使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的系统及方法技术方案

本发明专利技术提供一种使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的方法，所述方法包含：通过在一第一及第二非真空环境中将一电子束从所述电子显微镜引导至一材料上，以产生所述材料的一第一及第二特性频谱，在所述第一及第二非真空环境中所述电子束分别产生第一及第二散射量；收集从所述材料发射出的第一及第二X射线；比对所述第一及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的系统及方法相关申请资料参阅2012年6月5日提交的美国临时申请案第61/655,567号，标的名称为“提高水平分辨率的方法”，其根据美国联邦法规(37CFR)第1.78(a)(4)及(5)(i)条规定揭露于此全部纳入作为参考并主张优先权。另外，也参阅美国专利公开及申请案，其中作为参考的内容如下：美国专利号第8,164,057号及第8,334,510号；及2009年9月24日提交的PCT专利申请公开第WO2012/007941号，标的名称为“一种抽真空装置及一扫描电子显微镜”；及2012年8月21日提交的中国专利申请第201210299149.5号，标的名称为“电子显微镜成像系统及方法”。
本专利技术一般是涉及于一种扫描电子显微镜。
技术介绍
在现有技术中所知道的各种类型的扫描电子显微镜。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种改进的扫描电子显微镜。因此，根据本专利技术的一优选实施例，提供一种使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的方法，所述方法包含步骤：在一第一非真空环境中将一电子束从一电子显微镜引导至所述材料上，在所述第一非真空环境中所述电子束产生一第一散射量；收集从所述材料发射出的多个第一X射线；及对所述第一X射线进行频谱分析；接着，通过下述步骤产生所述材料的一第二特性频谱：在一第二非真空环境中将一电子束从所述电子显微镜引导至所述材料上，在所述第二非真空环境中所述电子束产生一第二散射量；收集从所述材料发射出的多个第二X射线；及对所述第二X射线进行频谱分析；比对所述第一及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。根据本专利技术一优选实施例，所述散射补偿特性频谱包含至少一个强度随着散射的增加而减少的峰值。优选地，所述第一非真空环境包含一第一气体，及所述第二非真空环境包含一第二气体，所述第二气体具有一电子束散射特性与所述第一气体的一电子束散射特性不同。或者，所述第一非真空环境中与所述材料具有一第一电子束移动距离，及所述第二非真空环境中与所述材料具有一第二电子束移动距离，所述第二电子束移动距离所产生的一电子束散射的量不同于所述第一电子束移动距离所产生的一电子束散射的量。根据本专利技术的另一优选实施例，还提供一种使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的系统，所述系统包含：一特性频谱产生器，通过下述方式产生一材料的一第一及第二特性频谱：在一第一及第二非真空环境中将一电子束从一电子显微镜引导至所述材料上，在所述第一及第二非真空环境中所述电子束分别产生一第一散射量及一第二散射量；在所述第一及第二非真空环境中收集从所述材料发射出的X射线；及在所述第一及第二非真空环境中对来自所述材料的X射线进行频谱分析；以及一散射补偿特性频谱产生器，操作用于：比对所述第一及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；及通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。优选地，所述散射补偿特性频谱包含至少一强度随着散射的增加而减少的峰值。根据本专利技术一优选实施例，所述系统还包含一气体供应器，操作用以供应一第一气体至所述第一非真空环境，及供应一第二气体至所述第二非真空环境，所述第二气体具有一电子束散射特性与所述第一气体的一电子束散射特性不同。另外，所述系统还包含一移动样本固定座，被操作而定位在所述第一非真空环境中与所述材料保持一第一电子束移动距离之处，及定位在所述第二非真空环境中与所述材料保持一第二电子束移动距离之处，所述第二电子束移动距离所产生的一电子束散射的量不同于所述第一电子束移动距离所产生的一电子束散射的量。根据本专利技术另一优选实施例，还提供一种使用以电子显微镜为主的系统对存在于非真空环境的材料进行分析的计算方法，应用于在一非真空环境中将一以电子显微镜为主的材料分析系统操作用于将一电子束从一电子显微镜引导至一材料上，收集所述材料发射出的X射线，且对所述X射线进行频谱分析，所述方法包含操作所述以电子显微镜为主的材料分析系统，以便：通过下述步骤产生一材料的一第一特性频谱：在一第一非真空环境中引导一电子束至所述材料上，在所述第一非真空环境中所述电子束产生第一散射量；收集从所述材料发射出的第一X射线；及对所述第一X射线进行频谱分析；接着，通过下述步骤产生所述材料的一第二特性频谱：在一第二非真空环境中引导一电子束至所述材料上，在所述第二非真空环境中所述电子束产生第二散射量；收集从所述材料发射出的第二X射线；及对所述第二X射线进行频谱分析；比对所述第一及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；及通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。根据本专利技术一优选实施例，所述散射补偿特性频谱包含至少一强度随着散射的增加而减少的峰值。优选地，所述第一非真空环境包含一第一气体，及所述第二非真空环境包含一第二气体，所述第二气体具有一电子束散射特性与所述第一气体的一电子束散射特性不同。另外，所述第一非真空环境中与所述材料具有一第一电子束移动距离，及所述第二非真空环境中与所述材料具有一第二电子束移动距离，所述第二电子束移动距离所产生的一电子束散射的量不同于所述第一电子束移动距离所产生的一电子束散射的量。根据本专利技术另一优选实施例，进一步提供一种计算机软件，应用于一以电子显微镜为主的材料分析系统的操作控制，以在一非真空环境中将一电子束从一电子显微镜引导至一材料，收集从所述材料发射出的X射线，且在所述X射线上进行频谱分析，一种使用以电子显微镜为主的系统对存在于非真空环境的材料进行分析的计算方法，其特征在于：所述计算机软件包含数个指令，用于操作所述以电子显微镜为主的系统，以便：通过下述步骤产生一材料的一第一特性频谱：在一第一非真空环境中引导一电子束至所述材料上，在所述第一非真空环境中所述电子束产生第一散射量；收集从所述材料发射出的第一X射线；及对所述第一X射线进行频谱分析；接着，通过下述步骤产生所述材料的一第二特性频谱：在一第二非真空环境中引导一电子束从所述电子显微镜至所述材料上，其中所述电子束产生第二散射量；从所述材料收集所发射的第二X射线；及对所述第二X射线进行频谱分析；比对所述第一及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；及通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。根据本专利技术一优选实施例，所述散射补偿特性频谱包含至少一强度随着散射的增加而减少的峰值。优选地，所述第一非真空环境包含一第一气体，及所述第二非真空环境包含一第二气体，所述第二气体具有一电子束散射特性与所述第一气体的一电子束散射特性不同。另外，所述第一非真空环境中与所述材料具有一第一电子束移动距离，及所述第二非真空环境中与所述材料具有一第二电子束移动距离，所述第二电子束移动距离所产生的一电子束散射的量不同于所述第一电子束移动距离所产生的一电子束散射的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的方法，其特征在于：所述方法包含步骤：通过下述步骤产生一材料的一第一特性频谱：在一第一非真空环境中将一电子束从一电子显微镜引导至所述材料上，在所述第一非真空环境中所述电子束产生一第一散射量；收集从所述材料发射出的多个第一X射线；及对所述第一X射线进行频谱分析；接着，通过下述步骤产生所述材料的一第二特性频谱：在一第二非真空环境中将一电子束从所述电子显微镜引导至所述材料上，在所述第二非真空环境中所述电子束产生一第二散射量；收集从所述材料发射出的多个第二X射线；及对所述第二X射线进行频谱分析；比对所述第一及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.05 US 61/6555671.一种使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的方法，其特征在于：所述方法包含步骤：通过下述步骤产生一材料的一第一特性频谱：在一第一非真空环境中将一电子束从一电子显微镜引导至所述材料上，在所述第一非真空环境中所述电子束产生一第一散射量；收集从所述材料发射出的多个第一X射线；及对所述第一X射线进行频谱分析；接着，通过下述步骤产生所述材料的一第二特性频谱：在一第二非真空环境中将一电子束从所述电子显微镜引导至所述材料上，在所述第二非真空环境中所述电子束产生一第二散射量；收集从所述材料发射出的多个第二X射线；及对所述第二X射线进行频谱分析；比对所述第一特性频谱及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一特性频谱及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。2.如权利要求1所述的使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的方法，其特征在于：所述散射补偿特性频谱包含至少一个强度随着散射的增加而减少的峰值。3.如权利要求1所述的使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的方法，其特征在于：所述第一非真空环境包含一第一气体，及所述第二非真空环境包含一第二气体，所述第二气体具有一电子束散射特性与所述第一气体的一电子束散射特性不同。4.如权利要求1所述的使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的方法，其特征在于：所述第一非真空环境中与所述材料具有一第一电子束移动距离，及所述第二非真空环境中与所述材料具有一第二电子束移动距离，所述第二电子束移动距离所产生的一电子束散射的量不同于所述第一电子束移动距离所产生的一电子束散射的量。5.一种使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的系统，其特征在于，所述系统包含：一特性频谱产生器，通过下述方式产生一材料的一第一特性频谱及第二特性频谱：在一第一非真空环境及第二非真空环境中将一电子束从一电子显微镜引导至所述材料上，在所述第一非真空环境及第二非真空环境中所述电子束分别产生一第一散射量及一第二散射量；在所述第一非真空环境及第二非真空环境中收集从所述材料发射出的X射线；及在所述第一非真空环境及第二非真空环境中对来自所述材料的X射线进行频谱分析；以及一散射补偿特性频谱产生器，操作用于：比对所述第一特性频谱及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；及通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一特性频谱及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。6...

【专利技术属性】
技术研发人员：多夫·夏查尔，拉菲·迪彼丘多，
申请(专利权)人：B纳米股份有限公司，
类型：发明
国别省市：以色列;IL