多波段高反射膜的制备方法技术

本发明专利技术公开的一种多波段高反射膜的制备方法，利用本方法可以实现1.064um近红外和3.7um～4.8um中红外光学波段宽范围高质量大角度入射的多波段高反射膜的设计和镀制，提高膜层的牢固性能力，及野外恶劣环境的使用寿命。本发明专利技术通过下述技术方案予以实现：(1)以石英玻璃为基底，用膜系设计公式计算每层膜的光学厚度值；(2)清洁被镀基底；(3)加温烘烤基底；(4)用离子源在镀膜前和镀膜过程中轰击基底；(5)将ZnS和Al2O3两种膜料放入旋转电子枪蒸发源坩锅中，根据上述(1)的公式顺序和厚度值用光学真空镀膜机完成镀膜。本发明专利技术解决了在石英玻璃基底上使用非金属和非半导体膜层材料镀膜不牢固和较难达到大角度入射多波段有高反射率的工艺难题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种多波段高反射膜的制备方法，其特征在于包括如下镀制工艺步骤：(1)以石英玻璃材料为基底，用膜系设计公式G/0.2L1.3046H1.5386L1.3867H1.4427L1.4299H1.489L1.334H1.5283L1.4085H1.3947L1.4859H1.4534L1.3168H1.625L1.292H1.4612L4.2291H7.2759L4.2232H4.5239L4.307H7.1105L4.4724H5.6527L4.7646H6.5785L/Air计算每层膜的光学厚度值并按顺序列表格，其中，G为石英玻璃材料基底，L为Al2O3膜料，H为ZnS膜料，Air为折射率NA＝1的空气介质，膜系参考波长λc＝800nm，入射角为45°@1.064um&3.7um～4.8um。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王平秋，张玉东，杨柳，于清，代礼密，薛锦，
申请(专利权)人：西南技术物理研究所，
类型：发明
国别省市：四川;51