【技术实现步骤摘要】
主动元件阵列基板与显示面板
本专利技术是有关于一种主动元件阵列基板与显示面板。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)为目前平面显示器的主流,其可利用液晶分子的介电异方性与导电异方性,于外加电场时使液晶分子排列状态转换,使得液晶薄膜产生各种光电效应。液晶显示器的显示面板是由两片基板叠合而成,并于两片基板之间灌注液晶。两片基板上可分别形成对应的电极,用以控制液晶分子的转向以及排列。一般而言,液晶显示器的显示面板,可由一片薄膜晶体管阵列基板以及一片彩色滤光片基板组成,并且以间隔物定义两片基板之间的距离,以于两片基板之间灌注液晶。目前,为了提高液晶显示器的品质,发展出了彩色滤光片于阵列基板(ColorfilterOnArray,COA)的显示面板以及黑色矩阵于阵列基板(BlackMatrixOnArrayorBlackPhotoSpacerOnArray,BOA)的显示面板。其中,BOA结构的显示面板通过将色阻(或者说,彩色滤光片)以及黑色矩阵整合在阵列基板上,可降低两片基板之间对位不准确的情况,进而提高液晶显示器的开口率。因此,BOA结构的显示面板逐渐成为液晶显示器发展的明日之星。然而,在目前BOA结构的显示面板中,黑色矩阵与色阻之间的交界处可能会产生不必要的透光,故需要在此交界处加入额外设计抵制透光。
技术实现思路
因此,本专利技术的一目的是提供一种主动元件阵列基板,以解决上述问题。根据本专利技术的一实施方式,主动元件阵列基板包含基板、至少一扫描线、至少一数据线、至少一第一薄膜晶体管、至少一第一像素电极、至少一黑色矩阵、至少一色 ...
【技术保护点】
一种主动元件阵列基板,其特征在于,包含:一基板;至少一扫描线,位于该基板上;至少一数据线,位于该基板上,并与该扫描线交错设置;至少一第一薄膜晶体管,位于该基板上,该第一薄膜晶体管的一栅极电性连接该扫描线,该第一薄膜晶体管的一源极电性连接该数据线;至少一第一像素电极,位于该基板上,并电性连接该第一薄膜晶体管的一漏极;至少一黑色矩阵,位于该基板上,并至少部分覆盖该第一薄膜晶体管;至少一色阻,位于该基板上,该色阻与该黑色矩阵之间具有至少一交界处;以及至少一第一遮光金属层,位于该基板上,并且不连接于该扫描线,该第一遮光金属层在该基板上的正投影与该交界处在该基板上的正投影至少部分重叠。
【技术特征摘要】
1.一种主动元件阵列基板,其特征在于,包含:一基板;至少一扫描线,位于该基板上;至少一数据线,位于该基板上,并与该扫描线交错设置;至少一第一薄膜晶体管,位于该基板上,该第一薄膜晶体管的一栅极电性连接该扫描线,该第一薄膜晶体管的一源极电性连接该数据线;至少一第一像素电极,位于该基板上,并电性连接该第一薄膜晶体管的一漏极;至少一黑色矩阵,位于该基板上,并至少部分覆盖该第一薄膜晶体管;至少一色阻,位于该基板上,该色阻与该黑色矩阵之间具有至少一交界处;以及至少一第一遮光金属层,位于该基板上,并且不连接于该扫描线,该第一遮光金属层在该基板上的正投影与该交界处在该基板上的正投影至少部分重叠;其中,该第一遮光金属层与该扫描线共同属于同一图案化金属层,并且该第一遮光金属层具有浮动电位。2.根据权利要求1所述的主动元件阵列基板,其特征在于,该第一遮光金属层与该扫描线之间具有至少一间隙;以及还包含:一第二遮光金属层,该第二遮光金属层在该基板上的正投影与该间隙在该基板上的正投影至少部分重叠。3.根据权利要求2所述的主动元件阵列基板,其特征在于,该第二遮光金属层与该数据线共同属于同一图案化金属层,且该第二遮光金属层具有浮动电位。4.根据权利要求2所述的主动元件阵列基板,其特征在于,该间隙在该基板上的正投影与该交界处在该基板上的正投影至少部分重叠。5.根据权利要求2所述的主动元件阵列基板,其特征在于,该第一像素电极在该基板上的正投影与该第二遮光金属层在该基板上的正投影至少部分重叠。6.根据权利要求1所述的主动元件阵列基板,其特征在于,该第一像素电极在该基板上的正投影与该第一遮光金属层在该基板上的正投影至少部分重叠。7.根据权利要求1所述的主动元件阵列基板,其特征在于,还包含:一储存电容;以及一储存电容走线,电性连接该第一薄膜晶体管的该漏极与该储存电容的一极,该储存电容走线在该基板上的正投影与该扫描线在该基板上的正投影分开。8.根据权利要求1所述的主动元件阵列基板,其特征在于,还包含:一储存电容;以及一储存电容走线,电性连接该第一薄膜晶体管的该漏极与该储存电容的一极,该储存电容走线在该基板上的正投影与该第一遮光金属层在该基板上的正投影至少部分重叠。9.根据权利要求1所述的主动元件阵列基板,其特征在于,该黑色矩阵的材质包含树脂材料。10.根据权利要求9所述的主动元件阵列基板,其特征在于,该第一像素电极定义一第一显示区,位于两相邻的该些数据线间的该黑...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴尚杰,何昇儒,林弘哲,邱家祥,
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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