一种离子注入机的均匀性校正控制系统技术方案

本发明专利技术公开了一种离子注入机的均匀性校正控制系统，该系统包括(1)剂量控制器(2)离子束扫描系统(3)电机控制器(4)移动靶台(5)均匀性控制器(6)移动法拉第(7)闭环法拉第(8)角度法拉第。说明书对一种离子注入机均匀性矫正控制方法做出了详细说明，并给出具体实施方案。本发明专利技术涉及离子注入装置，隶属于半导体制造领域。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种离子注入机的均匀性校正控制系统，该系统包括(1)剂量控制器(2)离子束扫描系统(3)电机控制器(4)移动靶台(5)均匀性控制器(6)移动法拉第(7)闭环法拉第(8)角度法拉第。其中，(1)剂量控制器通过SPI与均匀性控制器进行通讯。(5)均匀性控制器中的运动控制器控制(3)电机控制器对移动靶台运动进行调整。(1)剂量控制器通过采集(6)移动法拉第(7)闭环法拉第(8)角度法拉第以及(2)离子束扫描系统中束口主剂量杯传送回的束流信号经过分析后，对(2)离子束扫描系统(3)电机控制器发出控制信号，来控制离子注入剂量，注入位置，扫描速度等控制参数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姜翼展，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11