰尘遮挡或反射紫外线光，会导致转印的图案发生变形或短路，从而使质量受损。由于这个缘故，这些作业通常是在无尘室内进行的，但尽管如此，要保持光掩模时常清洁也是困难的。因此，通常是在光掩模的表面粘贴一个作为防尘器的防尘薄膜组件之后进行曝光。这种情况下，异物不直接附着于光掩模的表面而是附着于防尘薄膜组件上，所以，在进行光刻时只要把焦点对准光掩模的图案上，防尘薄膜组件上的异物便与转印无关。一般而言，上述防尘薄膜组件通过在由铝、不锈钢等构成的框架的上端表面上粘贴或胶合由透光性良好的硝化纤维素、醋酸纤维素或氟树脂等构成的透明的防尘薄膜而构成，在框架的下端表面设有用于安装于光掩模的由聚丁烯树脂、聚醋酸乙烯树脂、丙烯酸树脂、有机硅树脂等构成的粘合层及以保护粘合层为目的的离型层(分离层)。因为防尘薄膜通常为薄树脂，所以为了将其不产生松弛地粘贴并支撑于框架上，将对框架施加适当大小的张力。因此，对于通常所使用的矩形防尘薄膜组件而言，粘贴了防尘薄膜之后的框架，会因防尘薄膜的张力作用略微产生向内侧的翘曲。这种现象，除了在例如印刷电路板、液晶显示器制造中所使用的框架边长大的大型防尘薄膜组件以外，即使在半导体制造用的小型防尘薄膜组件中，由于材质或尺寸上的限制而采用低刚性的框架的防尘薄膜组件的情况下也很明显。另一方面，对于光掩模而言，出于低成本化的目的，要求尽可能确保曝光的区域，若不尽可能地减小如上所述的向框架内侧的翘曲，则存在可利用的曝光区域减小的问题。因此，若能够开发一种尽可能抑制翘曲量并且宽度更窄的框架使内侧的可曝光面积扩大的话，成本降低效果必定很大。然而，在实际当中，光掩模及防尘薄膜组件的外尺寸是根据曝光机而规定了的。例如，防尘薄膜组件的外形一般从光掩模的外形扣除光掩模的支撑区域、操作时所使用的区域等，设计为距外尺寸5～30mm左右被内侧的尺寸。这样的设计不仅是考虑曝光机，而是以检验机和防尘薄膜组件安装装置等与曝光工序相关的所有装置的设计为前提的，因此，要变更这种设计实际上很困难。因此，一直以来，人们一直在努力探讨实现更大的曝光区域的办法。例如，专利文献1中记载了一种使短边的框架宽度比长边细的大型防尘薄膜组件用框体，不过，在例如边长超过1000mm的特大型的框架的情况下，由于该框体难于维持刚性，故存在不能适用于大型框架的问题。另外，这中框体虽然可适用于短边，但对于长边，由于框架发生翘曲无法使其变细，因此存在无法向短边方向扩大曝光区域的问题。作为解决这种翘曲的方法，例如，专利文献2中记载了一种如下的防尘薄膜组件框架，即，在框体的至少一对的边上，具有中央部向外侧凸出的圆弧形状部，在其两侧具有外侧凹陷的圆弧形状部，再往外侧具有直线形状部。据说通过这种形状的防尘薄膜组件框架，能够防止由防尘薄膜的张力引起的向框架内侧的翘曲，进而可防止曝光区域的减小，不过，这个效果仅仅限于能够通过适当的设计而将防尘薄膜组件框架的翘曲量控制在一定值以下的情况。但是，当试图尽可能地减少框架宽度时，理论上来讲，在任何框架宽度下都应该能够与张力取得平衡从而得到框架的直线形状，然而，即便是得到了这样的形状，刚性也无疑会降低，因此，会产生位移过大无法操作，或者些许的外力就会使防尘薄膜出现皱纹等的问题，所以，仅靠这个方法无法满足实用。专利文献专利文献1日本专利第4007752号专利文献2日本专利第4286194号
技术实现思路
因此，鉴于上述情况，本专利技术的目的，是提供一种利用减小了宽度的框架来确保更大的曝光面积，并且在防尘薄膜组件的制造、运输过程中不发生框架的变形以及起皱问题，从而能够以所期望的尺寸精度将防尘薄膜粘贴光掩模上的防尘薄膜组件。本专利技术人通过对光掩模的实际使用情况进行深入的调查研究发现，在光掩模的长轴方向及短轴方向的双方向上要求更大的曝光区域的情况极为稀少，在实际的曝光作业当中所要求的几乎都是长轴方向及短轴方向中的某个方向，因此，为了最大限度地获得实质性的曝光区域，建议索性牺牲不用于曝光图案的区域，从而促成了本专利技术。即，一种防尘薄膜组件，其为至少一对边长是大于500mm的矩形的防尘薄膜组件，其特征在于：在至少一对相对边的以边中心为中心的边长的40～80％的区域，该防尘薄膜组件的框架的宽度通过使框架的内侧壁凹陷而变细，并且该变细的区域的框架宽度为3mm以上6mm以下。本专利技术的防尘薄膜组件的进一步的特征在于，从该框架宽度细的部位的两端到相邻边，或者细的部位的两端一直到相对边的相同部位连接有加强构件。在上述加强构件的光掩模侧的表面未设置光掩模粘合层，在防尘薄膜组件粘贴之后，该加强构件呈从光掩模表面分离的状态。另一方面，优选地，加强构件的防尘薄膜侧的表面与框架的防尘薄膜侧的表面处于同一平面上，并且，在该表面上设有防尘薄膜胶粘层，粘贴有防尘薄膜。并且，优选该加强构件与框架一体地加工，优选加强构件的截面形状为在光掩模侧具有顶点的三角形或光掩模侧的表面宽度变窄的梯形。优选光掩模粘合层在防尘薄膜组件的整周上以相同的宽度设置，并且，沿着框架外周形状而配置。专利技术的效果根据本专利技术，由于在边长的40～80％的区域内通过使框架内壁凹陷而框架宽度变窄，所以能够在维持防尘薄膜组件框架整体的刚性的同时，扩大实际使用的曝光区域，因此，不会出现操作时防尘薄膜起皱等的问题，从而能够以所期望的尺寸精度将防尘薄膜粘贴到光掩模上。附图说明图1是表示本专利技术的实施方式(1)的俯视图。图2是表示本专利技术的实施方式(1)的前视图。图3是表示本专利技术的实施方式(1)的右视图。图4是表示本专利技术的实施方式(1)的仰视图。图5是表示本专利技术的实施方式(2)的俯视图。图6是表示本专利技术的实施方式(2)的前视图。图7是表示本专利技术的实施方式(2)的右视图。图8是表示本专利技术的实施方式(2)的仰视图。图9是表示本专利技术的实施方式(2)的B-B剖面图，有(a)以及(b)二幅图。图10是表示本专利技术的实施方式(3)的俯视图。图11是将本专利技术的防尘薄膜组件粘贴到光掩模的示意图。图12是表示现有的防尘薄膜组件的示意图。具体实施方式以下，对本专利技术的具体实施方式进行说明，但本专利技术并非限定于这些实施方式。图1～4表示本专利技术的防尘薄膜组件的实施方式(1)。构成防尘薄膜组件10的框架11由长边11a、短边11b组成。短边11b中央部在箭头符号A所示的区域，其宽度从内侧方向朝外侧方向变细。该区域A设为短边11b的内尺寸长的40～80％有效，并且，要求区域A内的框架宽度为3mm以上6mm以下。该区域A的长度优选根据所使用的光掩模的图案范围适当选择，不过，如果超过边长的80％，则刚性显著下降，且无法设置后述的加强构件，因此，使其为边长的80％以下有效。另外，虽然未设定区域A的下限，当从成本方面考虑，低于40％是不可取的。再者，对于区域A内的框架宽度，若为3mm以下，在不能确保光掩模粘合层的区域和防本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防尘薄膜组件，其为至少一对边长是大于500mm的矩形的防尘薄膜组件，其特征在于：在至少一对相对边的以边中心为中心的边长的40～80％的区域，该防尘薄膜组件的框架的宽度通过使框架的内侧壁凹陷而变细，并且该变细的区域的框架宽度为3mm以上6mm以下。

【技术特征摘要】
2013.10.22 JP 2013-2188681.一种防尘薄膜组件，其为至少一对边长是大于500mm的矩形的防尘薄膜组件，其特征在于：仅在一个方向的一对相对边的以边中心为中心的边长的40～80％的区域，该防尘薄膜组件的框架的宽度通过使框架的内侧壁凹陷而变细，并且该变细的区域的框架宽度为从3mm以上6mm以下选择的一定值。2.如权利要求1所述的防尘薄膜组件，其特征在于，从上述框架的宽度细的部位的两端到相邻边或者一直到相对边的相同部位连接有加强构件。3.如权利要求2所述的防尘薄膜组件，其特征在于，在上述加强构件的光掩模侧的表面未设置光掩模粘合层，在防...

【专利技术属性】
技术研发人员：关原一敏，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP