抗电磁波干扰合金薄膜的靶材制造技术

本发明专利技术提供了一种抗电磁波干扰合金薄膜的靶材。该抗电磁波干扰合金薄膜的靶材是以熔炼的方式将合金主要组成熔炼在一靶上，主要合金包含：59wt％-97wt％的锌，3wt％-40wt％的铝，及0.005-1wt％的变质剂，其中所述变质剂选自由Zn、Al、Ti、C、B、N、Zr、Cr及其任意组合所组成的群组。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于一种溅镀靶，特别是指一种抗电磁波干扰合金薄膜的靶材。
技术介绍
塑料机壳虽然质感不如金属机壳，但由于其具有相对质轻、可以以射出法一体成型，此外，塑料机壳质感可以透过镀上金属薄膜加以改善，而且塑料机壳与金属机壳CP值相比，塑料机壳要便宜许多，因此，在已知的3C产品中，塑料机壳一直占有一席之地。特别是当3C产品市场属性归类为中低阶时，塑料机壳市占比就愈高。塑料机壳除了上述质感不如金属机壳，需要透过金属镀膜改善外，另一缺点是电磁波可以穿透塑料机壳，因此，作为3C产品的机壳，需要通过电磁波防护膜来克服。为避免后续工法增加成本，减损其对金属机壳的竞争力，最简单的方式是直接镀上电磁波防干扰膜，同时也可增加金属质感。现有技术中，铜镀膜再加一不锈钢膜是一选项，铜镀膜具有低电阻性，不锈钢膜可以防止氧化铜生成。不过铜对塑料附着性不是那么好，在2010年的申请号为99142728的中国台湾专利中提出以铝和锌相互镶嵌的复合式溅镀靶，其中一实施例中，金属层的材料属于非铁磁性的材料，选择自铝、钛、锌、铬及其任意组合的群组。这些材料都具有一种共同特性，就是在成膜之后会自发性的在金属层表面形成致密的氧化层，金属层的材料可以选自铝、钛、锌、铬及其任意组合所组成的群组中的一种。或者选自铜锡合金、铜锌合金或铜铝合金，厚度大约为100nm至1500nm。其中，当金属层材料为合金时，所选用的靶材形成两种纯金属相互镶嵌的复合式溅镀靶。并且，若以锌或锌合金作为金属层材料时，在溅镀时，将锌或锌合金靶加热至大约150至300℃，以提高溅镀率。在其中的一实施例中，锌合金以锌为主，添加3至50重量百分比的铝、铬、钛、铜及其任意组合所形成的群组中的一种，而其中又以金属层的材料是锌铝合金为最佳。在另一实施例中，以铝钛合金或铝铬合金作为电磁波防护层，钛或铬可增加附着于塑料外壳的附着力。上述的专利申请案中，溅镀使用的合金靶是镶嵌式复合靶材。其中一较佳实施例可参照图1及图2，镶嵌式复合靶材选择第一金属材料30作为基材，将基材的被溅镀面挖出至少一孔洞300，并将一第二金属材料31紧配嵌入于孔洞300中，形成两种纯金属相互镶嵌的复合式溅镀靶。第二金属材料31也可以螺丝或者其他锁固机构锁附于第一金属材料30，结合成一靶材。上述的镶嵌式复合靶材的制作工艺复杂，且得引导电浆轰击目标区域，因此，增加控制设备的复杂度。综上所述，提供一种制作工艺更简单且在制作过程中无需引导电浆轰击目标区域的靶材材料及其制备方法成为一种需要。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种抗电磁波干扰合金薄膜的靶材及其制备方法。该靶材选取预定比例的两种金属的组成，直接以熔炼法制成。不必刻意让电浆轰击预定部位，为避免熔炼过程导致树枝状晶的生成，而加入变质剂。本专利技术的抗电磁波干扰合金薄膜的靶材，靶材是以熔炼的方式将合金主要组成熔炼在一靶上，其至少包含：59wt％-97wt％的锌(Zn)，3wt％-40wt％的铝(Al)，及0.005wt％-1wt％的变质剂，其中，所述变质剂包含铝(Al)、钛(Ti)、碳(C)，钛占所述变质剂的0.8wt％-25wt％、碳占所述变质剂的0.01wt％-3wt％，所述变质剂中其余为铝。在本专利技术提供的抗电磁波干扰合金薄膜的靶材中，优选地，采用的变质剂还包含硼，硼与碳以碳化硼(B4C)呈现，所述碳化硼占所述变质剂的0.1wt％-7wt％。在另一实施例中，变质剂中以氮替代碳，硼与氮以氮化硼(B4N)呈现，所述氮化硼占所述变质剂的0.05wt％-6wt％。本专利技术提供了一种抗电磁波干扰合金薄膜的靶材，该靶材是以熔炼的方式将合金主要组成熔炼在一靶上，其至少包含：59wt％-97wt％的锌(Zn)，3wt％-40wt％的铝(Al)，及0.005wt％-1wt％的变质剂，其中，该变质剂包含锌(Zn)、钛(Ti)，钛占该变质剂的2wt％-10wt％，所述变质剂中其余为锌。在本专利技术提供的抗电磁波干扰合金薄膜的靶材中，优选地，上述的变质剂中铝占所述变质剂的2.94wt％-40wt％，而使得钛占所述变质剂的4wt％-16wt％，所述变质剂中其余为锌。在本专利技术提供的抗电磁波干扰合金薄膜的靶材中，优选地，上述的变质剂还包含铝、硼及氮，铝占所述变质剂的30wt％-60wt％，而使得钛占所述变质剂的0.005wt％-6wt％，所述硼与氮以氮化硼呈现，所述氮化硼(B4N)占所述变质剂的0.0025wt％-3wt％，所述变质剂中其余为锌。本专利技术提供了一种抗电磁波干扰合金薄膜的靶材，该靶材是以熔炼的方式将合金主要组成熔炼在一靶上，其至少包含：59wt％-97wt％的锌，3wt％-40wt％的铝，及0.005wt％-1wt％的变质剂，其中，所述变质剂包含锌(Zn)、锆(Zr)，锆占所述变质剂的0.01wt％-17wt％，所述变质剂中其余为锌。本专利技术提供了一种抗电磁波干扰合金薄膜的靶材，该靶材是以熔炼的方式将合金主要组成熔炼在一靶上，其至少包含：59wt％-97wt％的锌，3wt％-40wt％的铝，及0.005wt％-1wt％的变质剂，其中，所述变质剂包含铝(Al)、锌(Zn)、铬(Cr)，其中铝占所述变质剂的8wt％-50wt％，铬占所述变质剂的0.01wt％-16wt％，所述变质剂中其余为锌。根据本专利技术的具体实施方案，优选地，所述的变质剂的添加是在熔炼的过程中加入的。本专利技术提供的抗电磁波干扰合金薄膜的靶材具有如下优点：本专利技术提供的靶材材料中，已将预定的靶材主成分锌及铝包含于其中，熔炼过程中添加变质剂，变质剂有助于抑制靶材结晶过程中的晶粒粗大化；在本专利技术提供的靶材材料中，靶材主成分锌及铝包含于其中，利用靶材被溅镀时合金主成分的溅射率的差异性(锌的被溅射率高，铝相对低很多)在初期所施加于阴极靶的电压利于锌被溅射，后期则利于铝被溅射，这样使得溅镀膜的表面易生成氧化铝，又可保有预定的溅镀产能；本专利技术提供的靶材已将预定的两种主要目的金属熔炼于一靶材，不必刻意引导电浆团于目标位置，使得溅控控制更为简化。附图说明图1为第二金属镶嵌于靶材基地的复合靶的示意图；图2为第二金属镶嵌于靶材基地的复合靶的另一示意图。主要附图符号说明30第一金属材料  300孔洞  31第二金属材料具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文依本专利技术设计的磁控靶材的一较佳实施例，并配合所附相关图式，作详细说明如下。本专利技术的靶材主要本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗电磁波干扰合金薄膜的靶材，该靶材是以熔炼的方式将合金主要组成熔炼在一靶上，其至少包含：59wt％‑97wt％的锌，3wt％‑40wt％的铝，及0.005wt％‑1wt％的变质剂，其中所述变质剂包含铝、钛、碳，钛占所述变质剂的0.8wt％‑25wt％、碳占所述变质剂的0.01wt％‑3wt％，所述变质剂中其余为铝。

【技术特征摘要】
2013.09.24 TW 1021344071.一种抗电磁波干扰合金薄膜的靶材，该靶材是以熔炼的方式将合金主要组成
熔炼在一靶上，其至少包含：
59wt％-97wt％的锌，3wt％-40wt％的铝，及0.005wt％-1wt％的变质剂，其中所述
变质剂包含铝、钛、碳，钛占所述变质剂的0.8wt％-25wt％、碳占所述变质剂的
0.01wt％-3wt％，所述变质剂中其余为铝。
2.根据权利要求1所述的抗电磁波干扰合金薄膜的靶材，其中，所述的变质剂
还包含硼，所述硼与碳以碳化硼呈现，所述碳化硼占所述变质剂的0.1wt％-7wt％。
3.根据权利要求1所述的抗电磁波干扰合金薄膜的靶材，其中，所述的变质剂
中以氮替代碳，硼与所述氮以氮化硼呈现，所述氮化硼占所述变质剂的
0.05wt％-6wt％。
4.一种抗电磁波干扰合金薄膜的靶材，该靶材是以熔炼的方式将合金主要组成
熔炼在一靶上，其至少包含：
59wt％-97wt％的锌，3wt％-40wt％的铝，及0.005wt％-1wt％的变质剂，其中，所
述变质剂包含锌、钛，钛占所述变质剂的2wt％-10wt％，所述变质剂中其余为锌。
5.根据权利要求4所述的抗电磁波干扰合金薄膜的...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑兆希，
申请(专利权)人：兆阳真空动力股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71