取代的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺化合物及其作为除草剂的用途制造技术

式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。本发明专利技术涉及式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。在所述式(I)中，B表示N或CH，而R、R1、R2、R3、R4和R5表示诸如氢、卤素或有机基团如烷基或苯基的基团。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。本专利技术涉及式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。在所述式(I)中，B表示N或CH，而R、R1、R2、R3、R4和R5表示诸如氢、卤素或有机基团如烷基或苯基的基团。【专利说明】取代的N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺 化合物及其作为除草剂的用途 本专利技术涉及取代的N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺化合物 及其N-氧化物和盐以及包含这些的组合物。本专利技术还涉及N-(四唑-5-基）-和N-(三 唑-5-基）芳基羧酰胺化合物或包含该类化合物的组合物在防治不希望的植物中的用途。 此外，本专利技术涉及施用该类化合物的方法。 为了防治不希望的植物，尤其是在作物中防治不希望的植物，持续需要具有高活 性和选择性以及不对人类和动物具有显著毒性的新型除草剂。 WO 2011/035874描述了在苯基环的2-、3_和4-位带有3个取代基的 Ν-α，2, 5- 5恶二唑-3-基）苯甲酰胺类及其作为除草剂的用途。 WO 2012/028579描述了在芳基环的2-、3_和4-位带有3个取代基的N-(四 唑-4-基）-和N-(三唑-3-基）芳基羧酸酰胺及其作为除草剂的用途。 现有技术的化合物通常尤其在低施用率下除草活性不足和/或选择性并不令人 满意，导致与农作物的相容性低。 因此，本专利技术的目的是要提供尤其甚至在低施用率下具有强除草活性、对人类和 动物足够低的毒性和/或与农作物的高相容性的其他N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基） 芳基羧酰胺化合物。N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺化合物还应对大量 不同的不希望植物显示出宽活性谱。 这些和其他目的由下面所定义的式I化合物及其N-氧化物以及还有其可农用盐 实现。 已经发现上述目的可以通过下面所定义的通式I的取代的N-(四唑-5-基）_和 N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺化合物一包括其N-氧化物及其盐，尤其是其可农用盐实现。 因此，在第一方面本专利技术涉及式I化合物或其N-氧化物或可农用盐：【权利要求】1.式I的N-(四哇-5-基）-和N-( H哇-5-基）芳基駿醜胺、其N-氧化物或可农用 盐：其中 B为N或CH ; R选自氨、Q-Ce焼基、C 3-C7环焼基、C 3-C7环焼基-C 焼基，其中两个自U述基团中的 C3-C,环焼基未被取代或部分或完全被团代，Ci-Ce团代焼基、C2-Ce链帰基、C2-Ce团代链帰 基、C2-Ce快基、C 2-Ce团代快基、C 1-C4焼氧基-C 1-C4焼基、C 1-C4团代焼氧基-C 1-C4焼基、 Rb-S (0) n-Ci-Cs焼基、R e-C ( = 0) -C1-C3焼基、R d〇-C ( = 0) -C1-C3焼基、R 6RfN-C ( = 0) -C1-C3 焼基、RSRhN-Ci-Cs焼基、苯基-Z和杂环基-Z，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自0、N和S 的杂原子作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其 中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R'取代； Ri选自氯基-Z 1、团素、硝基、Ci-Cs焼基、C 2-Cs链帰基、C 2-Cs快基、C i-Cs团代焼基、C i-Cs 焼氧基、C1-C4焼氧基-C 1-C4焼基、C 1-C4焼氧基-C 1-C4焼氧基-Z 焼硫基-C 1-C4焼基、 C1-C4焼硫基-C 1-C4焼硫基-Z 1、C2-C絶帰氧基、C 2-Ce快氧基、C 1-Q团代焼氧基、C 1-C4团代 焼氧基-C1-C4焼基、C 团代焼氧基-C 焼氧基-Z 1、Rib-S (0) k-Z\苯氧基-Zi和杂环氧 基-Zi，其中杂环氧基为含有1、2、3或4个选自0、N和S的杂原子作为环成员的氧键合的5 或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯氧基和杂环氧基中的 环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团r取代； R2、R3相同或不同且独立地选自氨、团素、0H-Z2、N02-Z 2、氯基-Z2、Ci-Ce焼基、C2-Cs链 帰基、C2-Cs快基、C 3-Ci。环焼基-Z 2、C3-Ci。环焼氧基-Z 2,其中两个前述基团中的C3-C1。环焼 基未被取代或部分或完全被团代，Ci-Cs团代焼基、C i-Cs焼氧基-Z 2、Ci-Cs团代焼氧基-Z 2、 C1-C4焼氧基-C 1-C4焼氧基-Z 2、Ci-C4焼硫基-C 1-C4焼硫基-Z 2、C2-Cs链帰氧基-Z 2、C2-Cs快 氧基团代链帰氧基-Z 团代快氧基-Z 团代焼氧基-C 焼氧基-Z 2、 (H -C1-C4焼基）甲娃焼基-Z 2、R2b-S 做 k-Z2、r2c-C ( = 0) -Z2、R2d〇-C ( = 0) -Z2、R26R2fN-C (= 0)-Z2、R2SR2hN-z2、苯基-z 2。和杂环基-z%其中杂环基为含有1、2、3或4个选自〇、N和s的 杂原子作为环成员的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环， 其中苯基-Z2a和杂环基-Z2a中 的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R2i取代； R4选自氨、团素、氯基、硝基、C 1-C4焼基和C 1-C4团代焼基； R5选自氨、团素、C 1-C4焼基和C 1-C4团代焼基； 条件是基团R4和R 5中至少一个不为氨； n为0、1或2 ; k为0、1或2 ;R'、Rii、R2喘互独立地选自团素、NO 2、CN、Ci-Ce焼基、C 3-C郝焼基、C 3-C7团代环焼基、 Ci-Ce团代焼基、C 2-Ce链帰基、C 2-Ce团代链帰基、C 2-Ce快基、C 2-Ce团代快基、C i-Ce焼氧基、 C1-C4焼氧基-c 1-C4焼基、C 1-C4焼硫基-c 1-C4焼基、C 1-C4团代焼氧基-c 1-C4焼基、C 1-C4焼 氧基-C1-C4焼氧基、C 3-C7环焼氧基和C 1-Ce团代焼氧基，或者两个连位基团R'、R "或R U- 起可W形成基团=0; Z、Z\ Z2相互独立地选自共价键和C 1-C4链焼二基； Z2a选自共价键、C 1-C4链焼二基、0-C 1-C4链焼二基、C 1-C4链焼二基-0和C 1-C4链焼二 基-0-C1-C4链焼二基； Rb、Rib、R2b相互独立地选自C 1-Ce焼基、C 3-C7环焼基、C 1-Ce团代焼基、C 2-Ce链帰基、C 2-Ce 团代链帰基、C2-Ce快基、C 2-Ce团代快基、苯基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选 自0、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基 和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自团素、C1-C4焼基、C1-C4团代焼基、 C1-C4焼氧基和C 1-C4团代焼氧基的基团取代； RC、R2。相互独立地选自氨、C i-Ce焼基、C 3-C7环焼基、C 3-C7环焼基-C 焼基，其中两 个前述基团中的C3-C7环焼基未被取代本文档来自技高网...

【技术保护点】
式I的N‑(四唑‑5‑基)‑和N‑(三唑‑5‑基)芳基羧酰胺、其N‑氧化物或可农用盐：其中B为N或CH；R选自氢、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、Rb‑S(O)n‑C1‑C3烷基、Rc‑C(＝O)‑C1‑C3烷基、RdO‑C(＝O)‑C1‑C3烷基、ReRfN‑C(＝O)‑C1‑C3烷基、RgRhN‑C1‑C3烷基、苯基‑Z和杂环基‑Z，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R'取代；R1选自氰基‑Z1、卤素、硝基、C1‑C8烷基、C2‑C8链烯基、C2‑C8炔基、C1‑C8卤代烷基、C1‑C8烷氧基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z1、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷硫基‑Z1、C2‑C6链烯氧基、C2‑C6炔氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z1、R1b‑S(O)k‑Z1、苯氧基‑Z1和杂环氧基‑Z1，其中杂环氧基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的氧键合的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯氧基和杂环氧基中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R11取代；R2、R3相同或不同且独立地选自氢、卤素、OH‑Z2、NO2‑Z2、氰基‑Z2、C1‑C6烷基、C2‑C8链烯基、C2‑C8炔基、C3‑C10环烷基‑Z2、C3‑C10环烷氧基‑Z2，其中两个前述基团中的C3‑C10环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C8卤代烷基、C1‑C8烷氧基‑Z2、C1‑C8卤代烷氧基‑Z2、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z2、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷硫基‑Z2、C2‑C8链烯氧基‑Z2、C2‑C8炔氧基‑Z2、C2‑C8卤代链烯氧基‑Z2、C2‑C8卤代炔氧基‑Z2、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z2、(三‑C1‑C4烷基)甲硅烷基‑Z2、R2b‑S(O)k‑Z2、R2c‑C(＝O)‑Z2、R2dO‑C(＝O)‑Z2、R2eR2fN‑C(＝O)‑Z2、R2gR2hN‑Z2、苯基‑Z2a和杂环基‑Z2a，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基‑Z2a和杂环基‑Z2a中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R21取代；R4选自氢、卤素、氰基、硝基、C1‑C4烷基和C1‑C4卤代烷基；R5选自氢、卤素、C1‑C4烷基和C1‑C4卤代烷基；条件是基团R4和R5中至少一个不为氢；n为0、1或2；k为0、1或2；R'、R11、R21相互独立地选自卤素、NO2、CN、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7卤代环烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C6烷氧基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基、C3‑C7环烷氧基和C1‑C6卤代烷氧基，或者两个连位基团R'、R11或R21一起可以形成基团＝O；Z、Z1、Z2相互独立地选自共价键和C1‑C4链烷二基；Z2a选自共价键、C1‑C4链烷二基、O‑C1‑C4链烷二基、C1‑C4链烷二基‑O和C1‑C4链烷二基‑O‑C1‑C4链烷二基；Rb、R1b、R2b相互独立地选自C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、苯基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团取代；Rc、R2c相互独立地选自氢、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·克罗斯，M·维切尔，T·塞茨，T·W·牛顿，L·帕拉拉帕多，K·克罗伊茨，J·赫茨勒，M·帕斯特纳克，J·莱尔希尔，R·R·埃万斯，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE