一种真空镀膜设备及数据线支架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜设备及数据线支架，其中，该真空镀膜设备包括气相沉积室以及设置于气相沉积室内的支架，支架包括多个第一支架接头，第一支架接头与第一数据线接头适配且能够彼此接插固定，进而将数据线设置于所述气相沉积室内。通过与数据线结构配套的设计，从而能够对数据线实行批量真空镀膜，提高数据线真空纳米镀膜的效率以及镀膜效果，而且在镀膜过程中还能保护数据线的接头部分。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备及数据线支架
[0001 ] 本技术涉及一种真空镀膜设备及数据线支架。
技术介绍
将高分子材料裂解成纳米分子后在真空环境内均匀无间隙附着在产品表面形成纳米保护膜，称之为真空气相沉积纳米镀膜。这种工艺的纳米镀膜与传统镀膜或者喷油、喷漆具有以下特性:1、防水防潮无细孔，密封性好；2、镀膜耐酸碱、绝缘等级高、防静电产生； 3、镀膜表面平顺，防污脏物粘附，摩擦力小，易擦洗；4、外观色泽，可根据需求调整，从高透明到其它颜色。5、镀膜厚度是从0.1微米到50微米以上皆可；6、镀膜附着力好，无内内应力，气泡孔，镀膜适应环境温度土200°C，不脱落不起皱。 纳米镀膜时，原料在材料室内经过150°C的汽化形成气态后进入到高温650°C左右的裂解炉，分解成纳米级分子。进入到常温的镀膜室，在真空状态下以气相沉积防水形成薄膜，均匀覆盖产品表面针孔及间隙。它与金属喷镀及喷油漆不同之处在于，只要产品表面与空气接触都能都能被真空气相沉积纳米镀膜，均匀覆盖，形成无针孔、致密均匀、高透明的薄膜。 由于纳米镀膜时，需镀膜的产品表面都要与空气接触，因此，如何对镀膜设备进行改进以适应不同产品镀膜是一个有待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术提供一种真空镀膜设备及数据线支架，能够对数据线实行批量真空纳米镀膜，提高数据线真空纳米镀膜的效率以及镀膜效果。 为解决上述技术问题，本技术提供的一种技术方案是:提供一种真空镀膜设备，用于对数据线进行真空镀膜，所述数据线一端设置有第一数据线接头，所述真空镀膜设备包括气相沉积室以及设置于所述气相沉积室内的支架，所述支架包括多个第一支架接头，所述第一支架接头能够与所述第一数据线接头适配且彼此接插固定，进而将所述数据线设置于所述气相沉积室内。 其中，所述支架进一步包括支架柱以及多个第一支撑杆，所述多个第一支撑杆设置于所述支架柱上且沿所述支架柱的径向方向放射状延伸，所述第一支架接头间隔设置于所述第一支撑杆上。 其中，所述第一支撑杆上间隔设置有多个第一卡槽，所述第一支架接头固定于所述第—槽内。 其中，所述数据线的另一端设置有第二数据线接头，所述支架进一步包括多个第二支架接头以及多个第二支撑杆，所述多个第二支撑杆沿所述支架柱的轴向方向相对于所述第一支撑杆间隔设置于所述支架柱上且沿所述支架柱的径向方向放射状延伸，所述第二支架接头间隔设置于所述第二支撑杆上，所述第二支架接头与所述第二数据线接头适配且能够彼此接插固定，进而将所述数据线设置于所述第一支撑杆和所述第二支撑杆之间。 其中，所述第二支撑杆上间隔设置有多个第二卡槽，所述第二支架接头固定于所述第二卡槽内。 其中，所述第一支架接头和所述第二支架接头对称设置，以使得设置于所述第一支撑杆和所述第二支撑杆之间的所述数据线平行于所述支架柱的轴向方向。 其中，所述第一支撑杆和所述第二支撑杆中的至少一者沿所述支架柱的轴向方向的位置可调，进而使得所述第一支撑杆与所述第二支撑杆沿所述支架柱的轴向方向的间距可调。 其中，所述支架进一步包括第一主支撑环和第二主支撑环，所述第一主支撑环和所述第二主支撑环分别与所述支架柱嵌套设置且沿所述支架柱的轴向方向间隔固定于所述支架柱上，所述第一支撑杆包括多个第一主支撑杆，所述多个第一主支撑杆设置于所述第一主支撑环上且向所述第一主支撑环的外侧放射状延伸，所述第二支撑杆包括多个第二主支撑杆，所述多个第二主支撑杆设置于所述第二主支撑环上且向所述第二主支撑环的外侧放射状延伸。 其中，所述支架进一步包括第一辅支撑环、第二辅支撑环、多个第一辅支撑杆和多个第二辅支撑杆，所述第一辅支撑环设置于所述第一主支撑杆上且沿所述支架柱的径向方向与所述第一主支撑环间隔嵌套设置，所述多个第一辅支撑杆设置于所述第一辅支撑环上且向所述第一辅支撑环的外侧放射状延伸，所述第二辅支撑环设置于所述第二主支撑杆上且沿所述支架柱的径向方向与所述第二主支撑环间隔嵌套设置，所述多个第二辅支撑杆设置于所述第二辅支撑环上且向所述第二辅支撑环的外侧放射状延伸。 其中，所述真空镀膜设备进一步包括设置于所述气相沉积室侧壁的入口以及设置于所述气相沉积室内与所述入口正对着的降温分流挡板，所述入口用于引入高分子材料裂解气体，所述高分子材料裂解气体经所述降温分流挡板冷却后扩散于所述气相沉积室内。 其中，所述真空镀膜设备进一步包括排气柱，所述排气柱呈中空状且在所述排气柱的侧壁上设置有多个第一通气孔，所述支架柱呈中空状且所述支架柱的侧壁上设置有多个第二通气孔，所述排气柱从所述支架柱的一端插入所述支架柱，所述支架柱嵌套设置于所述排气柱外侧且能够绕所述排气柱进行转动，所述高分子材料裂解气体经所述第一通气孔和所述第二通气孔均匀扩散并沉积于所述数据线上。 其中，所述第一通气孔为长度方向沿所述排气柱的轴向方向设置的条形孔。 其中，沿所述排气柱的轴向方向相邻设置的所述第一通气孔沿所述排气柱的轴向方向彼此错开。 其中，所述第二通气孔为圆形孔，且设置于沿所述支架柱的轴向方向相邻设置的所述第一主支撑杆之间以及沿所述支架柱的轴向方向相邻设置的所述第二主支撑杆之间。 其中，所述支架进一步包括密封设置于所述支架柱的另一端的顶盖。 其中，所述真空镀膜设备进一步包括设置于所述气相沉积室外侧并与所述排气柱连接的冷却塔，气相沉积后的残余气体经过所述第二通气孔和所述第一通气孔进入所述排气柱，进一步通过所述排气柱导入到所述冷却塔中。 其中，所述真空镀膜设备进一步包括磁性转动组件，所述磁性转动组件包括设置于所述气相沉积室外侧的第一旋转磁体以及设置于所述气相沉积室内侧的第二旋转磁体，所述第一旋转磁体与所述第二旋转磁体磁性耦合，旋转驱动马达驱动所述第一旋转磁体转动，并带动所述第二旋转磁体进行转动，进而带动所述支架柱能够绕所述排气柱进行转动。 其中，所述排气柱贯穿所述气相沉积室设置，所述第一旋转磁体和所述第二旋转磁体分别转动承座于所述排气柱上且能够绕所述排气柱进行转动。 其中，所述排气柱贯穿设置于所述气相沉积室的底壁上且沿竖直方向延伸，所述支架柱沿所述竖直方向嵌套至所述排气柱外侧且承座于所述第二旋转磁体上。 其中，所述气相沉积室的顶部上设置有开口，所述支架可通过所述开口放置于所述气相沉积室中或者从所述气相沉积室中取出。 为解决上述技术问题，本技术提供的另一个技术方案是:提供一种用于真空镀膜设备的数据线支架，所述数据线支架包括多个支架接头，所述支架接头与所述数据线的数据线接头适配且能够彼此接插固定，进而将所述数据线设置于所述真空镀膜设备的气相沉积室内。 本技术的有益效果是:区别于现有技术，提供一种真空镀膜设备及数据线支架，通过与数据线结构配套的设计，从而能够对数据线实行批量真空镀膜，提高数据线真空纳米镀膜的效率以及镀膜效果，而且在镀膜过程中还能保护数据线接头部分。 【附图说明】 图1是本技术实施例提供的一种真空镀膜设备的结构示意图； 图2是本技术实施例提供的一种真空镀膜设备的排气柱的结构示意图； 图3是本技术实施例提供的一种真空镀膜设备的支架柱的结构示意图； 图4是本技术实施例提供的另一种真空镀膜设备的结构示意图；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜设备，用于对数据线进行真空镀膜，所述数据线一端设置有第一数据线接头，其特征在于，所述真空镀膜设备包括气相沉积室以及设置于所述气相沉积室内的支架，所述支架包括多个第一支架接头，所述第一支架接头能够与所述第一数据线接头适配且彼此接插固定，进而将所述数据线设置于所述气相沉积室内。

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备，用于对数据线进行真空镀膜，所述数据线一端设置有第一数据线接头，其特征在于，所述真空镀膜设备包括气相沉积室以及设置于所述气相沉积室内的支架，所述支架包括多个第一支架接头，所述第一支架接头能够与所述第一数据线接头适配且彼此接插固定，进而将所述数据线设置于所述气相沉积室内。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述支架进一步包括支架柱以及多个第一支撑杆，所述多个第一支撑杆设置于所述支架柱上且沿所述支架柱的径向方向放射状延伸，所述第一支架接头间隔设置于所述第一支撑杆上。3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一支撑杆上间隔设置有多个第一卡槽，所述第一支架接头固定于所述第一卡槽内。4.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述数据线的另一端设置有第二数据线接头，所述支架进一步包括多个第二支架接头以及多个第二支撑杆，所述多个第二支撑杆沿所述支架柱的轴向方向相对于所述第一支撑杆间隔设置于所述支架柱上且沿所述支架柱的径向方向放射状延伸，所述第二支架接头间隔设置于所述第二支撑杆上，所述第二支架接头与所述第二数据线接头适配且能够彼此接插固定，进而将所述数据线设置于所述第一支撑杆和所述第二支撑杆之间。5.根据权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二支撑杆上间隔设置有多个第二卡槽，所述第二支架接头固定于所述第二卡槽内。6.根据权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一支架接头和所述第二支架接头对称设置，以使得设置于所述第一支撑杆和所述第二支撑杆之间的所述数据线平行于所述支架柱的轴向方向。7.根据权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一支撑杆和所述第二支撑杆中的至少一者沿所述支架柱的轴向方向的位置可调，进而使得所述第一支撑杆与所述第二支撑杆沿所述支架柱的轴向方向的间距可调。8.根据权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述支架进一步包括第一主支撑环和第二主支撑环，所述第一主支撑环和所述第二主支撑环分别与所述支架柱嵌套设置且沿所述支架柱的轴向方向间隔固定于所述支架柱上，所述第一支撑杆包括多个第一主支撑杆，所述多个第一主支撑杆设置于所述第一主支撑环上且向所述第一主支撑环的外侧放射状延伸，所述第二支撑杆包括多个第二主支撑杆，所述多个第二主支撑杆设置于所述第二主支撑环上且向所述第二主支撑环的外侧放射状延伸。9.根据权利要求8所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述支架进一步包括第一辅支撑环、第二辅支撑环、多个第一辅支撑杆和多个第二辅支撑杆，所述第一辅支撑环设置于所述第一主支撑杆上且沿所述支架柱的径向方向与所述第一主支撑环间隔嵌套设置，所述多个第一辅支撑杆设置于所述第一辅支撑环上且向所述第一辅支撑环的外侧放射状延伸，所述第二辅支撑环设置于所述第二主支撑杆上且沿所述支架柱的径向方向与所述第二主支撑环间隔嵌套设置，所述多个第二辅支...

【专利技术属性】
技术研发人员：文洁，何自坚，
申请(专利权)人：深圳市大富精工有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44