干式蚀刻机及用于捕集气体中磁性颗粒的捕集装置制造方法及图纸

技术编号:11250514 阅读:146 留言:0更新日期:2015-04-02 00:01
本发明专利技术涉及一种干式蚀刻机和用于捕集气体中磁性颗粒的捕集装置。干式蚀刻机沿着气体流动方向依次包括蚀刻装置和抽风装置,以及设置在蚀刻装置与抽风装置之间的捕集装置。捕集装置包括壳体,以及设置在壳体内的磁性过滤单元。磁性过滤单元与壳体之间,和/或磁性过滤单元内形成有通道。其中,磁性过滤单元能够吸附流经通道的气体内的磁性颗粒,避免磁性颗粒在抽风装置的内部进行沉积,从而提升抽风装置的抽风效率和使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种干式蚀刻机和用于捕集气体中磁性颗粒的捕集装置。干式蚀刻机沿着气体流动方向依次包括蚀刻装置和抽风装置,以及设置在蚀刻装置与抽风装置之间的捕集装置。捕集装置包括壳体,以及设置在壳体内的磁性过滤单元。磁性过滤单元与壳体之间,和/或磁性过滤单元内形成有通道。其中,磁性过滤单元能够吸附流经通道的气体内的磁性颗粒,避免磁性颗粒在抽风装置的内部进行沉积,从而提升抽风装置的抽风效率和使用寿命。【专利说明】干式蚀刻机及用于捕集气体中磁性颗粒的捕集装置
本专利技术涉及一种干式蚀刻机及一种用于捕集气体中磁性颗粒的捕集装置。
技术介绍
干式蚀刻机沿着气体流动方向依次包括蚀刻装置、能够从蚀刻装置内抽出气体的抽风装置和能够净化抽风装置排出的气体的尾气处理装置,以及用于把各装置依次连接起来的管道。 该干式蚀刻机的蚀刻装置对特殊的待蚀刻对象、例如掺有金属的低温多晶硅层(即阵列基板的半导体活性层)进行干法蚀刻时会产生带有大量磁性颗粒的气体。该磁性颗粒的主要成分包括三氯化铝(化学式为AlCl3)和钼的氯化物(化学式为MoClx)。 在干式蚀刻机频繁使用后,磁性颗粒会在抽风装置的内部出现沉积,大幅度地降低抽风装置的抽风效率和使用寿命。同时,磁性颗粒还会在管道的拐角处和缩颈处进行堆积,影响管道内气体的顺畅性。
技术实现思路
为了解决上述问题,本专利技术的目的是提供了一种干式蚀刻机,其能够避免磁性颗粒在抽风装置的内部进行沉积,从而提升抽风装置的抽风效率和使用寿命。同时,本专利技术的目的是还提供了一种用于捕集气体中磁性颗粒的捕集装置,其能够有效地捕集气体中的磁性颗粒。 本专利技术提供了一种干式蚀刻机,其包括能够产生带有磁性颗粒的气体的蚀刻装置和能够从蚀刻装置内抽出气体的抽风装置,以及设置在蚀刻装置与抽风装置之间的用于捕集气体中的磁性颗粒的捕集装置。捕集装置包括具有进口和出口的壳体,以及设置在壳体内的磁性过滤单元。磁性过滤单元与壳体之间,和/或磁性过滤单元内形成有与进口和出口均连通的通道。其中,磁性过滤单元构造成当气体流经通道时,能够吸附气体内的磁性颗粒。 在一个实施例中,磁性过滤单元内的通道呈螺旋形或涡旋形。 在一个实施例中,磁性过滤单元包括多个依次套接的磁性套,通道包括形成在磁性套间的多个环形间隙,以及设置在各磁性套上的用于连通各环形间隙的开口,相邻的开口彼此错开。 在一个实施例中,在壳体内设有过滤芯,过滤芯包括贴合于壳体的内壁的第一表面和设于第一表面上并与出口相连的盲孔,以及与通道相接的且具有多个凹槽的第二表面。 在一个实施例中,捕集装置还包括能够对磁性过滤单元进行散热的散热机构。 在一个实施例中,磁性过滤单元由磁性纤维材料制成。 在一个实施例中,所述干式蚀刻机还包括与能够净化所述抽风装置排出的气体的尾气处理装置。 本专利技术还提供了一种用于捕集气体中磁性颗粒的捕集装置,其包括具有进口和出口的壳体,以及设置在壳体内的磁性过滤单元。其中,磁性过滤单元与壳体之间和/或磁性过滤单元内形成有与进口和出口均连通的通道,磁性过滤单元构造成当气体流经通道时,能够吸附气体内的磁性颗粒。 在一个实施例中,磁性过滤单元内的通道呈螺旋形或涡旋形。 在一个实施例中,磁性过滤单元包括多个依次套接的磁性套,通道包括形成在磁性套间的多个环形间隙,以及设置在各磁性套上的用于连通各环形间隙的开口,相邻的开口彼此错开。 在一个实施例中,在壳体内设有过滤芯,过滤芯包括贴合于壳体的内壁的第一表面和设于第一表面上并与出口相连的盲孔,以及与通道相接的且具有多个凹槽的第二表面。 在一个实施例中,捕集装置还包括能够对磁性过滤单元进行散热的散热机构。 在一个实施例中,磁性过滤单元由磁性纤维材料制成。 根据本专利技术的干式蚀刻机能够通过其捕集装置捕集气体内的磁性颗粒,由此可以避免磁性颗粒进入到抽风装置内进行沉积,从而提高抽风装置的抽风效率和使用寿命。同时,该捕集装置还能够避免磁性颗粒进入到处于捕集装置下游的管道和尾气处理装置内,由此可以避免磁性颗粒堵塞下游的管道和尾气处理装置,尤其是避免堵塞管道内的拐角处和缩颈处。 另外,根据本专利技术的干式蚀刻机和捕集装置的结构简单、装配容易,使用安全,便于实施推广应用。 【专利附图】【附图说明】 在下文中将基于实施例并参考附图来对本专利技术进行更详细的描述。其中: 图1是根据本专利技术的干式蚀刻机的结构示意图; 图2是根据本专利技术的干式蚀刻机的捕集装置的纵向剖视图;以及 图3是根据本专利技术的干式蚀刻机的捕集装置的横向剖视图。 在附图中相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例绘制。 【具体实施方式】 下面将结合附图对本专利技术作进一步说明。 图1显示了根据本专利技术的干式蚀刻机50。该干式蚀刻机50包括蚀刻装置20。蚀刻装置20对特殊的待蚀刻对象、例如掺有金属的低温多晶硅层(即阵列基板的半导体活性层)进行干法蚀刻时会产生带有大量磁性颗粒的气体。该磁性颗粒的主要成分包括A1C13三氯化铝和MoClx钼的氯化物。这些磁性颗粒只有在磁化后才能够显露磁性,其能够被带有磁性的物质、例如电磁铁或永磁体所吸弓I。 同时,该干式蚀刻机50还包括能够从蚀刻装置20内抽出气体的抽风装置30,以及设置在蚀刻装置20与抽风装置30之间的捕集装置10。其中,抽风装置30可选为抽风机。另外,该干式蚀刻机50还可包括与抽风装置30相连的尾气处理装置40。该尾气处理装置40能够净化气体内的粉尘和污染物,以便排出干净而清洁的气体。其中,所述的蚀刻装置20和尾气处理装置40均属于本领域技术人员熟知的,在此不作详细描述。 本专利技术的干式蚀刻机50内的各个装置通过管道依次连接起来,管道包括连接蚀刻装置20与捕集装置10的第一管道21和连接捕集装置10与抽风装置30的第二管道22,以及连接抽风装置30与尾气处理装置40的第三管道23。其中,第二管道22内出现的拐角处22a以及第三管道23中出现的缩颈处23a和拐角处23b都属于易堵塞位置,现有的干式蚀刻机通常需要定期清理,而本专利技术的干式蚀刻机50却可以解决这个问题,详情请见下文。 如图2和3所示,捕集装置10包括大致呈圆柱形壳体5。当然,壳体5也可呈其他形状。壳体5具有进口 2和出口 3。捕集装置10还包括设置在壳体5内的磁性过滤单元6。磁性过滤单元6与壳体5之间,和/或磁性过滤单元6内形成有通道7。通道7与壳体5上的进口 2和出口 3均连通。由于磁性过滤单元6具有磁性,因此其能够吸附流经通道7的气体内的磁性颗粒。通过这种方式,能够避免磁性颗粒进入到处于捕集装置10下游的抽风装置30内,由此可以避免磁性颗粒在抽风装置30内进行沉积,从而提高抽风装置30的抽风效率和使用寿命。 同时,捕集装置10还能够避免磁性颗粒进入到处于捕集装置10下游的管道和尾气处理装置40内,由此可以避免磁性颗粒堵塞下游的管道和尾气处理装置40,尤其是避免堵塞管道的易堵塞位置,易堵塞位置即拐角处22a以及缩颈处23a和拐角处23b,请参见图1o 在一个优选的实施例中,磁性过滤单元6由磁性纤维材料制成。由于磁性纤维材料本身具有很多空隙,因此多空隙的磁性纤维材料不仅可以确保磁性过滤单元6本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种干式蚀刻机,包括能够产生带有磁性颗粒的气体的蚀刻装置和能够从所述蚀刻装置内抽吸所述气体的抽风装置,以及设置在所述蚀刻装置与抽风装置之间的用于捕集所述气体中的磁性颗粒的捕集装置,其中所述捕集装置包括具有进口和出口的壳体,以及设置在所述壳体内的磁性过滤单元,其中所述磁性过滤单元与壳体之间,和/或所述磁性过滤单元内形成有与所述进口和出口均连通的通道,所述磁性过滤单元构造成当所述气体流经所述通道时,能够吸附所述气体内的磁性颗粒。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:肖文欢
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1