【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜
,具体是指一种半透光镀膜机用电极结构。
技术介绍
在过去的几十年中,光学薄膜镀制设备出现了令人瞩目的变化。现有真空镀膜技术一般在10-2Pa~10-3Pa的真空中加热金属、金属化合物或其他镀膜材料,使其在极短的时间内蒸发,从而把纯净的原子沉积到基板表面上形成镀膜层,属于物理气相沉积(PVD)。由于镀膜过程中几乎无杂质进入,可以使镀层质量十分优异。真空镀膜室的真空度、镀膜材料的蒸发速率、基本和蒸发源的间距,以及基板表面状态和温度等都是影响镀膜层质量的因素。半透光镀膜是利用强大电压将镀膜源钨丝加热,把挂在钨丝上的镀材熔解,再升高钨丝电压使用镀材蒸发、并以离子的形态飞散到各方面并附着于被镀件上,经冷却后最终形成半透光的膜层。然而,现有的蒸发钨丝对镀材的蒸发率较低,金属镀材蒸发过程中金属离子分布不均匀,导致产品上的镀膜层膜厚不均匀影响透光率,电极蒸发电压不稳定,最终导致了电镀炉中的金属离子呈不均匀状态分布。另外,如何降低镀膜成本、提高镀材的蒸发率、提高涂层的稳定性和均匀性能也是目前正在研究的方向。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术中的不足之处,提供一种提高镀材的蒸发率的半透光镀膜机用电极结构。本技术的目的是通过以下技术方案来实现的:一种半透光镀膜机用电极结构,包括设置在电镀炉内的形成正负电极用的两个电极板,所述两个电极板之间通过钨丝连接,其特征在于:所述钨 ...
【技术保护点】
一种半透光镀膜机用电极结构,包括设置在电镀炉内的形成正负电极用的两个电极板,所述两个电极板之间通过钨丝连接,其特征在于:所述钨丝上设有折弯部,且所述折弯部设有截面积从前端至后端依次增大的蒸发主体部。
【技术特征摘要】
1.一种半透光镀膜机用电极结构,包括设置在电镀炉内的形成正负电极用
的两个电极板,所述两个电极板之间通过钨丝连接,其特征在于:所述钨丝上
设有折弯部,且所述折弯部设有截面积从前端至后端依次增大的蒸发主体部。
2.根据权利要求1所述的半透光镀膜机用电极结构,其特征在于:所述两
个电极板为一组电极,所述电镀炉内设有从炉内下端到炉内上端依次平行排列
的多组电极。
3....
【专利技术属性】
技术研发人员:马晓明,
申请(专利权)人:惠州建邦精密塑胶有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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