一种新型镭射膜制造技术

技术编号:11277250 阅读:87 留言:0更新日期:2015-04-09 09:57
本实用新型专利技术公开了一种新型镭射膜,包括四层结构,其特征在于:依次为基膜层、镭射层、镀铝层和热封层;所述的基膜层为PVC,厚度为30~60μm,所述的镭射层为硝基纤维素,厚度为0.8~1.5μm,所述的镀铝层为纯铝,厚度为0.02~0.06μm,所述热封层厚度为0.3~0.5μm。本实用新型专利技术为无版缝产品,不会给后续的印刷或者包装生产带来大量的损耗,大大提高了生产效率,适于应用和推广。

【技术实现步骤摘要】
一种新型镭射膜
本技术涉及包装材料
,尤其涉及一种新型镭射膜。
技术介绍
镭射包装是包装行业中的一个细分行业,近年来取得了快速的发展,与包装行业内的其他产品相比,镭射包装材料不仅具有新颖、亮丽的外观效果,同时还具有高技术防伪功能,被称为世界包装印刷业中最前沿的技术产品。 镭射膜一般采用计算机点阵光刻技术、3D真彩色全息技术、多重与动态成像技术等,经模压把具有彩虹动态、三维立体效果的全息图像转移到PET、BOPP, PVC或带涂层的基材上,然后利用复合、烫印、转移等方式使商品包装表面获得某种激光镭射效果。目前镭射材料的应用领域已经非常广泛,在食品、药品、日化用品、烟酒、服装、礼品包装以及装饰材料等行业都得到较快的推广。 从产品成分构成上划分,镭射薄膜产品可以大致分为OPP镭射膜、PET镭射膜和PVC镭射膜三种。 目前,镭射膜的制作工艺比较复杂,它采用的是真空腔镀铝方式,即将蒸发舟加热至1400-1500°C,连续送到蒸发舟上的铝丝冷化成铝蒸汽,由于基膜具有静电吸附力,将铝分子吸附在薄膜表面,再经过冷却沉积,从而将铝均匀地喷镀在连续卷取的薄膜表面形成镀铝膜,再经过激光雕刻的镭射版包在辊筒上,在130°C的温度下模压后,形成镭射膜。由于镭射版包在辊筒上,不能够完全无缝结合,于是就在镭射膜上留下了 0.5mm-2mm的版缝,后续的印刷或者包装过程中必须要避开版缝,这样会带来工艺上的缺陷和大量的损耗。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种为无版缝产品,不会给后续的印刷或者包装生产带来大量的损耗,大大提高了生产效率,适于应用和推广的新型镭射膜。 为解决上述技术问题,本技术提供一种新型镭射膜,包括四层结构,其特征在于:依次为基膜层、镭射层、镀铝层和热封层;所述的基膜层为PVC,厚度为30?60 μ m,所述的镭射层为为硝基纤维素,厚度为0.8?1.5 μ m,所述的镀铝层为纯铝,厚度为0.02?0.06 μ m,所述热封层厚度为0.3?0.5 μ m。 进一步的,所述的PVC为软质或硬质基膜层。 进一步的,所述的基膜层为硬质PVC,厚度为30 μ m,镭射层厚度为0.8 μ m,镀铝层厚度为0.02 μ m,热封层厚度为0.3 μ m。 更进一步的,所述的基膜层为软质PVC,厚度为60 μ m,镭射层厚度为L 5 ym,镀铝层厚度为0.06 μ m,热封层厚度为0.5 μ m。 与现有技术相比,本技术的有益效果为: 本技术为无版缝产品,不会给后续的印刷或者包装生产带来大量的损耗,大大提高了生产效率,适于应用和推广。 【附图说明】 图1为本技术的结构示意图。 图中标号: 1-基膜层 2—镭射层 3-镀铝层 4-热封层。 【具体实施方式】 下面对结合附图对本技术的较佳实施例作详细阐述,以使本技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本技术的保护范围作出更为清楚明确的界定。 参见图1所示,一种新型镭射膜,包括四层结构,依次为基膜层1、镭射层2、镀铝层3和热封层4 ;所述的基膜层I为PVC,厚度为30?60 μ m,所述的镭射层2为为硝基纤维素,厚度为0.8?1.5 μ m,所述的镀铝层3为纯铝,厚度为0.02?0.06 μ m,所述热封层4厚度为0.3?0.5 μ m,所述的PVC为软质或硬质基膜层,所述的基膜层I为硬质PVC,厚度为30 μ m,镭射层2厚度为0.8 μ m,镀铝层3厚度为0.02 μ m,热封层4厚度为0.3 μ m,所述的基膜层I为软质PVC,厚度为60 μ m,镭射层2厚度为1.5 μ m,镀铝层3厚度为0.06 μ m,热封层4厚度为0.5 μ m。 综上所述,本技术为无版缝产品,不会给后续的印刷或者包装生产带来大量的损耗,大大提高了生产效率,适于应用和推广。 以上所述仅为本技术的较佳实施方式,本技术的保护范围并不以上述实施方式为限,但凡本领域普通技术人员根据本技术所揭示内容所作的等效修饰或变化,皆应纳入权利要求书中记载的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型镭射膜,包括四层结构,其特征在于:依次为基膜层、镭射层、镀铝层和热封层;所述的基膜层为PVC,厚度为30~60μm,所述的镭射层为为硝基纤维素,厚度为0.8~1.5μm,所述的镀铝层为纯铝,厚度为0.02~0.06μm,所述热封层厚度为0.3~0.5μm。

【技术特征摘要】
1.一种新型镭射膜,包括四层结构,其特征在于:依次为基膜层、镭射层、镀铝层和热封层;所述的基膜层为PVC,厚度为30?60 μπι,所述的镭射层为为硝基纤维素,厚度为.0.8?1.5 μm,所述的镀铝层为纯铝,厚度为0.02?0.06 μπι,所述热封层厚度为0.3?.0.5 μ m02.根据权利要求1所述的新型镭射膜,其特征在于:所述的PVC为软质或硬质基膜层...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑世强
申请(专利权)人:昆山正威印刷包装有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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