用于水冷壁管的γ射线探伤装置制造方法及图纸

技术编号:11360248 阅读:374 留言:0更新日期:2015-04-29 11:05
本发明专利技术公开了一种用于水冷壁管的γ射线探伤装置,该γ射线探伤装置包括用于发射γ射线的曝光管(1),其中,该γ射线探伤装置还包括用于固定所述曝光管(1)的支架(2),该支架(2)包括支腿(3),该支腿(3)的脚部设置有能够吸附在所述水冷壁管屏上的磁体。通过上述技术方案,所述支架可以固定在水冷壁管屏的外表面上从而可以固定γ射线探伤装置的曝光管,使曝光管可以插入到炉膛内部外侧发射射线以在设置在水冷壁管屏外表面上的胶片上成像,因此可以不用在炉膛内部设置操作平台以及固定支架,无需工作人员进入炉膛内部作业,不仅提高了工作效率,而且提高了安全性。

【技术实现步骤摘要】
用于水冷壁管的γ射线探伤装置
本专利技术涉及无损探伤装置,具体地,涉及一种用于水冷壁管的γ射线探伤装置。
技术介绍
目前,γ射线在金属无损检测中具有广泛的应用,γ射线在金属无损检测中不损伤被检测物体,并且具有轻便、灵活、不受狭窄空间限制、不需要电源等优点,广泛应用于锅炉“四管”及管道的焊缝无损检测。γ射线探伤的原理为:被测物体各部分的厚度或密度因缺陷的存在而有所不同,当γ射线在穿透被检物时,γ射线被吸收的程度也相应地不同。若将受到不同程度吸收的γ射线投射在γ射线胶片上,经显影后可以得到显示物体厚度变化和内部缺陷情况的照片(γ射线底片)。这种方法称为γ射线照相法。通常,γ射线源和胶片分别设置在被检测物体的两侧。在对构成锅炉炉膛的膜式水冷壁管屏、顶棚过热器管屏等焊缝进行射线检测时,需要进入炉膛内固定γ射线源曝光头,并在炉膛外布置胶片。这需要在锅炉炉膛内部和外部分别搭设操作平台,并由工作人员利用操作平台在水冷壁管的两侧设置射线源和胶片,操作繁琐,特别是在高处作业危险系数高。因此,需要提供一种不需要在炉膛内部设置操作平台的γ射线探伤装置。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种γ射线探伤装置,该γ射线探伤装置不需要在炉膛内部及炉膛外部设置操作平台。为了实现上述目的,本专利技术提供一种用于水冷壁管的γ射线探伤装置,该γ射线探伤装置包括用于发射γ射线的曝光管,其中,该γ射线探伤装置还包括用于固定所述曝光管的支架,该支架包括支腿,该支腿的脚部设置有能够吸附在所述水冷壁管屏上的磁体。优选地,所述磁体形成为能够在所述水冷壁管屏上行走的脚轮,该脚轮可旋转的安装在所述支架上。优选地,所述支腿为横向相对设置的两组,所述支架包括连接两组所述支腿的支撑梁。优选地,所述支撑梁包括第一支撑部和设置在所述第一支撑部两端的第二支撑部,每组所述支腿沿竖直方向排列并通过所述第二支撑部连接。优选地,每组所述支腿中,相邻两个支腿沿竖直方向的间距大于20厘米。优选地,所述支架还包括安装在所述支撑梁上的用于固定所述曝光管的支撑座。优选地,所述支撑座包括用于固定所述曝光管的支撑槽和用于将所述支撑槽固定在所述支撑梁上的万向转向座。优选地,所述支撑槽的侧壁上形成有螺纹孔,所述曝光管通过与所述螺纹孔螺纹连接的螺栓抵压而固定。优选地,所述支撑槽通过所述万向转向座能够在水平面内旋转360度并且能够在竖直平面内相对于水平面旋转-45~45度,并且所述万向转向座具有旋转阻尼力。优选地,所述曝光管的安装有曝光头的端部反向弯曲,以使得所述曝光管由相邻的所述水冷壁管之间插入炉膛内部后能够朝向炉膛外侧发射γ射线。通过上述技术方案,所述支架可以固定在水冷壁管屏的外表面上从而可以固定γ射线探伤装置的曝光管,使曝光管可以插入到炉膛内部外侧发射射线以在设置在水冷壁管屏外表面上的胶片上成像,因此可以不用在炉膛内部设置操作平台以及炉膛外部搭设固定支架,无需工作人员进入炉膛内部作业,不仅提高了工作效率,而且提高了安全性。本专利技术的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术,但并不构成对本专利技术的限制。在附图中:图1是根据本专利技术的一种具体实施方式的支架安装在水冷壁管屏外表面的立体图。图2是图1中结构从水冷壁管屏的侧部观察的视图。图3是根据本专利技术的一种具体实施方式的支架的立体结构图。图4是图3中A区域的放大图。图5是固定有曝光管的支撑槽的结构示意图。附图标记说明1曝光管2支架3支腿4支撑梁5支撑座6水冷壁管7焊缝8鳍片9入口10胶片41第一支撑部42第二支撑部51支撑槽52万向转向座52螺栓具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术,并不用于限制本专利技术。根据本专利技术的一个方面,提供一种水冷壁管的探伤方法,其中,待检测水冷壁管屏外设置有用于建造或检修水冷壁管的操作平台,该方法包括:S1、在待检测的水冷壁管6的接口处的邻近焊缝7的鳍片8上切割入口9;S2、将γ射线探伤装置的曝光管1通过所述入口9插入炉膛并调整所述曝光管1,使得曝光管1的曝光头对准焊缝7,然后固定曝光管1;S3、在待检测的焊缝7处设置胶片10;S4、开启γ射线探伤装置,使曝光管1发射的γ射线透射在所述焊缝7上并透射到胶片10上,待胶片10充分曝光后关闭γ射线探伤装置并取下曝光管1和胶片10。工作人员在建造或检修水冷壁管时,需要在水冷壁管屏的外部搭建操作平台,本专利技术的探伤方法可以利用该操作平台实施;特别地,在安装水冷壁管屏的过程中,在施工人员安装了一部分水冷壁管后,检修人员可以在停工阶段借助于操作平台,检测已安装的水冷壁管连接处的焊缝。在本探伤方法中,在鳍片8上切割的入口9可以允许工作人员将曝光管1从水冷壁管屏外部插入到炉膛内部,曝光管1可以从炉膛内部向炉膛外部发射γ射线,并且在水冷壁管屏外部设置胶片即可实现透射成像。因此,本探伤方法不需要将γ射线探伤装置设置于锅炉的炉膛内部并为γ射线探伤装置搭建操作平台,工作人员也不需要进入炉膛内部实施相应的操作,这不仅简化了操作,提高了工作效率,而且提高了安全性。具体地,如图1和图2以及图5所示,曝光管1安装有所述曝光头的端部反向弯曲,以使得曝光管1由入口9插入炉膛内部后可以朝向炉膛外侧发射γ射线。曝光管1的弯折处曲率不应过大,以有利于射线源可以流畅地输送。另外,在步骤S2中,曝光管1被固定为使得曝光管1的曝光头距离所述水冷壁管屏的内表面550-650毫米(如图2所示的L1);并且所述曝光管1发射的γ射线在焊缝7处的入射角度(图2中的θ角)为10-20°。通过以上距离和角度设计,可以使得胶片获得更好地成像效果。然而,发射源与待探伤件之间的距离和入射角度可以根据发射源的强度以及待探伤件的结构进行调整,此处仅针对比较常规的水冷壁管的焊缝进行了参数优化,但本专利技术的探伤方法并不局限于此。根据本专利技术的一种具体实施方式,入口9水平方向的宽度为2-3厘米,并且入口9从焊缝7处分别向上和向下延伸10-12厘米。入口9可以通过气焊切割形成,入口9的形状可以为各种适于插入曝光管1的形状,例如可以为矩形,以保证曝光管1的反向弯折的曝光头可以通过入口9插入到炉膛内部。入口9的尺寸设计应当满足曝光管1可以自由地调节γ射线在焊缝7处的入射角度;入口9的位置也应当使曝光管1经简单地调节即可使用。此外,所述步骤S3包括在固定后的胶片10上布置铅板。所述铅板可以防止透射后打在胶片10上的γ射线继续向外透射,以保护操作人员。所述铅板和胶片10可以通过磁性贴片夹固定在所述水冷壁管屏的外表面上。根据本专利技术的一种具体实施方式,如图3所示,在所述步骤S2中,使用支架2固定曝光管1,其中,支架2可以采用各种适当形式。根据本专利技术的另一方面,提供一种支架2,该支架2包括支腿3,该支腿3的脚部设置有能够吸附在所述水冷壁管屏上的磁体。工作人员可以通过磁体的吸力将本专利技术的支架2固定在水冷壁管屏的外表面上,然后将γ射线探伤装置的曝光管3通过相邻的水冷壁管之间的空间(可以将连接相邻的水冷壁管的鳍片割开形成入口)插入到炉膛的内部并固定在支架2上。借助于本专利技术的支架2,本文档来自技高网...
用于水冷壁管的γ射线探伤装置

【技术保护点】
用于水冷壁管的γ射线探伤装置,该γ射线探伤装置包括用于发射γ射线的曝光管(1),其特征在于,该γ射线探伤装置还包括用于固定所述曝光管(1)的支架(2),该支架(2)包括支腿(3),该支腿(3)的脚部设置有能够吸附在所述水冷壁管屏上的磁体。

【技术特征摘要】
1.用于水冷壁管的γ射线探伤装置,该γ射线探伤装置包括用于发射γ射线的曝光管(1),其特征在于,该γ射线探伤装置还包括用于固定所述曝光管(1)的支架(2),该支架(2)包括支腿(3),该支腿(3)的脚部设置有能够吸附在所述水冷壁管屏上的磁体,其中,所述磁体形成为能够在所述水冷壁管屏上行走的脚轮(31),该脚轮(31)可旋转的安装在所述支架(2)上,所述支腿(3)为横向相对设置的两组,所述支架(2)包括连接两组所述支腿(3)的支撑梁(4),所述支架(2)还包括安装在所述支撑梁(4)上的用于固定所述曝光管(1)的支撑座(5),所述支撑座(5)包括用于固定所述曝光管(1)的支撑槽(51)和用于将所述支撑槽(51)固定在所述支撑梁(4)上的万向转向座(52)。2.根据权利要求1所述的γ射线探伤装置,其特征在于,所述支撑梁(4)包括第一支撑部(41)和设置在所述第一支撑部(41)...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘泽锴刘鸿国戴文斌张军富侯召堂
申请(专利权)人:中国神华能源股份有限公司神华福建能源有限责任公司福建晋江热电有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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