本实用新型专利技术涉及一种基板搬运机械手和真空反应腔以及包含上述基板搬运机械手的基板处理系统。所述基板搬运机械手,用于向真空反应腔传输面积大于0.8m2的基板,所述基板搬运机械手包括承载臂,所述承载臂前端的下表面处设置有滚动导引装置。所述滚动导引装置可以引导所述搬运机械手向真空反应腔内移动,有效的避免了基板前端与反应腔底板的擦碰。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及太阳能电池、平板显示等领域,尤其涉及一种基板搬运机械手和真空反应腔,以及包含上述基板搬运机械手的基板处理系统。
技术介绍
图1所示为工业上太阳能电池或平板显示等领域中常见的一种真空处理设备结构,其包括了基板装载台1、基板卸载台2、真空处理腔室3、真空传输腔室4和搬运装置,其中:搬运装置设置在所述真空传输腔室4内,用于将基板从基板装载台1搬运到真空处理腔室3内以进行反应处理,处理结束后再将基板从真空处理腔室3搬运到基板卸载台2。所述搬运装置包括:转台5、滑轨6和搬运机械手7,其中:所述滑轨6位于所述转台5上,所述搬运机械手7位于所述滑轨6上,所述搬运机械手7沿滑轨6进行滑动以执行所述搬运动作,所述转台5用于旋转所述搬运机械手7以配合所述搬运动作。如今,工业上为了提高产能,人们试图尽量采用大尺寸的基板在真空反应腔中进行工艺处理,这必然涉及到大尺寸基板(面积大于0.8m2)在大气与腔室以及腔室与腔室之间的基板传输,而基板尺寸的增加意味着其质量也必定增加。例如,对于常见的一种1.1m*1.3m的薄膜太阳能电池的玻璃基板而言,其质量也达到12kg左右。当机械手承载和传输这样的基板时,基板容易发生形变,悬垂的前端部分将会产生一定的下垂量。特别是当基板在传输过程中,如果基板运动速度较快时难免出现抖动现象,使基板的下垂量变得更大。另一方面,工业上为了追求薄膜的沉积速率,通常会尽量减小真空处理腔室内的反应区间隙,例如对于PECVD(等离子增强型化学气相沉积)腔室而言,反应区间隙的厚度多控制在15~20mm范围内,这样,在很窄的空间中搬运有一定下垂量的大质量大尺寸基板,很容易使得基板前端碰撞到腔体底部,造成基板破碎或腔体底部受损。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种基板搬运机械手和真空反应腔以及包含上述搬运机械手的基板处理系统,以解决现有技术中搬运机械手向空间狭窄的反应腔内搬运大面积、大重量的基板时,基板前端容易与反应腔底板发生碰撞的问题。本技术提供的基板搬运机械手,用于向真空反应腔传输面积大于0.8m2的基板,所述基板搬运机械手包括承载臂,所述承载臂前端的下表面处设置有滚动导引装置,所述滚动导引装置用于将所述基板搬运机械手向真空反应腔内导引所述基板搬运机械手向真空反应腔搬运基板时,所述滚动导引装置可以引导所述基板搬运机械手向真空反应腔内移动,减少基板搬运机械手和反应腔底板的摩擦力,且能对机械手起到支撑作用,补偿基板前端的下垂量,从而有效的避免了基板前端与真空反应腔底板的擦碰。优选的,所述滚动导引装置为滚轮装置。优选的,所述滚轮装置包括滚轮轮体和轮轴,所述滚轮轮体与轮轴间构成滚动轴承式配合。相应的,本技术还提供了一种基板处理系统,所述基板处理系统包括对基板进行处理的真空反应腔和向真空反应腔传输基板的搬运装置,所述搬运装置包括上述的基板搬运机械手。优选的,所述真空反应腔包括反应腔上板和反应腔底板,所述反应腔底板的上表面具有水平面和方向向下的斜面,所述斜面用于配合所述滚动导引装置将所述基板搬运机械手向真空反应腔内导引。优选的,所述搬运装置设置于真空环境中。相应的,本技术还提供了一种真空反应腔,用于对基板进行处理,所述真空反应腔包括反应腔上板和反应腔底板,所述反应腔底板上设置有滚动导引装置,所述滚动导引装置用于将进入所述真空反应腔的物体向真空反应腔内部导引。本技术总的专利技术思想是提供一种滚动导引装置,导引所述基板搬运机械手向真空反应腔内移动,减少基板搬运机械手和反应腔底板的摩擦力,且能对基板搬运机械手起到支撑作用,补偿基板前端的下垂量。相对于在基板搬运机械手前端下表面设置所述滚动导引装置的方案,在反应腔底板上设置所述滚动导引装置,同样能实现上述目的,从而有效的避免基板前端与反应腔底板的擦碰。优选的,所述滚动导引装置为滚轮装置。优选的,所述滚轮装置包括滚轮轮体和轮轴,所述滚轮轮体与轮轴间构成滚动轴承式配合。优选的,所述反应腔底板上还设有若干升降销,所述滚动导引装置设置于所述升降销顶部。与现有技术相比,本技术有效的解决了基板前端容易与反应腔底板发生擦碰的问题。附图说明图1是现有技术中真空处理设备示意图;图2是本技术基板搬运机械手的一个实施例的示意图;图3是本技术的基板处理系统的一个实施例的示意图。具体实施方式以下将结合附图所示的具体实施例对本专利技术进行详细描述。本技术提供的基板搬运机械手主要用于向真空反应腔传输面积大于0.8m2的基板(太阳能电池板或者平板显示板)。其中,所述基板搬运机械手可以位于真空的环境中,也可以位于非真空的环境中。在本技术提供的基板搬运机械手的一个实施例中,所述基板搬运机械手包括承载臂,所述基板搬运机械手还包括滚动导引装置,所述滚动导引装置设置于所述承载臂前端的下表面上。所述基板搬运机械手向真空反应腔搬运基板时,所述滚动导引装置可以引导所述基板搬运机械手向真空反应腔内移动,减少基板搬运机械手和反应腔底板的摩擦力,且能对基板搬运机械手起到支撑作用,补偿基板前端的下垂量,从而有效的避免了基板前端与反应腔底板的擦碰。在基板搬运机械手的某些优选的实施例中,所述滚动导引装置为滚轮装置。在其中一些实施例中所述滚轮装置采用带有轴承的滚轮轴承,所述滚轮装置包括滚轮轮体和轮轴,所述滚轮轮体与轮轴间构成滚动轴承式配合,例如滚珠轴承和滚针轴承等。图2和图3给出了该具体实施例的示意图。如图2所示,所述滚轮轴承102设置在承载臂101前端的下表面上。采用滚轮轴承安装比较方便,图2和图3示出了所述滚轮轴承102和承载臂101的连接方式,首先用联接螺丝104将L型连接条103和承载臂101固定,然后再把滚轮轴承102固定在L型连接条103上。由于滚轮轴承和板状物体的连接已经是比较成熟的技术,现有技术中还有一些其它连接方式,在此不在赘述。无论采取何种连接方式,只要是将滚轮轴承设置于搬运机械手前端的下表面的方案都将落入本技术的保护范围。在其它一些实施例中,所述滚轮装置采用非轴承式的普通滚轮。普通滚轮与机械手的连接方式,由于也属于成熟技术,在此也不再赘述。需要说明的是,本技术提供的基板搬运机械手并不限制所述滚轮装置的数量,所述滚轮装置可以为一个或多个,本技术也并不限制所述滚轮装置在所述承载臂前端下表面上的具体位置,所述滚轮装置本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基板搬运机械手,用于向真空反应腔传输面积大于0.8m2的基板,所述基板搬运机械手包括承载臂,其特征在于,所述承载臂前端的下表面处设置有滚动导引装置,所述滚动导引装置用于将所述基板搬运机械手向真空反应腔内导引。
【技术特征摘要】
1.一种基板搬运机械手,用于向真空反应腔传输面积大于0.8m2的基板,
所述基板搬运机械手包括承载臂,其特征在于,所述承载臂前端的下表面处设
置有滚动导引装置,所述滚动导引装置用于将所述基板搬运机械手向真空反应
腔内导引。
2.根据权利要求1所述的基板搬运机械手,其特征在于,所述滚动导引装
置为滚轮装置。
3.根据权利要求2所述的基板搬运机械手,其特征在于,所述滚轮装置包
括滚轮轮体和轮轴,所述滚轮轮体与轮轴间构成滚动轴承式配合。
4.一种基板处理系统,包括对基板进行处理的真空反应腔和向真空反应腔
传输基板的搬运装置,其特征在于:所述搬运装置包括权利要求1至3中任意
一项所述的基板搬运机械手。
5.根据权利要求4所述的基板处理系统,其特征在于:所述真空反应腔包
括反应腔上板和反应腔底板,所述反应腔底板的上表面具有水平面和方向...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨飞云,胡宏逵,
申请(专利权)人:上海理想万里晖薄膜设备有限公司,理想能源设备上海有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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