负型光敏树脂组合物以及使用它的绝缘薄膜制造技术

负型光敏树脂组合物以及使用它的绝缘薄膜。在此公开了光敏树脂组合物，所述组合物包括：(A)碱溶性树脂，所述碱溶性树脂包括(a1)衍生自烯属不饱和羧酸、烯属不饱和羧酸酐或其混合物的结构单元，(a2)衍生自式1表示的单体的结构单元，(a3)衍生自式2表示的单体的结构单元，和(a4)衍生自烯属不饱和化合物的结构单元，所述结构单元不同于结构单元(a1)-(a3)中的任一个，其中碱溶性树脂包括的结构单元(a2)和(a3)的总量为10-50mol％，基于结构单元的摩尔总量；(B)可光聚合的单体；和(C)光聚合引发剂。【式1】

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光敏树脂组合物，所述组合物包括：(A)碱溶性树脂，所述碱溶性树脂包括(a1)衍生自烯属不饱和羧酸、烯属不饱和羧酸酐或其混合物的结构单元，(a2)衍生自式1表示的单体的结构单元，(a3)衍生自式2表示的单体的结构单元，和(a4)衍生自烯属不饱和化合物的结构单元，所述结构单元不同于结构单元(a1)‑(a3)中的任一个，其中碱溶性树脂包括的结构单元(a2)和(a3)的总量为10‑50mol％，基于结构单元的摩尔总量；(B)可光聚合的单体；和(C)光聚合引发剂其中R1和R3各自独立地是氢或C1‑4烷基；和R2和R4各自独立地是C1‑4亚烷基。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：郑周永，金太焕，蔡有珍，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料韩国有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR