显示装置及其制造方法制造方法及图纸

公开了一种显示装置及其制造方法。该显示装置包括：栅极线和数据线，数据线与栅极线交叉以在基板上限定像素区域；形成在像素区域中的TFT，TFT包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极；第一保护层，第一保护层形成在TFT上并且构造为使得存在有穿过第一保护层的第一孔；第二保护层，第二保护层形成在第一保护层上并且构造为使得存在有穿过第二保护层的第二孔，其中第二孔的尺寸不同于第一孔的尺寸；像素电极，像素电极形成在第二保护层上并且至少部分地填充第一孔和第二孔，像素电极穿过第一孔和第二孔连接至漏电极。

【技术实现步骤摘要】
显示装置及其制造方法相关申请的交叉引用本申请要求2013年10月14日提交的韩国专利申请第10-2013-0121705号的权益，其通过引用合并到本文中。
本专利技术涉及一种显示装置，更具体地涉及包括感测用户的触摸的感测电极的显示装置。
技术介绍
至今已经开发了各种显示装置，例如液晶显示(LCD)装置、等离子体显示面板(PDP)和有机发光显示装置。传统的显示设备通常包括鼠标或键盘作为输入装置。然而，在例如导航系统、便携式终端、电器等设备中通常使用使得用户能够用手指或笔直接输入信息的触摸屏。在下文中，将详细描述LCD装置作为应用触摸屏的相关技术显示装置的实施例。图1是相关技术LCD装置的示意性截面图。如在图1中所看到的，相关技术LCD装置包括液晶面板10和触摸屏20。液晶面板10显示图像，并且包括下基板12、上基板14和形成在基板12与基板14之间的液晶层16。触摸屏20形成在液晶面板10的顶部上以感测用户的触摸，并且包括触摸基板22、形成在触摸基板22底部处的第一感测电极24和形成在触摸基板22的顶部处的第二感测电极26。第一感测电极24在触摸基板22底部处沿着水平方向设置，第二感测电极26在触摸基板22的顶部处沿着竖直方向设置。因此，当用户触摸某一位置时，第一电极24与第二电极26之间的电容根据触摸位置而改变，因而，根据不同电容感测用户所触摸的位置。然而，在液晶面板10顶部处单独提供的触摸屏20增加了装置的总厚度和制造成本。
技术实现思路
因此，本专利技术涉及提供基本上消除了由于相关技术的限制和缺点而引起的一个或更多个问题的显示装置。本专利技术提供了一种其中用于感测用户的触摸的感测电极内置到显示面板内而不需要在显示面板顶部提供单独的触摸屏的显示装置及其制造方法。因此，相对于现有技术，厚度和制造成本减小。在下面的描述中将部分地阐述本专利技术的附加优点和特征，根据阅读本公开内容，本专利技术的附加优点和特征对于本领域的普通技术人员将是明显的。本专利技术的目的和其他优点可以通过在书面说明及其权利要求以及附图中具体指出的结构来实现和获得。为了实现这些和其他优点，根据如在本文中所体现和广泛描述的本专利技术的目的，提供了一种显示装置，该显示装置包括：栅极线和数据线，数据线与栅极线交叉以在基板上限定像素区域；薄膜晶体管(TFT)，所述TFT形成在像素区域中并且包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极；第一保护层，第一保护层形成在TFT上并且构造为使得存在有穿过第一保护层的第一孔；第二保护层，第二保护层形成在第一保护层上并且构造为使得存在有穿过第二保护层的第二孔，其中穿过第二保护层的第二孔在第一保护层和第二保护层彼此接触的平面处的尺寸不同于穿过第一保护层的第一孔在第一保护层和第二保护层彼此接触的平面处的尺寸；像素电极，像素电极形成在第二保护层上并且至少部分地填充第一孔和第二孔，像素电极穿过第一孔和第二孔连接至漏电极；形成在像素电极上的第三保护层；形成在第三保护层上的感测线；形成在感测线上的第四保护层；以及公共电极，公共电极形成在第四保护层上并且连接至感测线。在本专利技术的另一实施方案中，提供了一种制造显示装置的方法，该方法包括：在基板上形成栅电极和栅极焊盘；在栅电极和栅极焊盘上形成栅极绝缘层；在栅极绝缘层上形成半导体层；在半导体层上形成源电极和漏电极；在栅极绝缘层上形成数据焊盘；在源电极、漏电极和数据焊盘上形成第一保护层，然后形成第二保护层，第二保护层构造为使得形成有穿过第二保护层的孔；在第一保护层的位于栅极焊盘和数据焊盘上方的部分上形成抗蚀刻层；穿过第二保护层中的孔蚀刻第一保护层的区域以完成穿过第一保护层和第二保护层的第一接触孔；去除抗蚀刻层；在第二保护层上形成像素电极，像素电极穿过第一接触孔连接至漏电极；在像素电极上形成第三保护层；在第三保护层上形成感测线；在感测线上形成第四保护层；以及在第四保护层上形成连接至感测线的公共电极。在本专利技术的另一方面中，提供了一种制造显示装置的方法，该方法包括：在基板上形成薄膜晶体管(TFT)，TFT包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极；形成第一保护层，第一保护层构造为使得存在有穿过第一保护层的第一孔，第一孔使漏电极从第一保护层中露出；在形成第一保护层之后形成第二保护层，第二保护层构造为使得存在有穿过第二保护层的第二孔，第二孔使漏电极从第一保护层和第二保护层中露出，在第一保护层和第二保护层彼此接触的平面处第二孔的尺寸不同于第一孔的尺寸；在第二保护层上形成像素电极，像素电极穿过第一孔和第二孔连接至漏电极；在像素电极上形成第三保护层；在第三保护层上形成感测线；在感测线上形成第四保护层；以及在第四保护层上形成连接至感测线的公共电极。应该理解，本专利技术的前述一般描述和后面具体的描述是示例性的和说明性的，并且旨在提供如所要求保护的本专利技术的进一步说明。附图说明附图示出了本专利技术的实施方案并且与本说明书一起用于说明本专利技术的原理。在附图中：图1是相关技术LCD装置的示意性截面图；图2是根据本专利技术的一个实施方案的显示装置的基板的示意性俯视图；图3是根据本专利技术的另一实施方案的显示装置的下基板的示意性俯视图；图4是根据本专利技术的一个实施方案的显示装置的截面图；图5是根据本专利技术的另一实施方案的显示装置的截面图；图6是根据本专利技术的又一实施方案的显示装置的截面图；图7A至图7J是根据本专利技术的一个实施方案的显示装置的基板的示意性过程截面图；以及图8A至图8I是根据本专利技术的另一实施方案的显示装置的基板的示例性过程截面图。具体实施方式现在将详细参考本专利技术的示例性实施方案，其实施例在附图中示出。贯穿附图，尽可能使用相同的附图标记指代相同或相似的部件。在本文中使用表述“在...上”用于描述与另一元件直接接触的元件，或者用于描述设置在另一元件上方(在截面图中)的元件，其间具有一个或更多个中间元件。本文中描述的修饰语“第一”和“第二”不指代元件的顺序而用于区分对应元件。在下文中，将参照附图详细描述本专利技术的实施方案。图2是根据本专利技术的一个实施方案的显示装置的基板的示意性俯视图。供参考，在图2中，箭头所示的放大图意图示出了其中感测线600电连接到公共电极700的像素区域。如在图2中所看到的，根据本专利技术的一个实施方案的显示装置包括：基板100、栅极线200、数据线300、薄膜晶体管(TFT)T、像素电极500、感测线600、公共电极700、栅极驱动器1、数据驱动器2和触摸驱动器3。基板100可以由玻璃或透明塑料制成。栅极线200沿第一方向(例如，水平方向)设置在基板100上。在栅极线200的一端形成有栅极焊盘215，栅极焊盘215连接到栅极驱动器1。因此，从栅极驱动器1施加的栅极信号通过栅极焊盘215传输到栅极线200。数据线300沿着不同于第一方向的第二方向(例如，竖直方向)设置在基板100上。因此，多个栅极线200和多个数据线300布置为彼此交叉，由此限定了多个像素区域。在数据线300的一端形成有数据焊盘315，数据焊盘315连接到数据驱动器2。因此，从数据驱动器2施加的数据信号通过数据焊盘315传输到数据线300。虽然数据线300示出为以直线布置，但是数据线300可以以弯曲线或者弯曲线图案和/或直线图案如Z字图案布置。TFTT为开关元件，并且形成在多个像素本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示装置，包括：栅极线和数据线，所述数据线与所述栅极线交叉以在基板上限定像素区域；薄膜晶体管(TFT)，所述TFT形成在所述像素区域中并且包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极；第一保护层，所述第一保护层形成在所述TFT上，所述第一保护层构造为使得存在有穿过所述第一保护层的第一孔；第二保护层，所述第二保护层形成在所述第一保护层上，并且构造为使得存在有穿过所述第二保护层的第二孔，其中穿过所述第二保护层的所述第二孔在所述第一保护层和所述第二保护层彼此接触的平面处的尺寸不同于穿过所述第一保护层的所述第一孔在所述第一保护层和所述第二保护层彼此接触的所述平面处的尺寸；像素电极，所述像素电极形成在所述第二保护层上并且至少部分地填充所述第一孔和所述第二孔，所述像素电极穿过所述第一孔和所述第二孔连接至所述漏电极；形成在所述像素电极上的第三保护层；形成在所述第三保护层上的感测线；形成在所述感测线上的第四保护层；以及公共电极，所述公共电极形成在所述第四保护层上并且连接至所述感测线。

【技术特征摘要】
2013.10.14 KR 10-2013-01217051.一种显示装置，包括：栅极线和数据线，所述数据线与所述栅极线交叉以在基板上限定像素区域；薄膜晶体管(TFT)，所述TFT形成在所述像素区域中并且包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极；第一保护层，所述第一保护层形成在所述TFT上，所述第一保护层构造为使得存在有穿过所述第一保护层的第一孔；第二保护层，所述第二保护层形成在所述第一保护层上，并且构造为使得存在有穿过所述第二保护层的第二孔，其中穿过所述第二保护层的所述第二孔在所述第一保护层和所述第二保护层彼此接触的平面处的尺寸不同于穿过所述第一保护层的所述第一孔在所述第一保护层和所述第二保护层彼此接触的所述平面处的尺寸；像素电极，所述像素电极形成在所述第二保护层上并且至少部分地填充所述第一孔和所述第二孔，所述像素电极穿过所述第一孔和所述第二孔连接至所述漏电极；形成在所述像素电极上的第三保护层；形成在所述第三保护层上的感测线；形成在所述感测线上的第四保护层；以及公共电极，所述公共电极形成在所述第四保护层上并且连接至所述感测线，其中所述感测线交叠所述数据线并且包括突出到所述TFT的接触部，并且通过所述接触部连接至所述公共电极，其中所述接触部接触所述第三保护层和所述第四保护层。2.根据权利要求1所述的显示装置，其中在所述第一保护层和所述第二保护层彼此接触的所述平面处，所述第一孔的尺寸小于所述第二孔的尺寸，并且其中所述像素电极接触所述第二保护层的侧面以及所述第一保护层的顶部和侧面。3.根据权利要求1所述的显示装置，其中在所述第一保护层和所述第二保护层彼此接触的所述平面处，所述第一孔的尺寸大于所述第二孔的尺寸，并且其中所述像素电极接触所述第二保护层的侧面而不接触所述第一保护层。4.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：多个附加感测线；和多个附加公共电极，其中所述多个附加感测线按照一对一的对应关系连接至所述多个附加公共电极。5.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：连接至所述栅极线的一端的栅极焊盘；连接到所述数据线的一端的数据焊盘；栅极焊盘电极，所述栅极焊盘电极形成在所述第四保护层上并且连接至所述栅极焊盘；以及数据焊盘电极，所述数据焊盘电极形成在所述第四保护层上并且连接至所述数据焊盘，其中所述栅极焊盘电极和所述数据焊盘电极由与所述公共电极相同的材料形成。6.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：形成栅极线和数据线，所述数据线与所述栅极线交叉以在基板上限定像素区域；在所述像素区域中形成薄膜晶体管(TFT)；其中形成所述TFT包括：在基板上形成栅电极和栅极焊盘；在所述栅电极和所述栅极焊盘上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成半导体层；在所述半导体层上形成源电极和漏电极；在所述栅极绝缘层上形成数据焊盘；在所述源电极、所述漏电极和所述数据焊盘上形成第一保护层，然后形成第二保护层...

【专利技术属性】
技术研发人员：金炫佑，朴锺贤，郑圣勋，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR