一种半导体激光器制造技术

一种半导体激光器，包括：发光装置和聚焦装置，在所述发光装置和所述聚焦装置之间，设置有均光装置；所述均光装置用于将所述发光装置发出的光束调整后，输出至所述聚焦装置；所述均光装置包括：光栅镜、至少一个平面镜和准直透镜；所述光栅镜、所述平面镜和所述准直透镜依次放置。本实用新型专利技术通过加入均光装置，可以对合束后的激光束进行均光处理，将合束后的激光束的质量提高。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
一种半导体激光器
本技术属于半导体激光器技术，尤其涉及一种半导体激光器。
技术介绍
近年来，随着半导体激光器的性能和可靠性的提高，半导体激光器的应用已经渗透到各个学科领域，形成了一个庞大的应用网络覆盖。 为了得到输出高功率激光束光源，常常采用偏振合束技术将多束激光束进行合束，得到该高功率激光束光源，目前，激光合束技术一般采用晶体偏振棱镜，该镜片损伤阈值低，不适合在高功率密度情况下应用，并且在偏振合束后的高功率激光束在输出功率上满足了加工要求，但是由于半导体激光器自身结构问题，导致其光束质量较差。
技术实现思路
有鉴于此，本技术在于提供一种半导体激光器，以解决上述现有技术中在对合束后的激光束质量差的问题。 为解决上述问题，本技术提供了一种半导体激光器，包括:发光装置和聚焦装置，在所述发光装置和所述聚焦装置之间，设置有均光装置；所述均光装置用于将所述发光装置发出的光束调整后，输出至所述聚焦装置；所述均光装置包括:光栅镜、至少一个平面镜和准直透镜；所述光栅镜、所述平面镜和所述准直透镜依次放置。 优选地，所述聚焦装置包括:两个透镜。 优选地，所述发光装置包括:一个发射出横向激光束的第一半导体激光叠阵组；以及，至少一个发射出竖向激光束的第二半导体激光叠阵组；在所述第一半导体激光叠阵组和至少一个所述第二半导体激光叠阵组的光束相交的位置，分别设置有第一偏振合束器，将所述第一半导体激光叠阵组和所述第二半导体激光叠阵组的光束合束；所述均光装置设置在所述合束后的激光束上。 优选地，所述发射出横向激光束的半导体激光叠阵组包括:一个发射出横向激光束的第一半导体激光叠阵；至少一个发射出竖向激光束的第二半导体激光叠阵；在所述第一半导体激光叠阵和至少一个所述第二半导体激光叠阵的光束相交的位置，分别设置有第二偏振合束器，将所述第一半导体激光叠阵和所述第二半导体激光叠阵的光束合束。 优选地,所述发射出竖向激光束的半导体叠阵组包括:一个发射出横向激光束的第三半导体激光叠阵；至少一个发射出竖向激光束的第四半导体激光叠阵；在所述第三半导体激光叠阵和至少一个所述第四半导体激光叠阵的光束相交的位置，分别设置有第三偏振合束器，将所述第三半导体激光叠阵和所述第四半导体激光叠阵的光束合束。 优选地，所述第一偏振合束器、所述第二偏振合束器和所述第三偏振合束器均为薄膜干涉型偏振分束镜。 优选地，所述第一半导体激光叠阵、所述第二半导体激光叠阵、所述第三半导体激光叠阵和所述第四半导体激光叠阵的结构相同，均是由多层叠放在一起的半导体激光巴条组成。 优选地，在所述第一半导体激光叠阵、所述第二半导体激光叠阵、所述第三半导体激光叠阵和所述第四半导体激光叠阵的激光束发射端口处分别设置有保护窗口镜。 优选地，在所述第一半导体激光叠阵处的保护窗口静和/或所述第四半导体激光叠阵处的保护窗口镜后设置有半波片。 本技术中的半导体激光器，具有以下优点: 1、加入均光装置可以对合束后的激光束进行均光处理，提高合束后的激光束的质量。 说明书附图 图1半导体激光器的结构示意图； 图2半导体激光叠阵组结构示意图。 【具体实施方式】 以下描述和附图充分地示出本技术的具体实施方案，以使本领域的技术人员能够实践它们。其他实施方案可以包括逻辑的、逻辑顺序的以及其它的改变。实施例仅代表可能的变化。除非明确要求，否则单独的步骤和功能是可选的，并且操作的顺序可以变化。一些实施方案的部分和特征可以被包括在或替换其他实施方案的部分和特征。本技术的实施方案的范围包括权利要求书的整个范围，以及权利要求书的所有可获得的等同物，并且如果事实上公开了超过一个的技术，不是要自动地限制该应用的范围为任何单个技术或技术构思。 现在参照图1，图1示出了一些说明性实施例中的半导体激光器的结构示意图。 如图1所示，公开了一种半导体激光器，包括:发光装置I和聚焦装置2，在所述发光装置I和所述聚焦装置2之间，设置有均光装置3 ;所述均光装置3用于将所述发光装置I发出的光束调整后，输出至所述聚焦装置2 ;所述均光装置3包括:光栅镜301、至少一个平面镜302和准直透镜303 ;所述光栅镜301、所述平面镜302和所述准直透镜303依次放置。 其中，均光装置3采用一个光栅镜301、四个平面镜302和一个准直透镜303 ;所述光栅镜、所述四个平面镜和所述准直透镜依次放置，达到光栅镜-平面镜-平面镜-平面镜-平面镜-准直透镜的排列组合。 通过加入均光装置可以对合束后的激光束进行均光处理，提高合束后的激光束的质量。 进一步的，所述聚焦装置包括:两个透镜。 优选地，经过对所述两个透镜的焦长和相处位置的特殊设计，聚焦后的激光束具有所需要的光斑大小为12X2mm2和工作距离为300mm的特点。 进一步的，所述发光装置I包括:一个发射出横向激光束的第一半导体激光叠阵组101 ;以及，至少一个发射出竖向激光束的第二半导体激光叠阵组102 ;在所述第一半导体激光叠阵组101和至少一个所述第二半导体激光叠阵组102的光束相交的位置，分别设置有第一偏振合束器4，将所述第一半导体激光叠阵组101和所述第二半导体激光叠阵组102的光束合束；所述均光装置3设置在所述合束后的激光束上。 进一步的，所述发射出横向激光束的半导体激光叠阵组101包括:一个发射出横向激光束的第一半导体激光叠阵1la ;至少一个发射出竖向激光束的第二半导体激光叠阵1lb ;在所述第一半导体激光叠阵和至少一个所述第二半导体激光叠阵的光束相交的位置，分别设置有第二偏振合束器5，将所述第一半导体激光叠阵1la和所述第二半导体激光叠阵1lb的光束合束。 进一步的，所述发射出竖向激光束的半导体叠阵组102包括:一个发射出横向激光束的第三半导体激光叠阵102a ;至少一个发射出竖向激光束的第四半导体激光叠阵102b ;在所述第三半导体激光叠阵102a和至少一个所述第四半导体激光叠阵102b的光束相交的位置，分别设置有第三偏振合束器5，将所述第三半导体激光叠阵102a和所述第四半导体激光叠阵102b的光束合束。 进一步的，所述第一偏振合束器4、所述第二偏振合束器5和所述第三偏振合束器6均为薄膜干涉型偏振分束镜。 进一步的，所述第一半导体激光叠阵101a、所述第二半导体激光叠阵101b、所述第三半导体激光叠阵102a和所述第四半导体激光叠阵102b的结构相同，均是由多层叠放在一起的半导体激光板、一个均光器，以及一个聚焦透镜组成。 其中，每层半导体激光板是由半导体激光巴条、快轴准直镜和慢轴准直镜组成； 优选地，所述半导体激光巴条为微通道热沉结构，还带有上下通透的冷却液进水口和冷却液排水口，在所述半导体激光巴条远离冷却液进水口的一端存在激光芯片；所述快轴准直镜设置在半导体激光巴条存在所述激光芯片的一端；所述慢轴准直镜设置在所述快轴准直镜后；所述均光器设置在所述叠放后的半导体激光板的慢轴准直镜后；所述聚焦透镜设置在所述均光器后； 优选地，所述激光芯片由十几个或几十个单管激光器芯片集成封装组成； 优选地，所述快轴准直镜为非球面柱面镜，所述慢轴准直镜为球面柱面镜； 优选本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体激光器，包括：发光装置和聚焦装置，其特征在于，在所述发光装置和所述聚焦装置之间，设置有均光装置；所述均光装置用于将所述发光装置发出的光束调整后，输出至所述聚焦装置；所述均光装置包括：光栅镜、至少一个平面镜和准直透镜；所述光栅镜、所述平面镜和所述准直透镜依次放置。

【技术特征摘要】
1.一种半导体激光器，包括:发光装置和聚焦装置，其特征在于，在所述发光装置和所述聚焦装置之间，设置有均光装置；所述均光装置用于将所述发光装置发出的光束调整后，输出至所述聚焦装置； 所述均光装置包括:光栅镜、至少一个平面镜和准直透镜； 所述光栅镜、所述平面镜和所述准直透镜依次放置。2.根据权利要求1所述半导体激光器，其特征在于，所述聚焦装置包括:两个透镜。3.根据权利要求2所述半导体激光器，其特征在于，所述发光装置包括: 一个发射出横向激光束的第一半导体激光叠阵组；以及， 至少一个发射出竖向激光束的第二半导体激光叠阵组； 在所述第一半导体激光叠阵组和至少一个所述第二半导体激光叠阵组的光束相交的位置，分别设置有第一偏振合束器，将所述第一半导体激光叠阵组和所述第二半导体激光叠阵组的光束合束； 所述均光装置设置在所述合束后的激光束上。4.根据权利要求3所述半导体激光器，其特征在于，所述发射出横向激光束的半导体激光叠阵组包括: 一个发射出横向激光束的第一半导体激光叠阵； 至少一个发射出竖向激光束的第二半导体激光叠阵； 在所述第一半导体激光叠阵和至少一个所述第二半导体激光叠阵的光束相交的位置，分别设置有第二偏振合束器，将所述第一半导体激光叠阵...

【专利技术属性】
技术研发人员：张文，周峰，王维，杨庆东，侯宇红，董春春，杨帆，宋其伟，
申请(专利权)人：山东能源机械集团大族再制造有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37