本发明专利技术公开了一种SOI工艺的静电保护结构，在绝缘衬底硅上设有一硅控整流器，衬底上方有一场氧化绝缘埋层，场氧化绝缘埋层上方有淀积一层硅体，硅体从左到右分别依次设有P型阱、第一N型扩散区和N型阱，在P型阱和N型阱上方分别设有多晶硅栅，P型阱左侧具有呈相间排列的第二P型扩散区和第二N型扩散区，N型阱的右侧具有呈相间排列的第三P型扩散区和第三N型扩散区；所有第二P型扩散区和第二N型扩散区通过连线连接作为接地端，所有第三P型扩散区和第三N型扩散区通过连线连接作为静电进入端。本发明专利技术还公开了一种由所述静电保护结构构成的静电保护电路。本发明专利技术的静电保护结构能在SOI工艺上实现硅控整流器结构提升静电保护器件泄放电流能力。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种SOI工艺的静电保护结构，在绝缘衬底硅上设有一硅控整流器，衬底上方有一场氧化绝缘埋层，场氧化绝缘埋层上方有淀积一层硅体，硅体从左到右分别依次设有P型阱、第一N型扩散区和N型阱，在P型阱和N型阱上方分别设有多晶硅栅，P型阱左侧具有呈相间排列的第二P型扩散区和第二N型扩散区，N型阱的右侧具有呈相间排列的第三P型扩散区和第三N型扩散区；所有第二P型扩散区和第二N型扩散区通过连线连接作为接地端，所有第三P型扩散区和第三N型扩散区通过连线连接作为静电进入端。本专利技术还公开了一种由所述静电保护结构构成的静电保护电路。本专利技术的静电保护结构能在SOI工艺上实现硅控整流器结构提升静电保护器件泄放电流能力。【专利说明】SOI工艺的静电保护结构及其构成的静电保护电路
本专利技术涉及半导体制造领域，特别是涉及一种用于SOI工艺的静电保护结构。本专利技术还涉及一种有所述用于SOI工艺的静电保护结构构成的静电保护电路。
技术介绍
静电是一种客观的自然现象，产生的方式多种，如接触、摩擦、电器间感应等。静电的特点是长时间积聚、高电压、低电量、小电流和作用时间短的特点。静电在至少两个领域造成严重危害。摩擦起电和人体静电是电子工业中的两大危害，常常造成电子电器产品运行不稳定，甚至损坏。ESD是20世纪中期以来形成的以研宄静电的产生、危害及静电防护等的学科，国际上习惯将用于静电防护的器材统称为ESD。 硅控整流器(SCR)具有触发电压可调ESD保护能力强和面积小的优点。在实际应用中，硅控整流器比金属-氧化物-半导体场效应管有着更强的静电泄放能力，在同等条件下，硅控整流器的静电泄放能力是MOSFET的5?7倍。不过硅控整流器开启后位置电压(骤回电压)比较低，被意外出发后闩锁的风险较大，因此一般不会被单独选作ESD保护器件，特别是不能作为电源和地之间的ESD保护器件。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是在SOI (SiIicon-On-1nsulator,绝缘衬底上的娃)工艺上实现硅控整流器结构提升静电保护器件泄放电流的能力。 为解决上述技术问题，本专利技术的SOI工艺的静电保护结构，在绝缘衬底硅上设有一硅控整流器，该静电保护结构包括: 衬底上方有一场氧化绝缘埋层，场氧化绝缘埋层上方有淀积一层硅体，硅体从左到右分别依次设有P型阱、第一 N型扩散区和N型阱，在P型阱和N型阱上方分别设有多晶硅栅，P型阱左侧具有呈相间排列的第二 P型扩散区和第二 N型扩散区，N型阱的右侧具有呈相间排列的第三P型扩散区和第三N型扩散区； 所有第二 P型扩散区和第二 N型扩散区通过连线连接作为接地端，所有第三P型扩散区和第三N型扩散区通过连线连接作为静电进入端。 进一步改进，第一 N型扩散区位于P型阱和N型阱之间的场氧化绝缘埋层上方。 进一步改进，第一 N型扩散区位于P型阱和N型阱上方，P型阱和N型阱在第一 N型扩散区下方相切，将第一 P型扩散区与场氧化绝缘埋层隔离。 进一步改进，硅体从左到右分别依次设有P型阱、第一 P型扩散区和N型阱(在P型阱和N型阱之间设有第一 P型扩散区)。 进一步改进，第一 P型扩散区位于P型阱和N型阱之间的场氧化绝缘埋层上方。 进一步改进，第一 P型扩散区位于P型阱和N型阱上方，P型阱和N型阱在第一 P型扩散区下方相切，将第一 P型扩散区与场氧化绝缘埋层隔离。 一种静电保护电路，包括上述任意一种SOI工艺静电保护结构，所述SOI工艺静电保护结构的静电进入端连接输入输出焊垫和内部电路的一端，所述SOI工艺静电保护结构的接地端连接地和内部电路的另一端。 以具有第一 N型扩散区的器件结构为例说明本专利技术工作原理:当有静电进入时，N型阱和P型阱之间的第一 N型扩散区与P型阱形成的NP结发生击穿，导致P型阱的电位抬高，N型阱的电位拉低。当P型阱的电位抬高达到高于接地的第二 N型扩散区0.7V时，由第一 N型扩散区、P型阱和第二 N型扩散区组成的NPN会处于放大区；当N型阱的电位被拉低达到低于于静电端的第三P型扩散区0.7V时，由第三P型扩散区、N型阱和P型阱组成的PNP也会处于放大区。当NPN和PNP同时开启形成正反馈，在静电进入端和地之间形成一低阻通道，能泄放静电电流。 【专利附图】【附图说明】 下面结合附图与【具体实施方式】对本专利技术作进一步详细的说明: 图1是本专利技术SOI工艺静电保护结构第一实施例的剖面示意图。 图2是本专利技术SOI工艺静电保护结构第一实施例的平面示意图。 图3是本专利技术SOI工艺静电保护结构第二实施例的剖面示意图。 图4是本专利技术SOI工艺静电保护结构第三实施例的剖面示意图。 图5是本专利技术SOI工艺静电保护结构的等效电路图。 图6是本专利技术静电保护电路的结构示意图。 附图标记 N+1是第一 N型扩散区 N+2是第二 N型扩散区 N+3是第三N型扩散区 P+1是第一 P型扩散区 P+2是第二 P型扩散区 P+3是第三P型扩散区 Poly是多晶硅栅 BOX是场氧化埋层 Substrate 是衬底 PW是P型阱 NW是N型阱 Rnw是N型阱等效电阻 Rpw是P型阱等效电阻 【具体实施方式】 如图1配合图2所示，本专利技术第一实施例，在绝缘衬底硅上设有一硅控整流器，该静电保护结构包括: 衬底上方有一场氧化绝缘埋层，场氧化绝缘埋层上方有淀积一层硅体，硅体从左到右分别依次设有P型阱、第一 N型扩散区和N型阱，在P型阱和N型阱上方分别设有多晶硅栅，P型阱左侧具有呈相间排列的第二 P型扩散区和第二 N型扩散区，N型阱的右侧具有呈相间排列的第三P型扩散区和第三N型扩散区； 所有第二 P型扩散区和第二 N型扩散区通过连线连接作为接地端Low，所有第三P型扩散区和第三N型扩散区通过连线连接作为静电进入端High。 本专利技术第二实施例，其与第一实施例总体结构相同，区别在于:第一 N型扩散区位于P型阱和N型阱之间的场氧化绝缘埋层上方。 本专利技术第三实施例，其与第一实施例总体结构相同，区别在于:第一 N型扩散区位于P型阱和N型阱上方，P型阱和N型阱在第一 N型扩散区下方相切，将第一 P型扩散区与场氧化绝缘埋层隔离。 如图3所示，本专利技术第四实施例，衬底上方有一场氧化绝缘埋层，场氧化绝缘埋层上方有淀积一层硅体，硅体从左到右分别依次设有P型阱、第一 N型扩散区和N型阱，在P型阱和N型阱上方分别设有多晶硅栅，P型阱左侧具有呈相间排列的第二 P型扩散区和第二N型扩散区，N型阱的右侧具有呈相间排列的第三P型扩散区和第三N型扩散区；所有第二P型扩散区和第二 N型扩散区通过连线连接作为接地端Low，所有第三P型扩散区和第三N型扩散区通过连线连接作为静电进入端High。 本专利技术第五实施例，其与第四实施例总体结构相同，区别在于:第一 P型扩散区位于P型阱和N型阱之间的场氧化绝缘埋层上方。 如图4所示，本专利技术第六实施例，其与第四实施例总体结构相同，区别在于:第一 P型扩散区位于P型阱和N型阱上方，P型阱和N型阱在第一 P型扩散区下方相切，将第一 P型扩散区与场氧化绝缘埋层隔离。 如图6所示，静电保护电路的一实施，可以包括上述SOI工艺的静电保护结构本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种SOI工艺的静电保护结构，在绝缘衬底硅上设有一硅控整流器，其特征是，该静电保护结构包括：衬底上方有一场氧化绝缘埋层，场氧化绝缘埋层上方有淀积一层硅体，硅体从左到右分别依次设有P型阱、第一N型扩散区和N型阱，在P型阱和N型阱上方分别设有多晶硅栅，P型阱左侧具有呈相间排列的第二P型扩散区和第二N型扩散区，N型阱的右侧具有呈相间排列的第三P型扩散区和第三N型扩散区；所有第二P型扩散区和第二N型扩散区通过连线连接作为接地端，所有第三P型扩散区和第三N型扩散区通过连线连接作为静电进入端。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：苏庆，
申请(专利权)人：上海华虹宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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